掩膜版清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种掩膜版清洗设备，包括清洗平台、挡流组件、喷淋组件和传送组件，挡流组件包括可转动的挡流板，挡流组件设置有两组，两组挡流组件的挡流板均能够转动至挡流状态，当挡流板位于挡流状态时，两个挡流板将第一侧壁和第二侧壁之间的区域分隔为前溢流槽、清洗槽和后溢流槽，前溢流槽、清洗槽和后溢流槽沿清洗平台的长度方向依次设置，喷淋组件设置在清洗平台的上方，喷淋组件能够朝向清洗槽喷淋，传送组件设置在清洗平台上，用于传送掩膜版。本实用新型专利技术的掩膜版清洗设备通过传送组件将掩膜版传送至清洗平台的清洗槽区域内，挡流板转动，喷淋组件朝向清洗槽喷淋药液，清洗槽内液面不断升高，即可对掩膜版进行浸泡和清洗。洗。洗。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版清洗设备


[0001]本技术涉及清洗
，尤其涉及一种掩膜版清洗设备。

技术介绍

[0002]在显示面板的制造过程中，需要使用掩膜版配合蒸镀工艺，将目标材料沉积在玻璃上以形成电路。在蒸镀过程中，不仅玻璃上沉积有目标材料，在掩膜版上也同样会沉积目标材料，在掩膜版重复利用之前，需要对掩膜版进行清洗，去除沉积物质。现有技术存在以下缺陷：现有的掩膜版清洗设备是利用清洗平台上的传送机构对掩膜版进行传送，在掩膜版移动过程中对其进行冲洗，直至掩膜版移动至清洗平台的下游端口，掩膜版清洗完毕，这种清洗方式存在清洗不彻底，清洗耗水量高，清洗废水多等问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于：提供一种掩膜版清洗设备，在保证掩膜版清洗效果的同时，降低耗水量，降低废水处理成本。
[0004]为达上述目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]一种掩膜版清洗设备，包括：
[0006]清洗平台，所述清洗平台包括沿自身宽度方向相对设置的第一侧壁和第二侧壁；
[0007]挡流组件，所述挡流组件包括可转动的挡流板，所述挡流组件设置有两组，两组所述挡流组件的所述挡流板均能够转动至挡流状态，当所述挡流板位于所述挡流状态时，两个所述挡流板将所述第一侧壁和所述第二侧壁之间的区域分隔为前溢流槽、清洗槽和后溢流槽，所述前溢流槽、所述清洗槽和所述后溢流槽沿所述清洗平台的长度方向依次设置；
[0008]喷淋组件，所述喷淋组件设置在所述清洗平台的上方，所述喷淋组件能够朝向所述清洗槽喷淋；
[0009]传送组件，所述传送组件设置在所述清洗平台上，用于传送掩膜版。
[0010]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述掩膜版清洗设备还包括曝气管，所述曝气管设置在所述清洗槽内。
[0011]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述传送组件设置有两组，两组所述传送组件沿与传送方向相垂直的方向间隔设置，每组所述传送组件包括多个沿所述传送方向依次间隔设置的传送滚轮。
[0012]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述挡流组件还包括传动轴和驱动件，所述传动轴的一端与所述驱动件连接，另一端与所述挡流板连接，所述驱动件通过所述传动轴带动所述挡流板转动至所述挡流状态。
[0013]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述传动轴包括第一连接部和第二连接部，所述第一连接部连接于所述挡流板的底部，所述第二连接部连接于所述驱动件。
[0014]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述第一连接部的横截面为方形，所述第二连接部的横截面为圆形，所述第一连接部与所述第二连接部的连接处设置有倒角。
[0015]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述第二连接部上设置有前传动定位槽和后传动定位槽，所述前传动定位槽和所述后传动定位槽的槽深方向均与传送方向相同，且所述前传动定位槽和所述后传动定位槽的朝向相反，所述驱动件的输出端设置有传动凸起，所述传动凸起择一连接于所述前传动定位槽和所述后传动定位槽。
[0016]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述挡流组件还包括轴承座，所述轴承座连接于所述清洗平台，所述第二连接部部分穿设在所述轴承座的通孔内。
[0017]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述挡流板具有相对设置的第一端面和第二端面，所述挡流板处于所述挡流状态时，所述第一端面位于所述第二端面的上方，所述第一端面上设置有多个通槽，所述通槽沿所述清洗平台的长度方向贯通设置在所述第一端面上。
