一种超疏水黑磷纳米片的制备和应用制造技术

本发明专利技术公开了一种超疏水黑磷纳米片的制备和应用。所述超疏水黑磷纳米片，为黑磷晶体边球磨剥离的同时边通过亲电试剂修饰得到的超疏水黑磷纳米材料。本发明专利技术采用卤代烃修饰黑磷纳米片，一方面提高了黑磷纳米片的抗氧化能力，另一方面也赋予了黑磷纳米片防水、自清洁、油水分离等新功能，使其能应用于更多领域。使其能应用于更多领域。使其能应用于更多领域。

【技术实现步骤摘要】
一种超疏水黑磷纳米片的制备和应用


[0001]本专利技术属于材料领域，具体涉及一种超疏水黑磷纳米片的制备和应用。

技术介绍

[0002]近年来，与石墨烯一样拥有二维层状结构的黑磷展现出卓越的电学和光学特性，同时具有良好的生物活性和生物相容性。然而，黑磷的不稳定性以及其亲水性在一定程度上限制了其深入的研究和应用。
[0003]亲水性在材料表面为水分所润湿的性质。是一种界面现象，润湿过程的实质是物质界面发生性质和能量的变化。当水分子之间的内聚力小于水分子与固体材料分子间的相互吸引力时，材料被水润湿，此种材料为亲水性的，称为亲水性材料；而水分子之间的内聚力大于水分子与材料分子间的吸引力时，则材料表面不能被水所润湿，此种材料是疏水性的(或称憎水性)，称为疏水性材料。黑磷的亲水性对其本身的性能有重大影响。
[0004]黑磷之所以稳定性差，是因为在其蜂窝状结构中，磷原子与其他3个磷原子成键之后，仍有一对孤对电子，该孤对电子易被氧分子夺走，从而造成外层黑磷的氧化。为实现黑磷的稳定性强化和性能优化，研究人员发展了系列界面调控技术，如有机包覆、化学配位、共价修饰、离子掺杂、缺陷修复等。专利CN201610729312.5提出了一种聚合物包裹黑磷的方法，实现黑磷的稳定性。该方法为黑磷外层包覆一层有机物以隔绝水氧，减缓黑磷的降解，然而制备保护层的方法虽然通过隔绝空气和水起到了保护的作用，但磷原子的孤对电子仍然存在，依然存在被氧化的可能。通过表面化学修饰的方法，将黑磷的孤对电子形成配位键或共价键，阻断其与氧气的反应，可以从根本上解决黑磷稳定性的问题。专利201510956724.8设计了一种钛的苯磺酸酯配体(TiL4)，利用钛原子的空轨道和苯磺酸酯的强吸电子效应,钛配体可以和黑磷的孤对电子进行配位；形成配位键后磷原子的孤对电子被占据,从而不会再与氧气发生反应，然而这些方法未能实现黑磷润湿性的改变。
[0005]目前对于黑磷的疏水改性研究较少，本专利技术通过对黑磷进行疏水改性，在提高其在水氧环境中的稳定性的同时改善了其表面润湿性，拓展了其防水、油水分离和自清洁等特性。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是针对现有技术的不足，提供一种超疏水黑磷纳米片的制备方法和应用，表现卓越的稳定性，且制备工艺简单，价格低廉。
[0007]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：
[0008]本专利技术首先提供一种超疏水黑磷纳米片，为黑磷晶体边球磨剥离的同时边通过亲电试剂修饰得到的超疏水黑磷纳米材料。
[0009]具体的，所述亲电试剂为卤代烃，所述卤代烃结构为苯基或C1～6的烷基被1～14个独立卤素原子取代物，卤素原子包括氟、氯、溴、碘中的一种或多种。
[0010]具体的，所述黑磷纳米片厚度20～100nm，所述黑磷纳米片厚度10～20nm，长100～
300nm，宽20～30nm。
[0011]本专利技术其二提供一种超疏水黑磷纳米片的制备方法，取黑磷晶体，在研钵中加入N
‑
甲基吡咯烷酮，研磨后将其分散在N
‑
甲基吡咯烷酮中，随后加入亲电试剂，冰浴下用探头超声处理得到超疏水黑磷纳米片。
[0012]具体的，所述黑磷纳米片与亲电试剂的摩尔比为10：1～1：2。
[0013]具体的，所述研磨的时间8
‑
15min。
[0014]具体的，所述黑磷晶体和N
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甲基吡咯烷酮的摩尔体积比为1：1
‑
1：100mol/L。
[0015]具体的，所述超声处理为40
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80kHz探头处理6
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10h。
[0016]本专利技术还提供上述超疏水黑磷纳米片或上述任一项所述制备方法制得的超疏水黑磷纳米片在制备晶体管材料、电池的负极材料、柔性显示材料、LED材料、生物传感器材料中的应用。
[0017]所述“晶体管材料”是指用于晶体管半导体层的材料；
