一种纳米颗粒及其制备方法与应用技术

技术编号:34999010 阅读:49 留言:0更新日期:2022-09-21 14:47
本发明专利技术公开了一种纳米颗粒及其制备方法与应用,该纳米颗粒为核壳结构;其中纳米颗粒的内核包括UiO

【技术实现步骤摘要】
一种纳米颗粒及其制备方法与应用


[0001]本专利技术属于材料领域,具体涉及一种纳米颗粒及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]细菌的耐药性已经逐渐成为人类健康的一个日益严重的威胁,由于缺乏有效的抗生素,与耐药细菌相关的传染病每年在世界上造成大量的人口死亡。更严重的是,由于抗生素的过度使用,多种致病菌通过基因突变获得了多药耐药性质,例如抗甲氧西林金葡球菌(MRSA)、抗万古霉素肠球菌(VRE)等。这导致现有的抗生素药物对耐药菌的感染治疗效果大打折扣甚至无效,致使耐药菌成为影响人类健康的重要因素,因此迫切需要另一种有效对抗耐药细菌的治疗策略。近年来,光激活的纳米材料被认为是一种很有前途的抗菌治疗策略,光激活纳米材料在近红外光照射下产生光动力和光热效果,产生活性氧或热量对细菌细胞造成不可逆的损伤,导致细菌死亡,其过程可调控、产量高、成本低,而且能避免细菌的耐受抵抗问题,因此光激活纳米材料在抗菌抗感染治疗方面有着巨大的潜力。
[0003]光热细菌消融(PTBL)是一种利用热损伤细菌细胞的有效治疗方式,尤其在多药耐药菌的感染治疗中起着重要作用。纳米钯材料是一种用于光热细菌消融的材料,其与纳米金的性质相似,可以调控成不同形貌与粒径并通过局域表面等离子共振效应(LSPR)使材料在近红外光波段具有较为理想的吸收。具有第一个近红外窗口(NIR

I,650nm~980nm)的材料其光源穿透深度有限且容易灼伤皮肤,相比之下具有第二近红外窗口(NIR

II,1000nm~1700nm)特征吸收的材料使用的光源则具有更深的组织穿透深度和更低的光子吸收和散射,因此,具有NIR

II窗口特征吸收的材料在光热治疗领域也受到越来越多的关注。目前关于纳米钯的研究大多集中在NIR

I窗口,但鲜有在NIR

II窗口中有较好吸收的钯纳米片,而具有较高NIR

II窗口特征吸收的纳米颗粒的结构却依然未见公开。因此,亟需开发一种新型的具有NIR

II窗口吸收的纳米颗粒。

技术实现思路

[0004]为了克服上述现有技术存在的问题,本专利技术的目的之一在于提供一种纳米颗粒;本专利技术的目的之二在于提供这种纳米颗粒的制备方法;本专利技术的目的之三在于提供这种纳米颗粒的应用。
[0005]为了实现上述目的,本专利技术所采取的技术方案是:
[0006]本专利技术第一方面提供一种纳米颗粒,所述纳米颗粒为核壳结构;所述纳米颗粒的内核包括UiO

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NH2;所述纳米颗粒的壳层为钯纳米壳。
[0007]优选的,所述纳米颗粒的粒径为200nm~900nm;进一步优选的,所述纳米颗粒的粒径为250nm~800nm;再进一步优选的,所述纳米颗粒的粒径为300nm~700nm。
[0008]优选的,所述内核的粒径为200nm~800nm;进一步优选的,所述内核的粒径为250nm~700nm;再进一步优选的,所述内核的粒径为300nm~600nm。其中,如果内核的UiO

