纳米材料制备用反应釜制造技术

本实用新型专利技术属于化工设备技术领域，具体涉及一种反应釜。一种纳米材料制备用反应釜，包括反应釜本体，在反应釜本体的顶面上挖设有若干通槽，通槽上可拆卸的密封盖设有槽盖；还包括若干清洗装置，每个清洗装置均包括清洗头部、清洗支撑杆和清洗喷嘴，清洗头部和通槽可拆卸密封连接，清洗头部中部具有贯穿通孔，清洗支撑杆固定在清洗头部，清洗支撑杆内部中空并与贯穿通孔联通，清洗喷嘴均匀分布于清洗支撑杆上且与清洗支撑杆中空的内部联通。本实用新型专利技术的反应釜本体在需要进行清洗时，通过可拆卸的清洗装置对其进行有效清洗，不仅可以清洗反应釜本体的侧壁，还可以有效清洗顶面和底面，清洗方式简单方便，清洗效果好。清洗效果好。清洗效果好。

【技术实现步骤摘要】
纳米材料制备用反应釜


[0001]本技术属于化工设备
，具体涉及一种反应釜。

技术介绍

[0002]水相高分子纳米颗粒乳液在制备过程中，需要各种原料在反应釜中进行反应。在制备完成后，反应釜残留的原料需要用水进行清理。但是现有的清洗装置往往无法对反应釜侧壁和底部进行有效清洗。

