一种光罩清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种光罩清洗装置，对光罩进行清洗，光罩清洗装置包括清洗治具，以及整体驱动清洗治具作水平转动的驱动机构，清洗治具径向向外延伸形成若干承载悬臂，承载悬臂之间形成供水流射向被清洗治具承托的光罩背面的背洗区域，承载悬臂的末端竖向配置用以卡持光罩的若干限位件，清洗溶液可通过背洗区域射向被清洗治具承托的光罩的背面，继而实现对光罩背面的清洁，满足了光罩高清洁度的工业需求，并实现了对不同尺寸的光罩承托与清洗作业需求。需求。需求。

【技术实现步骤摘要】
一种光罩清洗装置


[0001]本技术涉及半导体
，更具体涉及一种光罩清洗装置。

技术介绍

[0002]光罩，又称光掩膜版，是半导体晶圆制程中不可或缺的重要设备，光罩制程和使用过程中都要求光罩的高洁净度，因此对光罩的清洗工艺提出更高要求。
[0003]传统技术中光罩清洗工艺中，光罩清洗装置中设置旋转盘，旋转盘上开设用于容置待清洗光罩的容纳槽，容纳槽内侧壁上设置定位结构，以固定光罩从正面对光罩进行清洗，并且在对光罩的清洗过程中，清洗溶液会流到光罩背面，导致光罩被污染。诸如公告号为CN209486465U等现有技术所揭示的光罩清洗装置，在对光罩的清洗过程中，难以清洗光罩背面残留的溶液，且光罩清洗装置侧壁上用来固定光罩的边角也会滞留溶液，因此难以满足光罩高洁净度的工业需求，导致光罩不得不返工，降低了光罩的清洗效率。
[0004]有鉴于此，有必要对现有技术中的光罩清洗装置予以改进，以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于公开一种光罩清洗装置，用以解决现有技术中的光罩清洗过程中，液体混合物污染光罩背面使得光罩不得不得返工清洗，导致光罩清洗效率降低的问题，从而满足光罩高洁净度的工业需求。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了一种光罩清洗装置，对光罩进行清洗，
[0007]所述光罩清洗装置包括：
[0008]清洗治具，以及整体驱动所述清洗治具作水平转动的驱动机构；
[0009]所述清洗治具径向向外延伸形成若干承载悬臂，所述承载悬臂之间形成供水流射向被所述清洗治具承托的光罩背面的背洗区域，承载悬臂的末端竖向配置用以卡持光罩的若干限位件。
[0010]作为本技术的进一步改进，所述承载悬臂沿其纵长延伸方向开设引导限位件作线性移动的第一滑动槽；
[0011]所述限位件包括：沿所述第一滑动槽滑动的第一限位杆，及于设置于承载悬臂表面用以卡持第一限位杆的第一固定件，所述第一限位杆通过所述第一滑动槽与所述承载悬臂活动连接。
[0012]作为本技术的进一步改进，所述承载悬臂沿其纵长延伸方向开设若干第一盲孔；
[0013]所述限位件包括：容置于所述第一盲孔的第二限位杆，及设置于承载悬臂表面用以固定第二限位杆的第二固定件。
[0014]作为本技术的进一步改进，所述承载悬臂的末端配置两个限位件。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述承载悬臂形成抵持光罩背面的抵持件。
[0016]作为本技术的进一步改进，所述承载悬臂沿其纵长延伸方向开设引导抵持件
作线性移动的第二滑动槽；
[0017]所述抵持件包括：沿所述第二滑动槽滑动的第一抵持杆，及于设置承载悬臂表面用以卡持第一抵持杆的第三固定件，所述第一抵持杆通过所述第二滑动槽与所述承载悬臂活动连接。
[0018]作为本技术的进一步改进，所述抵持件沿所述承载悬臂纵长延伸方向形成凸起的抵持肋板。
[0019]作为本技术的进一步改进，所述承载悬臂沿其纵长延伸方向形成第二盲孔；
[0020]所述抵持件包括：容置于所述第二盲孔的第二抵持杆，及设置于承载悬臂表面用以固定第二抵持杆的第四固定件。
[0021]作为本技术的进一步改进，所述驱动机构包括：竖向固定于清洗治具对称中心的具中空腔体的驱动轴，以及驱动所述驱动轴围绕所述对称中心水平转动的动力组件，驱动轴的底部开设用于连接动力组件的卡槽。
[0022]作为本技术的进一步改进，所述清洗治具径向向外延伸形成四个承载悬臂，所述四个承载悬臂位于同一平面呈十字交叉设置。
[0023]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0024]在本技术中，清洗治具径向向外延伸形成承载悬臂，承载悬臂之间形成背洗区域，光罩放置于承载悬臂的抵持件上，并通过设置在承载悬臂末端的限位件固定于清洗治具，清洗溶液可通过背洗区域射向被清洗治具承托的光罩的背面，继而实现对光罩背面的清洁，满足了光罩高清洁度的工业需求，并实现了对不同尺寸的光罩承托与清洗作业需求。
