本发明专利技术公开了一种基板清洗用自旋式等离子清洗机，属于等离子清洗设备技术领域，包括壳体，壳体内设置有等离子室，等离子室内设置有基柱，基柱上套设有定位环柱，等离子室内设置有控制转环转动的动力装置，定位环柱靠近基柱一端的侧壁上设置有第一夹固件；第一夹固件包括与放置槽内壁转动连接的第一旋柱，第一旋柱上设置有翻转齿轮，基柱上设置有固定弧块，固定弧块上设置有与翻转齿轮啮合的旋动齿。方案通过翻转齿轮以及固定弧块上旋动齿的设置，当基板转动到旋动齿位置时，会在旋动齿的作用下旋转，进行翻转动作，通过上述设置，在清洗过程中实现了环形的均匀清洗，同时，经过旋动齿的基板会进行一次翻面，保证基板正反面清洗的均匀性。均匀性。均匀性。
【技术实现步骤摘要】
一种基板清洗用自旋式等离子清洗机
[0001]本专利技术涉及等离子清洗设备
，特别是属于一种基板清洗用自旋式等离子清洗机。
技术介绍
[0002]等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。
[0003]等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。
[0004]等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的。
[0005]等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成，分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。其中真空腔体主要是分为两种材质的：不锈钢真空腔体和石英腔体。等离子清洗机优势有：清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率；等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法；采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，因此不需要过多考虑被清洗物体的形状。而且对这些难清洗部位的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似甚至更好；使用等离子清洗，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点；使用等离子清洗，避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生。
[0006]现有的等离子清洗机在使用时，为保证清洗的均匀性和清洗效果，需要调节产品位置，如：在对板体材料进行清洗时，单次清洗完成需人工翻转后进行二次清洗，该过程不仅增加了人工成本，影响了生产效率，同时，更换过程还会破坏等离子室内的真空状态，不便于使用。
技术实现思路
[0007]本专利技术的目的在于：提供一种能够自动翻转以保证清洗均匀性的基板清洗用自旋式等离子清洗机。
[0008]本专利技术采用的技术方案如下：
[0009]一种基板清洗用自旋式等离子清洗机，包括壳体，所述壳体内由上至下依次设置有功能腔和辅助腔，所述功能腔内设置有等离子室，所述辅助腔内设置有洁气系统，所述等离子室的一端设置有送料口，所述送料口处设置有开关门；所述等离子室远离所述送料口一端的侧壁上设置有基柱，所述基柱上套设有转环，所述转环侧壁上设置有转动齿，所述等离子室内设置有微型电机，所述微型电机的转轴上设置有与所述转动齿啮合的驱动齿轮；所述转环上设置有定位环柱，所述定位环柱截面呈正多边形设置，所述定位环柱的侧壁上设置有推拉槽，所述推拉槽内滑动设置有推拉板；所述推拉板上设置有放置槽，所述放置槽靠近所述基柱一端的侧壁上设置有第一夹固件，所述放置槽远离所述第一夹固件的一端设置有第二夹固件；所述第一夹固件包括与所述放置槽内壁转动连接的第一旋柱，所述第一旋柱上设置有翻转齿轮，所述基柱上设置有固定弧块，所述固定弧块上设置有与所述翻转齿轮啮合的旋动齿，所述第一旋柱的自由端设置有夹固单元，所述夹固单元适用于夹固基板；所述第二夹固件包括与所述放置槽内壁转动连接的第二旋柱，所述第二旋柱的自由端设置有所述的夹固单元。
[0010]基柱上转环的设置，能够在驱动电机的作用下，带动定位环柱转动，以此提高清洗过程的均匀性，截面呈正多边形设置的定位环柱，则能够在每个边上固定一个基板，具体数量可根据基板尺寸自行选择合适的定位环柱，推拉槽上推拉板的设置，则便于将固定基板的结构取出，安装方便，转动设置的第一旋柱和第二旋柱，使得安装后的基板能够进行旋转，翻转齿轮以及固定弧块上旋动齿的设置，当基板随转环转动到旋动齿位置时，会在旋动齿的作用下旋转，实际使用时通常将固定弧块上齿数设置为翻转齿轮齿数的一半，使得基板恰好旋转180度，完成翻转动作，通过上述设置，在清洗过程中实现了环形的均匀清洗，同时，经过旋动齿的基板会进行一次翻面，保证基板正反面清洗的均匀性。
[0011]实际使用过程中，第一、第二旋柱与放置槽之间的摩擦力需调试为在常规状态下(旋动齿与翻转齿轮未啮合状态)不会转动，避免清洗过程中不规则转动影响清洗的均匀性。