技术实现思路

[0003]本技术针对上述技术问题，目的在于提供一种纳米材料制备用反应釜。
[0004]一种纳米材料制备用反应釜，包括反应釜本体，在所述反应釜本体的顶面上挖设有若干通槽，所述通槽上可拆卸的密封盖设有槽盖；
[0005]还包括若干清洗装置，每个清洗装置均包括清洗头部、清洗支撑杆和清洗喷嘴，所述清洗头部和所述通槽可拆卸密封连接，所述清洗头部中部具有贯穿通孔，所述清洗支撑杆固定在所述清洗头部，所述清洗支撑杆内部中空并与所述贯穿通孔联通，所述清洗喷嘴均匀分布于所述清洗支撑杆上且与所述清洗支撑杆中空的内部联通，所述清洗喷嘴的喷射方向朝向所述反应釜本体内壁且朝向上方，与所述反应釜本体的轴向夹角小于90度。
[0006]本技术在不需要清洗装置时，通过槽盖密封盖合通槽，反应釜本体正常使用。在反应釜本体需要清洗时，打开槽盖，将清洗装置的清洗头部与通槽密封连接，清洗支撑杆伸入于反应釜本体内，通过贯穿通孔和清洗支撑杆内部的中空空间将外部高压液体送入清洗喷嘴，经清洗喷嘴将高压液体朝向反应釜本体内壁喷射，由于清洗喷嘴的喷射方向与反应釜本体的轴向夹角小于90度，因此其喷射是略微朝向上方的逆喷射方式，可更好的清洗反应釜本体内壁。在反应釜本体清洗完成后，将清洗头部从通槽上取下，密封盖合槽盖，反应釜本体可继续正常使用。
[0007]所述通槽沿所述反应釜本体的顶面外侧均匀设置，所述清洗装置与所述通槽的个数相同或少于所述通槽的个数。本技术可以根据反应釜本体的大小，设置多个通槽和清洗装置。由于清洗装置是可拆卸的，因此清洗装置的个数可以少于通槽的个数，待一侧的反应釜本体内壁清洗完成后，再清洗另一侧，或待一部分反应釜本体的内壁清洗完成后，清洗另一部分，可节约清洗成本。
[0008]沿所述清洗支撑杆的轴向均匀设置有若干个所述清洗喷嘴。
[0009]沿所述清洗支撑杆的周向均匀设置有若干排所述清洗喷嘴，相邻两排所述清洗喷嘴间隔设置。
[0010]在所述清洗支撑杆的顶部和底部为圆柱形的外扩部，所述外扩部的外径小于所述通槽的直径；
[0011]所述外扩部上设置有若干辅助喷嘴，所述辅助喷嘴与所述清洗支撑杆中空的内部联通，所述辅助喷嘴的喷射方向朝向所述反应釜本体的顶部和底部。以使得清洗装置也可
以清洗反应釜本体的顶部和底部。
[0012]所述外扩部上的所述辅助喷嘴以所述外扩部的中心为中心呈发散状设置。
[0013]所述辅助喷嘴的喷射方向与所述外扩部的径向夹角以所述外扩部的中心向外方向逐渐减小。
[0014]所述贯穿通孔上设置有连接管，所述连接管通过连接软管连接外部高压液体源。
[0015]所述连接软管优选为橡胶软管或不锈钢波纹软管。
[0016]所述反应釜本体优选采用陶瓷内胆，以实现较容易的清洗目的。
[0017]有益效果：本技术的反应釜本体在需要进行清洗时，通过可拆卸的清洗装置对其进行有效清洗，不仅可以清洗反应釜本体的侧壁，还可以有效清洗顶面和底面，清洗方式简单方便，清洗效果好。
附图说明
[0018]图1为本技术的一种结构示意图。
具体实施方式
[0019]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示进一步阐述本技术。
[0020]参照图1，一种纳米材料制备用反应釜，包括反应釜本体1，在反应釜本体1的顶面上挖设有若干通槽，通槽上可拆卸的密封盖设有槽盖。还包括若干清洗装置，每个清洗装置均包括清洗头部21、清洗支撑杆22和清洗喷嘴23，清洗头部21和通槽可拆卸密封连接，清洗头部21中部具有贯穿通孔，清洗支撑杆22固定在清洗头部21上，清洗支撑杆22内部中空并与贯穿通孔联通，清洗喷嘴23均匀分布于清洗支撑杆22上且与清洗支撑杆22中空的内部联通，清洗喷嘴23的喷射方向朝向反应釜本体1内壁且朝向上方，清洗喷嘴23的喷射方向与反应釜本体1的轴向夹角小于90度。
[0021]本技术在不需要清洗装置时，通过槽盖密封盖合通槽，反应釜本体1正常使用。在反应釜本体1需要清洗时，打开槽盖，将清洗装置的清洗头部21与通槽密封连接，清洗支撑杆22伸入于反应釜本体1内，通过贯穿通孔和清洗支撑杆22内部的中空空间将外部高压液体送入清洗喷嘴23，经清洗喷嘴23将高压液体朝向反应釜本体1内壁喷射，由于清洗喷嘴23的喷射方向与反应釜本体1的轴向夹角小于90度，因此其喷射是略微朝向上方的逆喷射方式，可更好的清洗反应釜本体1内壁。在反应釜本体1清洗完成后，将清洗头部21从通槽上取下，密封盖合槽盖，反应釜本体1可继续正常使用。
[0022]通槽沿反应釜本体1的顶面外侧均匀设置，清洗装置与通槽的个数相同或少于通槽的个数。本技术可以根据反应釜本体1的大小，设置多个通槽和清洗装置。由于清洗装置是可拆卸的，因此清洗装置的个数可以少于通槽的个数，待一侧的反应釜本体1内壁清洗完成后，再清洗另一侧，或待一部分反应釜本体1的内壁清洗完成后，清洗另一部分，可节约清洗成本。
[0023]沿清洗支撑杆22的轴向均匀设置有若干个清洗喷嘴23。沿清洗支撑杆22的周向均匀设置有若干排清洗喷嘴23，相邻两排清洗喷嘴23间隔设置。
[0024]在反应釜本体1内的清洗支撑杆22的顶部和底部为圆柱形的外扩部24，外扩部24
的外径小于通槽的直径；
[0025]外扩部24上设置有若干辅助喷嘴25，位于顶部的辅助喷嘴25设置在顶部的外扩部24的顶面上，位于底部的辅助喷嘴25设置在底部的外扩部24的底面上。辅助喷嘴25与清洗支撑杆22中空的内部联通，辅助喷嘴25的喷射方向朝向反应釜本体1的顶部和底部。以使得清洗装置也可以清洗反应釜本体1的顶部和底部。
[0026]外扩部24上的辅助喷嘴25以外扩部24的中心为中心呈发散状设置。
[0027]辅助喷嘴25的喷射方向与外扩部24的径向夹角以外扩部24的中心向外方向逐渐减小。
[0028]清洗头部21上的贯穿通孔上设置有连接管，连接管通过连接软管连接外部高压液体源。连接软管优选为橡胶软管或不锈钢波纹软管。当高压液体为水时，可以采用橡胶软管。为了更好的清洗反应釜本体1内的残留物质，在一些场景中，可能需要采用酸性或碱性液体来使其对残留物质进行分解。当高压液体采用酸性或碱性液体时，连接软管采用不锈钢波纹软管，以便于更佳的耐腐蚀性。
[0029]本技术的反应釜本体1优选采用陶瓷内胆，以实现较容易的清洗目的。
[0030]以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米材料制备用反应釜，包括反应釜本体，其特征在于，在所述反应釜本体的顶面上挖设有若干通槽，所述通槽上可拆卸的密封盖设有槽盖；还包括若干清洗装置，每个清洗装置均包括清洗头部、清洗支撑杆和清洗喷嘴，所述清洗头部和所述通槽可拆卸密封连接，所述清洗头部中部具有贯穿通孔，所述清洗支撑杆固定在所述清洗头部，所述清洗支撑杆内部中空并与所述贯穿通孔联通，所述清洗喷嘴均匀分布于所述清洗支撑杆上且与所述清洗支撑杆中空的内部联通，所述清洗喷嘴的喷射方向朝向所述反应釜本体内壁且朝向上方，与所述反应釜本体的轴向夹角小于90度。2.如权利要求1所述的纳米材料制备用反应釜，其特征在于，所述通槽沿所述反应釜本体的顶面外侧均匀设置，所述清洗装置与所述通槽的个数相同或少于所述通槽的个数。3.如权利要求1所述的纳米材料制备用反应釜，其特征在于，沿所述清洗支撑杆的轴向均匀设置有若干个所述清洗喷嘴。4.如权利要求1所述的纳米材料制备用反应釜，其特征在于，沿所述清洗支撑杆的周向均匀设置有若干排所述清洗喷嘴，相...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪志龙，
申请(专利权)人：上海西源新能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：