附图说明
[0025]图1为本技术一种光罩清洗装置的整体示意图；
[0026]图2为光罩清洗装置的俯视图，且图2中省略示出第一固定件；
[0027]图3为沿图1中A
‑
A向的剖视图。
具体实施方式
[0028]下面结合附图所示的各实施方式对本技术进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本技术的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本技术的保护范围之内。
[0029]需要理解的是，在本申请中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术方案和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术方案的限制。术语“径向”是指如图2中双向箭头B1、B2、B3、B4所示的方向。
[0030]请参图1至图3所示，本实施例揭示了本技术光罩清洗装置的一种具体实施方式。
[0031]在本实施方式中所揭示的光罩清洗装置实现光罩的背洗，相对于其他的光罩清洗
装置而言，该光罩清洗装置执行光罩3清洗工作前，将光罩3置于抵持件13上减少与承载悬臂15的接触面积，并通过调节限位件11卡持光罩3，背洗过程中，清洗溶液通过背洗区域10射向光罩背面31执行背洗工作，实现对光罩背面31的清洁，从而避免了光罩背面31被污染，提高光照清洗的工作效率，从而满足了光罩高清洁度的工业需求。本申请所揭示的光罩清洗装置及基于光罩清洗装置所揭示的光罩背洗工艺的具体实现方式在下文中予以详细阐释。
[0032]结合图1与图2所示，在本实施例中，该光罩清洗装置包括清洗治具1，以及整体驱动清洗治具1作水平转动的驱动机构2，清洗治具1径向向外延伸形成若干承载悬臂15，承载悬臂15之间形成供水流射向被清洗治具1承托的光罩背面31的背洗区域10，承载悬臂15的末端竖向配置用以卡持光罩3的若干限位件11，承载悬臂15还形成抵持光罩背面31的抵持件13。在光罩清洗装置执行光罩3清洗时，将光罩3的四个直角置于高度相同的四个抵持件13的上表面，四个抵持件13的上表面均呈水平且四个抵持件13的末端定义的平面与光罩3齐平，以保证抵持光罩3时能够使光罩3处于水平状态，避免因光罩3倾斜所导致的光罩背洗不均匀的问题，从而满足了光罩高清洁度的工业需求。
[0033]结合图2和图3所示，在本实施例中，承载悬臂15沿其纵长延伸方向开设引导抵持件13作线性移动的第二滑动槽14，抵持件13包括沿第二滑动槽15滑动的第一抵持杆131，及于设置承载悬臂15表面用以卡本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩清洗装置，对光罩进行清洗，其特征在于，所述光罩清洗装置包括：清洗治具，以及整体驱动所述清洗治具作水平转动的驱动机构；所述清洗治具径向向外延伸形成若干承载悬臂，所述承载悬臂之间形成供水流射向被所述清洗治具承托的光罩背面的背洗区域，承载悬臂的末端竖向配置用以卡持光罩的若干限位件。2.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于，所述承载悬臂沿其纵长延伸方向开设引导限位件作线性移动的第一滑动槽；所述限位件包括：沿所述第一滑动槽滑动的第一限位杆，及于设置于承载悬臂表面用以卡持第一限位杆的第一固定件，所述第一限位杆通过所述第一滑动槽与所述承载悬臂活动连接。3.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于，所述承载悬臂沿其纵长延伸方向开设若干第一盲孔；所述限位件包括：容置于所述第一盲孔的第二限位杆，及设置于承载悬臂表面用以固定第二限位杆的第二固定件。4.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于，所述承载悬臂的末端配置两个限位件。5.根据权利要求4所述的光罩清洗装置，其特征在于，所述承载悬臂形成抵持光罩背面的抵持件。...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛飞，
申请(专利权)人：苏州芯图半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：