防护膜、防护膜组件、膜、石墨烯片及其制造方法技术

提供一种能够实现在厚度方向上施加力时难以产生破损、并且可以使光以高透射率透过的防护膜的技术。本发明专利技术的防护膜具备彼此层叠的多个层(120)，所述多个层(120)中的1个以上设置有宽度或直径在10至500nm范围内的1个以上的开口部(120H)。的开口部(120H)。的开口部(120H)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防护膜、防护膜组件、膜、石墨烯片及其制造方法


[0001]本专利技术涉及防护膜组件(pellicles)。

技术介绍

[0002]通过光刻技术可形成的图案的最小尺寸取决于曝光所使用的光的波长。通过在曝光中使用波长更短的光，可以减小该最小尺寸。
[0003]迄今为止，在曝光中使用的是波长为193nm的ArF准分子激光。近年来，对能够形成更微细的图案的光刻技术的要求越来越高，并且正在使用波长为13.5nm的极端紫外线(EUV光)。
[0004]防护膜组件用于防止尘埃等附着到光掩模或标度线(reticle)上。由于EUV光容易被各种物质吸收，因此在极端紫外线光刻(EUVL)中，正在开发一种使用了对EUV光的吸收率低的多晶硅的防护膜。
[0005]另外，与由多晶硅制成的膜相比，由石墨烯或碳纳米管等碳材料构成的膜的耐热性优异。因此，由石墨烯、碳纳米管等碳材料构成的防护膜备受关注(参照专利文献1至3)。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2018
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种防护膜，具备彼此层叠的多个层，所述多个层中的1个以上设置有宽度或直径在10至500nm范围内的1个以上的开口部。2.一种防护膜，具备彼此层叠的多个层，所述多个层中的2个以上设置有1个以上的开口部。3.根据权利要求1或2所述的防护膜，其中，所述多个层由选自石墨烯、碳纳米管、多晶硅以及氮化硅组成的组中的材料构成。4.根据权利要求1或2所述的防护膜，其中，所述多个层由含有选自锆、铌、钼、钽、铪、钪、钛、钒、以及铬组成的组中的1种以上的金属元素的材料构成。5.一种防护膜，具备彼此层叠的多个层，所述多个层由选自石墨烯和碳纳米管组成的组中的材料构成，所述多个层中的1个以上设置有1个以上的开口部。6.根据权利要求1至5中任一项所述的防护膜，其中，所述1个以上的开口部的宽度或直径为500nm以下。7.根据权利要求1至6中任一项所述的防护膜，其中，所述多个层的所述1个以上中的至少1个设置有多个所述开口部，并且这些开口部规则地配置。8.根据权利要求1至7中任一项所述的防护膜，其中，所述多个层的所述1个以上中的至少1个设置有多个所述开口部，并且这些开口部的形状相同。9.根据权利要求1至8中任一项所述的防护膜，其中，所述多个层中的2个以上设置有所述1个以上的开口部，在设置有所述1个以上的开口部的所述2个以上的层当中彼此相邻的层中，所述1个以上的开口部的位置不同。10.根据权利要求1至9中任一项所述的防护膜，其中，所述多个层中的1个以上未设置开口部。11.根据权利要求10所述的防护膜，其中，未设置所述开口部的所述1个以上的层包括所述防护膜的最表面层的至少一者。12.根据权利要求1至11中任一项所述的防护膜，其中，具备彼此层叠的多个石墨烯片。...

【专利技术属性】
技术研发人员：高田直也，关和范，小寺豊，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：