[0018]所述“电池的负极材料”是指电池中构成负极的材料；
[0019]所述“柔性显示材料”是指用于制备柔性显示装置的柔软的、可变型可弯曲的材料；
[0020]所述“LED材料”是指用于构造发光二极管基本结构的半导体材料；
[0021]所述“生物传感器材料”是指对生物物质敏感并可将其浓度转换为电或者光信号进行检测的材料；
[0022]本专利技术的设计思路在于：由于黑磷每一个磷原子上有孤对电子，为亲核性物质，卤代烃为亲电性物质，容易与黑磷发生亲电取代反应，卤素原子离去后成功地将烃链段修饰到黑磷表面，实现亲水性到疏水性的转变。反应机理如下：
[0023][0024]上述X为卤素原子。
[0025]与现有技术相比，本专利技术具有如下突出效果：
[0026]1、本专利技术通过卤代烃修饰黑磷纳米片，将烃链修饰到黑磷上，将黑磷的孤对电子形成共价键，阻断其与氧气的反应，可以从根本上解决黑磷稳定性的问题；且技术方案为表面修饰，不改变黑磷纳米片的固有属性；
[0027]2、本专利技术原料简单易得、生产工艺操作简单、产率高、重现性好，可实现低成本大规模生产；
[0028]3、本专利技术采用卤代烃修饰黑磷纳米片，一方面提高了黑磷纳米片的抗氧化能力，另一方面也赋予了黑磷纳米片防水、自清洁、油水分离等新功能，使其能应用于更多领域。
附图说明
[0029]图1为实施例1所得超疏水黑磷纳米片SEM电镜图；
[0030]图2为实施例1所得超疏水黑磷纳米片的TEM图；
[0031]图3为实施例1所得超疏水黑磷纳米片的XRD图；
[0032]图4为实施例1所得超疏水黑磷纳米片制备成涂层的水接触角图。
具体实施方式
[0033]下面结合具体实施例对本专利技术进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本专利技术，但不以任何形式限制本专利技术。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进。这些都属于本专利技术的保护范围。
[0034]实施例1超疏水黑磷纳米片的制备
[0035]称量1mmol的黑磷晶体，在研钵中加入少量N
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甲基吡咯烷酮NMP，研磨10min后将其分散于一定量NMP中，随后加入10mmol碘甲烷，冰浴下用40kHz探头超声处理6h得到。
[0036]实施例2超疏水黑磷纳米片的制备
[0037]称量1mmol的黑磷晶体，在研钵中加入少量N
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甲基吡咯烷酮NMP，研磨8min后将其分散于一定量NMP中，随后加入0.5mmol溴化苄，冰浴下用50kHz探头超声处理10h得到。
[0038]实施例3超疏水黑磷纳米片的制备
[0039]称量1mmol的黑磷晶体，在研钵中加入少量N
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甲基吡咯烷酮NMP，研磨15min后将其分散于一定量NMP中，随后加入0.5mmol溴化苄，冰浴下用80kHz探头超声处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超疏水黑磷纳米片，其特征在于，为黑磷晶体边球磨剥离的同时边通过亲电试剂修饰得到的超疏水黑磷纳米材料。2.根据权利要求1所述超疏水黑磷纳米片，其特征在于，所述亲电试剂为卤代烃，所述卤代烃结构为苯基或C1～6的烷基被1～14个独立卤素原子取代物，卤素原子包括氟、氯、溴、碘中的一种或多种。3.根据权利要求1所述超疏水黑磷纳米片，其特征在于，所述黑磷纳米片厚度10～20nm，长100～300nm，宽20～30nm。4.一种超疏水黑磷纳米片的制备方法，其特征在于，取黑磷晶体，在研钵中加入N
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甲基吡咯烷酮，研磨后将其分散在N
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甲基吡咯烷酮中，随后加入亲电试剂，冰浴下用探头超声处理得到超疏水黑磷纳米片。5.根据权利要求4所述超疏水黑磷纳米片的制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：喻学锋，吴列，杨帆，康翼鸿，
申请(专利权)人：武汉中科先进材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：