带相位差层的偏振片的制造方法技术

本发明专利技术成品率良好地制造带相位差层的偏振片。本发明专利技术的实施方式的带相位差层的偏振片的制造方法依次包含：准备依次包含剥离膜、粘合剂层、第一相位差层及与上述第一相位差层相邻地配置的基材的层叠物；将上述剥离膜从上述粘合剂层剥离；以及在偏振片上贴合上述层叠物。物。物。

【技术实现步骤摘要】
带相位差层的偏振片的制造方法


[0001]本专利技术涉及带相位差层的偏振片的制造方法。

技术介绍

[0002]以液晶显示装置及电致发光(EL)显示装置(例如有机EL显示装置、无机EL显示装置)为代表的图像显示装置正在急速地普及。在图像显示装置中搭载的图像显示面板中，代表性而言，使用了偏振片及相位差板。在实用上，广泛使用了将偏振片与相位差板一体化而得到的带相位差层的偏振片(例如专利文献1)。其中，期望良好地进行偏振片与相位差层的层叠来提高带相位差层的偏振片的制造效率。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本专利第3325560号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]鉴于上述情况，本专利技术的主要目的在于成品率良好地制造带相位差层的偏振片。
[0008]用于解决课题的手段
[0009]根据本专利技术的实施方式，提供一种带相位差层的偏振片的制造方法。该制造方法依次包含：准备依次包含剥离膜、粘合剂层、第一相位差层及与上述第一相位差层相邻地配置的基材的层叠物；将上述剥离膜从上述粘合剂层剥离；以及在偏振片上贴合上述层叠物。
[0010]在一个实施方式中，将上述剥离膜相对于上述粘合剂层的表面沿120
°
～180
°
的方向进行剥离。
[0011]在一个实施方式中，上述制造方法包含在上述偏振片上贴合上述层叠物之后将上述基材从上述第一相位差层剥离。
>[0012]在一个实施方式中，上述剥离膜相对于上述粘合剂层的剥离力小于上述第一相位差层相对于上述基材的剥离力。
[0013]在一个实施方式中，F1相对于F2之比(F1/F2)在剥离速度为1000mm/秒及剥离角度为180
°
时低于1，在剥离速度为1000mm/秒及剥离角度为90
°
时为1以上，F1为上述剥离膜相对于上述粘合剂层的剥离力，F2为上述第一相位差层相对于上述基材的剥离力。
[0014]在一个实施方式中，上述制造方法包含在上述偏振片上贴合上述层叠物之前将上述层叠物的端部切断，通过上述切断，将上述粘合剂层的端面与上述第一相位差层的端面设定在同一平面。也可以在上述切断后将上述剥离膜从上述粘合剂层剥离。
[0015]在一个实施方式中，在上述偏振片的端部处形成识别代码。
[0016]在一个实施方式中，上述第一相位差层为液晶化合物的取向固化层。
[0017]在一个实施方式中，上述第一相位差层的厚度为5μm以下。
[0018]在一个实施方式中，上述粘合剂层的厚度为10μm以下。
[0019]在一个实施方式中，上述粘合剂层的厚度为6μm以上。
[0020]在一个实施方式中，上述制造方法包含在上述偏振片上贴合上述层叠物之后进一步层叠第二相位差层。
[0021]专利技术效果
[0022]根据本专利技术的实施方式，能够成品率良好地制造带相位差层的偏振片。
附图说明
[0023]图1A是表示本专利技术的一个实施方式的带相位差层的偏振片的制造工序1的图。
[0024]图1B是表示接着上述工序1的工序2的图。
[0025]图1C是表示接着上述工序2的工序3的图。
[0026]图1D是表示接着上述工序3的工序4的图。
[0027]图1E是表示接着上述工序4的工序5的图。
[0028]图2是表示将剥离膜从层叠物剥离的状态的一个例子的图。
[0029]图3是表示层叠物(工序1)的变形例的图。
[0030]符号的说明
[0031]11基材
[0032]12基材
[0033]20相位差层
[0034]21第一相位差层
[0035]22第二相位差层
[0036]30粘合剂层
[0037]40剥离膜
[0038]50保护材
[0039]60表面保护膜
[0040]69起偏器
[0041]70偏振片
[0042]71第一保护层
[0043]72第二保护层
[0044]80粘合剂层
[0045]90剥离膜
[0046]100层叠物
[0047]110带相位差层的偏振片
具体实施方式
[0048]以下，对于本专利技术的实施方式参照附图进行说明，但本专利技术并不限定于这些实施方式。此外，附图为了使说明更加明确，与实施方式相比，对于各部的宽度、厚度、形状等有时示意性表示，但到底是一个例子，并不限定本专利技术的解释。
[0049](术语及符号的定义)
[0050]本说明书中的术语及符号的定义如下所述。
[0051](1)折射率(nx、ny、nz)
[0052]“nx”是面内的折射率成为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，“nz”是厚度方向的折射率。
[0053](2)面内相位差(Re)
[0054]“Re(λ)”是23℃下的由波长λnm的光测定得到的面内相位差。例如，“Re(550)”是23℃下的由波长550nm的光测定得到的面内相位差。在将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，Re(λ)通过式：Re(λ)＝(nx
‑
ny)
×
d而求出。
[0055](3)厚度方向的相位差(Rth)
[0056]“Rth(λ)”是23℃下的由波长λnm的光测定得到的厚度方向的相位差。例如，“Rth(550)”是23℃下的由波长550nm的光测定得到的厚度方向的相位差。在将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，Rth(λ)通过式：Rth(λ)＝(nx
‑
nz)
×
d而求出。
[0057](4)Nz系数
[0058]Nz系数通过Nz＝Rth/Re而求出。
[0059](5)角度
[0060]本说明书中在言及角度时，该角度包含相对于基准方向为顺时针及逆时针这两者。因此，例如“45
°”
是指
±
45
°
。
[0061]本专利技术的一个实施方式的带相位差层的偏振片的制造方法依次包含：准备依次包含剥离膜、粘合剂层、第一相位差层及与第一相位差层相邻地配置的基材的层叠物；将剥离膜从粘合剂层剥离；以及在偏振片上贴合层叠物。
[0062]图1A～图1E是表示本专利技术的一个实施方式的带相位差层的偏振片的制造方法的工序的图。在图1A中所示的工序1中，在形成于基材11上的第一相位差层21的上方形成粘合剂层30，在粘合剂层30上配置剥离膜40而得到层叠物100。在形成粘合剂层30之前，第一相位差层21的上表面也可以被表面保护膜保护(未图示)。剥离膜40相对于粘合剂层30可剥离地贴合，可保护粘合剂层30。层叠物100为长条状，例如可卷绕成卷状。这里，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带相位差层的偏振片的制造方法，其依次包含：准备依次包含剥离膜、粘合剂层、第一相位差层及与所述第一相位差层相邻地配置的基材的层叠物；将所述剥离膜从所述粘合剂层剥离；以及在偏振片上贴合所述层叠物。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，将所述剥离膜相对于所述粘合剂层的表面沿120
°
～180
°
的方向进行剥离。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，包含在所述偏振片上贴合所述层叠物之后将所述基材从所述第一相位差层剥离。4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述剥离膜相对于所述粘合剂层的剥离力小于所述第一相位差层相对于所述基材的剥离力。5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其中，F1相对于F2之比(F1/F2)在剥离速度为1000mm/秒及剥离角度为180
°
时低于1，在剥离速度为1000mm/秒及剥离角度为90
°
时为1以上，F1为所述剥离膜相对于所述粘合剂层...

【专利技术属性】
技术研发人员：山冈洋平，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：