[0018]作为掩膜版清洗设备的一种优选方案，所述清洗平台包括底板，所述第一侧壁和所述第二侧壁围设在所述底板的两侧，所述挡流板能够转动至非挡流状态，所述挡流板的板面上设置有限位凸起，所述限位凸起用于在所述挡流板处于所述非挡流状态时，接触或抵接所述底板。
[0019]本技术的有益效果为：掩膜版清洗设备通过设置传送组件，可将掩膜版传送至清洗平台的清洗槽区域内，然后挡流组件通过转动挡流板，两个挡流板将第一侧壁和第二侧壁之间的区域分隔为前溢流槽、清洗槽和后溢流槽，喷淋组件朝向清洗槽喷淋药液，清洗槽内的药液的液面不断升高，即可对掩膜版进行浸泡和清洗，多余的药液溢流至前溢流槽或后溢流槽。该掩膜版清洗设备相较于现有设备增加了掩膜版浸泡功能，能够在保证掩膜版清洗效果的同时，降低耗水量，降低废水处理成本。
附图说明
[0020]下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。
[0021]图1为本技术实施例的掩膜版清洗设备的俯视图。
[0022]图2为本技术实施例的挡流组件和喷淋组件的正视图。
[0023]图3为本技术实施例的传动轴的结构示意图。
[0024]图中：
[0025]1、清洗平台；101、前溢流槽；102、清洗槽；103、后溢流槽；11、第一侧壁；12、第二侧壁；13、底板；
[0026]2、挡流组件；21、挡流板；211、第一端面；2111、通槽；212、第二端面；213、限位凸起；22、传动轴；221、第一连接部；2211、装配孔；222、第二连接部；2221、前传动定位槽；2222、后传动定位槽；23、驱动件；24、轴承座；
[0027]3、曝气管；
[0028]4、喷淋组件；
[0029]5、传送滚轮。
具体实施方式
[0030]参考下面结合附图详细描述的实施例，本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本技术不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的
形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本技术的公开并且使本领域技术人员充分地了解本技术的范围，并且本技术仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
[0031]以下，参照附图来详细描述本技术。
[0032]如图1所示，本技术实施例的掩膜版清洗设备，包括清洗平台1、挡流组件2、喷淋组件4和传送组件。
[0033]其中，清洗平台1包括沿自身宽度方向相对设置的第一侧壁11和第二侧壁12，以及第一侧壁11和第二侧壁12之间的底板13，沿长度方向相对设置的两端为开口，上游端与上游的工艺平台连接，下游端与下游的工艺平台连接。当上游的工艺平台和下游的工艺平台均设置有传送机构时，即可实现掩膜版的全流程自动化运输。
[0034]挡流组件2包括挡流板21，挡流组件2设置有两组，两组挡流组件2的挡流板21均能够转动至挡流状态，当挡流板21位于挡流状态时，两个挡流板21将第一侧壁11和第二侧壁12之间的区域分隔为前溢流槽101、清洗槽102和后溢流槽103，前溢流槽101、清洗槽102和后溢流槽103沿清洗平台1的长度方向依次设置。优选地，挡流板21的挡流状态为挡流板21的板面竖直设置的状态。
[0035]优选地，前溢流槽101和后溢流槽103的底面均开设有排液口，且排液口处位置最低，以使溢流的药液通过排液口顺利排出。
[本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版清洗设备，其特征在于，包括：清洗平台，所述清洗平台包括沿自身宽度方向相对设置的第一侧壁和第二侧壁；挡流组件，所述挡流组件包括可转动的挡流板，所述挡流组件设置有两组，两组所述挡流组件的所述挡流板均能够转动至挡流状态，当所述挡流板位于所述挡流状态时，两个所述挡流板将所述第一侧壁和所述第二侧壁之间的区域分隔为前溢流槽、清洗槽和后溢流槽，所述前溢流槽、所述清洗槽和所述后溢流槽沿所述清洗平台的长度方向依次设置；喷淋组件，所述喷淋组件设置在所述清洗平台的上方，所述喷淋组件能够朝向所述清洗槽喷淋；传送组件，所述传送组件设置在所述清洗平台上，用于传送掩膜版。2.根据权利要求1所述的掩膜版清洗设备，其特征在于，所述掩膜版清洗设备还包括曝气管，所述曝气管设置在所述清洗槽内。3.根据权利要求1所述的掩膜版清洗设备，其特征在于，所述传送组件设置有两组，两组所述传送组件沿与传送方向相垂直的方向间隔设置，每组所述传送组件包括多个沿所述传送方向依次间隔设置的传送滚轮。4.根据权利要求1所述的掩膜版清洗设备，其特征在于，所述挡流组件还包括传动轴和驱动件，所述传动轴的一端与所述驱动件连接，另一端与所述挡流板连接，所述驱动件通过所述传动轴带动所述挡流板转动至所述挡流状态。5.根据权利要求4所述的掩膜版清洗设备，其特征在于，所述传动轴包括第一连接部和第二连接部，所述第一连接部连接于所述挡流板的底部，所述第二连接部连接于所述驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋相文，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：