一种靶材喷砂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于金属材料加工和微电子材料制造领域，特别涉及一种靶材喷砂装置，包括：上盖、中间压圈、底座环、底座中心升降装置和法兰喷砂靶材。该喷砂装置的使用步骤为：放置底座环；底座中心升降装置升起，并在其上放置靶材；底座中心升降装置落下，连同靶材平稳置于底座环内径中；依据中间压圈和底座环的尺寸配合和安装孔连接关系，安装中间压圈；通过把手在靶面处放置上盖。该实用新型专利技术有效的解决了正面没有吊装孔靶材的喷砂难题。面没有吊装孔靶材的喷砂难题。面没有吊装孔靶材的喷砂难题。

【技术实现步骤摘要】
一种靶材喷砂装置


[0001]本技术属于金属材料加工和微电子材料制造装备中的辅助加工工装领域，特别涉及一种靶材喷砂装置。

技术介绍

[0002]现有技术中，8
‑
12英寸靶材通常需要通过喷砂工序来增加靶材对颗粒物的吸附能力。一般情况下，通过靶材正面法兰上的吊装和安装孔将靶材安装在溅射机台上使用，而这些法兰正面的吊装或者安装孔也可以用于靶材喷砂工序中，通过吊装将靶材放置于中国专利ZL201821777771.1中所述的喷砂装置中，以便于喷砂。
[0003]但随着半导体行业的不断发展，机台和配套靶材的形状更加趋于多样化，出现了很多法兰正面没有吊装和安装孔的靶材，这些靶材通过背面的安装孔安装在机台上使用，而这也给靶材喷砂工序造成很大难度，要将这些靶材放置于原来的喷砂装置中进行喷砂操作甚至无从下手，因此本技术提供一种改进后的喷砂装置，可以有效解决这类正面没有吊装孔的靶材的喷砂问题。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术存在的一系列缺陷，本专利技术的目的在于提供一种靶材喷砂装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]一种靶材喷砂装置，包括上盖1、中间压圈2、底座环3、底座中心升降装置4和法兰喷砂靶材5；
[0006]所述上盖1上具有上盖凹槽11和把手12；
[0007]所述中间压圈2上具有上斜坡凹槽21、下定位凹槽22和中间压圈安装孔 23；
[0008]所述底座环3上具有心部中空孔31、底座凹槽32和底座环安装孔33；
[0009]所述底座中心升降装置4上具有手柄41；
[0010]所述法兰喷砂靶材5上具有法兰51、法兰喷砂52和靶面53；
[0011]所述上盖1和法兰喷砂靶材5通过上盖凹槽11配合安装；
[0012]所述中间压圈2和底座环3通过下定位凹槽22定位，所述中间压圈安装孔 23和底座环安装孔33相互连接；
[0013]所述底座环3的底座凹槽32内放置法兰喷砂靶材5；
[0014]所述底座中心升降装置4位于底座环3的心部中空孔31内，与底座环3通过螺纹连接。
[0015]优选地，所述上盖凹槽11的直径D1等于所述法兰喷砂52内径D52；所述上盖凹槽11的高度H1等于所述靶面53的厚度H52与法兰喷砂52的高度H53 的差；
[0016]所述中间压圈2的内径D21等于法兰喷砂52外径D53；所述中间压圈2的外径D22等于所述底座环3的外径D32；所述中间压圈安装孔23的位置直径 D23等于底座环安装孔33的位置直径D33；所述中间压圈安装孔23的直径D24 等于底座环安装孔33的直径D34；
[0017]所述底座环3的内径D31等于法兰喷砂靶材5的法兰51的大外径D51；所述底座凹槽32的高度H3等于法兰51的高度H51。
[0018]优选地，在使用过程中，先放置底座环3，再将底座中心升降装置4升起并在其上放置法兰喷砂靶材5，然后底座中心升降装置4落下，连同法兰喷砂靶材 5平稳置于底座环3的内径中；依据中间压圈2和底座环3的尺寸配合和安装孔连接关系，安装中间压圈2；通过把手12在靶面53处放置上盖1。
[0019]本技术具有以下有益效果：
[0020]该技术有效的解决了正面没有吊装孔靶材的喷砂难题。
附图说明
[0021]图1(a)为本技术中的上盖的俯视图；
[0022]图1(b)为本技术中的上盖的剖视图；
[0023]图2(a)为本技术中的中间压圈的俯视图；
[0024]图2(b)为本技术中的中间压圈的剖视图；
[0025]图3(a)为本技术中的底座环和座座中心升降装置的俯视图；
[0026]图3(b)为本技术中的底座环和座座中心的剖视图；
[0027]图4为本技术中的正面没有安装孔的靶材；
[0028]图5为本技术喷砂装置整体结构图。
[0029]图中附图标记为：
[0030]1‑
上盖，11
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上盖凹槽，12