[0012]值得一提的是，完整的等离子清洗机还包括有控制系统、激励电源系统、工艺气体系统、真空泵系统等，以上由于均为现有技术，且并非本专利技术保护要点，在此不再赘述。
[0013]优选的，所述第一旋柱上设置有伸缩槽，所述伸缩槽内滑动设置有伸缩柱，所述夹固单元设置在所述伸缩柱自由端，所述伸缩槽内还设置有压簧，所述压簧的一端与伸缩柱接触设置，压簧的另一端与伸缩槽底端接触设置，所述夹固单元包括夹固板，所述夹固板上设置有基板槽，所述夹固板侧壁上还设置有与所述基板槽连通的夹固螺纹孔。伸缩槽、伸缩柱以及压簧的设置，能够固定不同长度尺寸的基板，提高装置的适用性，夹固螺纹孔则用以通过螺栓固定基板，拆装方便。
[0014]优选的，所述推拉槽侧壁上设置有轨道块，所述推拉板侧壁上设置有与所述轨道块配合的轨道槽，所述推拉板远离所述基柱的一端设置有手握块。轨道槽与轨道块的设置，用以限定推拉板的运行轨迹及运动终点，保证使用效果。
[0015]实际使用时，可在合适位置设置弹性卡扣等结构，进一步保证清洗过程中推拉板的相对位置，保证旋动齿与翻转齿轮的啮合效果。
[0016]优选的，所述洁气系统包括设置在所述辅助腔内的水箱、过滤箱和换气风机，所述水箱侧壁上连通设置有进水管和出水管，所述进水管上设置有进水开关，所述出水管上设
置有出水开关，所述过滤箱内设置有隔板，所述隔板将所述过滤箱由上至下分隔为第一过滤室和第二过滤室，所述第一过滤室的两端分别与所述水箱和所述等离子室连通设置，所述换气风机的进风端与所述第二过滤室连通设置，所述换气风机的出风端与所述水箱底端连通设置。水箱、过滤箱以及换气风机的设置，能够将引入的空气先进行一次水滤，再通过第一过滤室二次过滤后进入等离子室内，以此滤出气体内的杂质，提高清洗效果。
[0017]优选的，所述第一过滤室内竖直设置有三个通风板，所述通风板将所述第一过滤室由左至右分隔为进风腔、滤水腔、滤杂腔和出风腔，所述进风腔与所述水箱顶端连通设置，所述出风腔侧壁上设置有出风管，所述出风管与所述等离子室连通设置，所述滤水腔内设置有干燥滤芯，所述滤杂腔内设置有活性炭滤芯。第一过滤室内通风板的设置，在保证通风效果的前提下便于对滤芯进行检查与更换，干燥滤芯以及活性炭滤芯的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板清洗用自旋式等离子清洗机,包括壳体(1)，其特征在于，所述壳体(1)内由上至下依次设置有功能腔(2)和辅助腔(3)，所述功能腔(2)内设置有等离子室(4)，所述辅助腔(3)内设置有洁气系统，其中：所述等离子室(4)的一端设置有送料口(5)，所述送料口(5)处设置有开关门(6)；所述等离子室(4)远离所述送料口(5)一端的侧壁上设置有基柱(7)，所述基柱(7)上套设有转环(8)，所述转环(8)侧壁上设置有转动齿(9)，所述等离子室(4)内设置有微型电机(10)，所述微型电机(10)的转轴上设置有与所述转动齿(9)啮合的驱动齿轮(11)；所述转环(8)上设置有定位环柱(12)，所述定位环柱(12)截面呈正多边形设置，所述定位环柱(12)的侧壁上设置有推拉槽(13)，所述推拉槽(13)内滑动设置有推拉板(14)；所述推拉板(14)上设置有放置槽(15)，所述放置槽(15)靠近所述基柱(7)一端的侧壁上设置有第一夹固件(16)，所述放置槽(15)远离所述第一夹固件(16)的一端设置有第二夹固件(17)；所述第一夹固件(16)包括与所述放置槽(15)内壁转动连接的第一旋柱(18)，所述第一旋柱(18)上设置有翻转齿轮(19)，所述基柱(7)上设置有固定弧块(20)，所述固定弧块(20)上设置有与所述翻转齿轮(19)啮合的旋动齿(21)，所述第一旋柱(18)的自由端设置有夹固单元，所述夹固单元适用于夹固基板；所述第二夹固件(17)包括与所述放置槽(15)内壁转动连接的第二旋柱(22)，所述第二旋柱(22)的自由端设置有所述的夹固单元。2.根据权利要求1所述的一种基板清洗用自旋式等离子清洗机，其特征在于，所述第一旋柱(18)上设置有伸缩槽(23)，所述伸缩槽(23)内滑动设置有伸缩柱(24)，所述夹固单元设置在所述伸缩柱(24)自由端，所述伸缩槽(23)内还设置有压簧(25)，所述压簧(25)的一端与伸缩柱(24)接触设置，压簧(25)的另一端与伸缩槽(23)底端接触设置，所述夹固单元包括夹固板(26)，所述夹固板(26)上设置有基板槽(27)，所述夹固板(26)侧壁上还设置有与所述基板槽(27)连通的夹固螺纹孔(28)。3.根据权利要求1所述的一种基板清洗用自旋式等离子清洗机，其特征在于，所述推拉槽(13)侧壁上设置有轨道块(29)，所述推拉板(14)侧壁上设置有与所述轨道块(29)配合的轨道槽(30)，所述推拉板(14)远离所述基柱(7)的一端设置有手握块(31)。4.根据权利要求1所述的一种基板清洗用自旋式等离子清洗机，其特征在于，所述洁气系统包括设置在所述辅助腔(3)内的水箱(32)、过滤箱(33)和换气风机...
【专利技术属性】
技术研发人员：万华亿，韦太球，
申请(专利权)人：深圳市震华等离子体智造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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