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NH2粒径小于200nm,由于第一次生长的纳米钯颗粒约为16nm左右,则UiO无法作为支架
支撑16nm的钯颗粒堆积生长形成壳状的纳米颗粒;如果内核的粒径大于800nm,则最终制备的纳米颗粒吸光效果会降低,因此内核的粒径为200nm~800nm是比较合适的范围。
[0009]优选的,所述钯纳米壳的厚度为2nm~200nm;进一步优选的,所述钯纳米壳的厚度为5nm~150nm;再进一步优选的,所述钯纳米壳的厚度为10nm~100nm。
[0010]优选的,所述纳米颗粒的近红外二区吸收峰为1000nm~1500nm;进一步优选的,所述纳米颗粒的近红外二区吸收峰为1000nm~1300nm;再进一步优选的,所述纳米颗粒的近红外二区吸收峰为1000nm~1100nm。
[0011]优选的,所述纳米颗粒为八面体结构。
[0012]优选的,所述纳米颗粒光热转换效率为50%~80%。
[0013]本专利技术第二方面提供根据本专利技术第一方面所述纳米颗粒的制备方法,包括以下步骤:
[0014]1)将UiO

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NH2与第一钯源和第一还原剂混合,反应,得到第一纳米颗粒粗品;
[0015]2)将第一纳米颗粒粗品与第二钯源和第二还原剂混合,反应,得到第二纳米颗粒粗品;
[0016]3)将第二纳米颗粒粗品与第三钯源和第三还原剂混合,反应,得到所述的纳米颗粒。
[0017]优选的,所述步骤3)中,还包括将所述反应后的产物与第四钯源和第四还原剂混合,反应,得到纳米颗粒。
[0018]优选的,所述步骤1)中,UiO

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NH2与第一钯源的质量比为1:(1~50);进一步优选的,UiO

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NH2与第一钯源的质量比为1:(2~20);再进一步优选的,UiO

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NH2与第一钯源的质量比为1:(2~10)。
[0019]优选的,所述步骤1)中,第一还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠、酒石酸、甲醛、硼氢化钠中的至少一种;进一步优选的,第一还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠中的至少一种;再进一步优选的,第一还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸中的至少一种。
[0020]优选的,所述步骤2)中,第二还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠、酒石酸、甲醛、硼氢化钠中的至少一种;进一步优选的,第二还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠中的至少一种;再进一步优选的,第二还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸中的至少一种。
[0021]优选的,所述步骤3)中,第三还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠、酒石酸、甲醛、硼氢化钠中的至少一种;进一步优选的,第三还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠中的至少一种;再进一步优选的,第三还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸中的至少一种。
[0022]优选的,所述第四还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠、酒石酸、甲醛、硼氢化钠中的至少一种;进一步优选的,所述第四还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸、柠檬酸钠中的至少一种;再进一步优选的,所述第四还原剂包括抗坏血酸、柠檬酸中的至少一种。
[0023]优选的,所述步骤1)中,反应温度为20℃~200℃;进一步优选的,反应温度为50℃~150℃;再进一步优选的,反应温度为60℃~100℃。
[0024]优选的,所述步骤1)中,反应时间为0.5h~20h;进一步优选的,所述步骤1)中,反应时间为1h~10h。
[0025]优选的,所述步骤2)中,反应温度为20℃~200℃;进一步优选的,反应温度为50℃~150℃;再进一步优选的,反应温度为60℃~100℃。
[0026]优选的,所述步骤2)中,反应时间为本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米颗粒,其特征在于:所述纳米颗粒为核壳结构;所述纳米颗粒的内核包括UiO

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NH2;所述纳米颗粒的壳层为钯纳米壳。2.根据权利要求1所述的纳米颗粒,其特征在于:所述纳米颗粒的粒径为200nm~900nm。3.根据权利要求2所述的纳米颗粒,其特征在于:所述内核的粒径为200nm~800nm;所述钯纳米壳的厚度为2nm~200nm。4.根据权利要求1

3任一项所述的纳米颗粒,其特征在于:所述纳米颗粒的近红外二区吸收峰为1000nm~1500nm。5.权利要求1

4任一项所述纳米颗粒的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:1)将UiO

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NH2与第一钯源和第一还原剂混合,反应,得到第一纳米颗粒粗品;2)将第一纳米颗粒粗品与第二钯源和第二还原剂混合,反应,得到第二纳米颗粒粗品;3)将第二纳米颗粒粗品与第三...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁贞孟维陈金香陈明张莲英陈晓彤邝文英林广张红忠
申请(专利权)人:南方医科大学
类型:发明
国别省市:

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