‑
把手
[0031]2‑
中间压圈，21
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上斜坡凹槽，22
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下定位凹槽，23
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安装孔
[0032]3‑
底座环，31
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心部中空孔，32
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底座凹槽，33
‑
安装孔
[0033]4‑
底座中心升降装置，41
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手柄
[0034]5‑
靶材，51
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靶材法兰，52
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靶材法兰喷砂，53
‑
靶面
具体实施方式
[0035]为使本专利技术实施的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例以及方位性的词语均是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。下面结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明。
[0036]本专利技术的一项宽泛实施例中，一种靶材喷砂装置，包括上盖1、中间压圈2、底座环3、底座中心升降装置4和法兰喷砂靶材5；
[0037]所述上盖1上具有上盖凹槽11和把手12；其中上盖凹槽11的直径D1，上盖凹槽11的高度为H1。所述中间压圈2上具有上斜坡凹槽21、下定位凹槽22 和中间压圈安装孔23；中间压圈2的内径D21，中间压圈2的外径D22，中间压圈安装孔位置直径D23，中间压圈安装孔直径D24，中间压圈高度H2。
[0038]所述底座环3上具有心部中空孔31、底座凹槽32和底座环安装孔33，底座环3的内径为D31，外径为D32，底座环安装孔33的位置直径为D33，底座环安装孔33的直径为D34，底座凹槽32高度H3。
[0039]所述底座中心升降装置4上具有手柄41；底座中心升降装置的直径D4，高度H4。
[0040]所述法兰喷砂靶材5上具有法兰51、法兰喷砂52和靶面53；法兰51的大外径D51，法兰喷砂52的内径为D52，法兰喷砂52的外径为D53，法兰高度 H51，靶面厚度H52，法兰喷砂52的高度为H53。
[0041]所述靶材喷砂装置的整体结构和连接关系为：
[0042]所述上盖1和法兰喷砂靶材5通过上盖凹槽11配合安装；
[0043]所述中间压圈2和底座环3通过下定位凹槽22定位，所述中间压圈安装孔 23和底座环安装孔33相互连接；
[0044]所述底座环3的底座凹槽32内放置法兰喷砂靶材5；...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种靶材喷砂装置，其特征在于，包括上盖(1)、中间压圈(2)、底座环(3)、底座中心升降装置(4)和法兰喷砂靶材(5)；所述上盖(1)上具有上盖凹槽(11)和把手(12)；所述中间压圈(2)上具有上斜坡凹槽(21)、下定位凹槽(22)和中间压圈安装孔(23)；所述底座环(3)上具有心部中空孔(31)、底座凹槽(32)和底座环安装孔(33)；所述底座中心升降装置(4)上具有手柄(41)；所述法兰喷砂靶材(5)上具有法兰(51)、法兰喷砂(52)和靶面(53)；所述上盖(1)和法兰喷砂靶材(5)通过上盖凹槽(11)配合安装；所述中间压圈(2)和底座环(3)通过下定位凹槽(22)定位，所述中间压圈安装孔(23)和底座环安装孔(33)相互连接；所述底座环(3)的底座凹槽(32)内放置法兰喷砂靶材(5)；所述底座中心升降装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭姗姗，康燕茹，杜文路，刘楠，王焕焕，曾浩，刘勇，肖长朋，万小勇，何金江，丁照崇，
申请(专利权)人：有研亿金新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：