一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴制造技术

本实用新型专利技术涉及低静电旋转喷嘴技术领域，尤其涉及一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴。其技术方案包括：一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴，包括喷头、第一凹槽、喷嘴、第二凹槽和接头，所述喷头的一端设有接头，所述喷头背离接头的一端开设有第二凹槽，所述第二凹槽的两侧开设有第一凹槽，所述喷头上位于第二凹槽的一侧贯穿开设有喷嘴。本实用新型专利技术通过保持内部等离子浓度，保证内部放电均匀，降低等离子的静电值，并控制在0～

【技术实现步骤摘要】
一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴


[0001]本技术涉及低静电旋转喷嘴
，具体涉及一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴。

技术介绍

[0002]目前市面上大多数喷嘴静电值较大，在处理一些电子行业的产品时，有些电子元器件受到静电损伤后的性能没有明显的下降，但多次累加放电会给器件造成内伤而形成隐患，进而影响到整个产品的稳定性。

技术实现思路

[0003]本技术提供了一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴，解决了以上所述的技术问题。
[0004]本技术解决上述技术问题的方案如下：
[0005]一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴，包括喷头，所述喷头的一端设有接头，所述喷头背离接头的一端开设有第二凹槽，所述第二凹槽的两侧开设有第一凹槽，所述喷头上位于第二凹槽的一侧贯穿开设有喷嘴。
[0006]本技术的有益效果是：通过加长其内部到喷弧口的距离，控制适当的放电间距，放电区域内部空间大小需要配合工艺气体流量进行管控，保持内部等离子浓度，保证内部放电均匀致使正负电子在内部进行等离子中和。
[0007]在上述技术方案的基础上，本技术还可以做如下改进。
[0008]进一步，所述第一凹槽共设有两个，且两个第一凹槽在第二凹槽的两侧对称分布。
[0009]采用上述进一步方案的有益效果是：通过第一凹槽和第二凹槽在保证喷头使用质量的前提下，减少喷头的原料消耗，降低喷头的生产成本。
[0010]进一步，所述喷嘴位于两个第一凹槽的对称线上。
[0011]采用上述进一步方案的有益效果是：通过斜置的喷嘴加长其内部到喷弧口的距离。
[0012]上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本技术的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
[0013]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。
[0014]在附图中：
[0015]图1为本技术的侧视外观示意图；
[0016]图2为本技术的A
‑
A向剖视结构示意图；
[0017]图3为本技术的B
‑
B向剖视结构示意图。
[0018]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0019]1、喷头；2、第一凹槽；3、喷嘴；4、第二凹槽；5、接头。
具体实施方式
[0020]以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并非用于限定本技术的范围。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本技术。根据下面说明和权利要求书，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。
[0021]需要说明的是，当组件被称为“固定于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0022]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0023]请参阅图1至图3所示，本技术提供的实施例：
[0024]实施例一
[0025]一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴，包括喷头1、第一凹槽2、喷嘴3、第二凹槽4和接头5，喷头1的一端设有接头5，喷头1背离接头5的一端开设有第二凹槽4，第二凹槽4的两侧开设有第一凹槽2。
[0026]第一凹槽2共设有两个，且两个第一凹槽2在第二凹槽4的两侧对称分布，喷头1上位于第二凹槽4的一侧贯穿开设有喷嘴3，通过加长其内部到喷弧口的距离，控制适当的放电间距，放电区域内部空间大小需要配合工艺气体流量进行管控，保持内部等离子浓度，保证内部放电均匀致使正负电子在内部进行等离子中和，喷嘴3位于两个第一凹槽2的对称线上。
[0027]基于实施例1的一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴工作原理是：加长其内部到喷弧口的距离，控制适当的放电间距，放电区域内部空间大小需要配合工艺气体流量进行管控，保持内部等离子浓度，保证内部放电均匀，等离子的静电值就会比较低，可以控制到0～
±
30V的范围内，完全可满足微电子行业的实际应用。
[0028]以上所述，仅为本技术的较佳实施例而已，并非对本技术作任何形式上的限制；凡本行业的普通技术人员均可按说明书附图所示和以上所述而顺畅地实施本技术；但是,凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本技术技术方案范围内，利用以上所揭示的
技术实现思路
而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化，均为本技术的等效实施例；同时,凡依据本技术的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演
变等，均仍属于本技术的技术方案的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有超低静电作用的常压等离子旋转喷嘴，包括喷头，其特征在于：所述喷头(1)的一端设有接头(5)，所述喷头(1)背离接头(5)的一端开设有第二凹槽(4)，所述第二凹槽(4)的两侧开设有第一凹槽(2)，所述喷头(1)上位于第二凹槽(4)的一侧贯穿开设有喷嘴(3)。2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏宜鹏，冼健威，李南杰，
申请(专利权)人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：