一种磁流体旋转密封机构检漏工具及检漏方法技术

本发明专利技术提供一种磁流体旋转密封机构检漏工具及检漏方法，该检漏工具包括连接结构、通气结构及固定结构，其中，通气结构包括通气管、第一密封板、第一密封环、第二密封板、第二密封环、通气道、固定杆及第一固定结合部，固定结构包括辅助固定部、拉杆、第二固定结合部、销轴及偏心夹紧手柄。检漏时将检漏工具分别与气体检测装置、被测磁流体旋转密封机构连接，从磁流体下方通入待检测气体，根据气体检测装置的检测结果判断磁流体旋转密封机构的密封性能。本发明专利技术能够保证磁流体旋转密封机构在安装过程中即可对密封性不好的结构进行调整和重装，且检漏工具结构简单、操作方便、检漏精度高、装卸速度快，可提高工作效率，最快程度测得磁流体的真空度。的真空度。的真空度。

【技术实现步骤摘要】
一种磁流体旋转密封机构检漏工具及检漏方法


[0001]本专利技术属于半导体高端设备制造、气相沉积设备
，涉及一种磁流体旋转密封机构检漏工具及检漏方法。

技术介绍

[0002]旋转密封机构是决定气相沉积设备薄膜工艺的关键模块，尤其是磁流体旋转密封机构的密封性能好坏直接影响镀膜的质量。在组装带有磁流体旋转密封机构的气相沉积设备（例如化学气相沉积（简称CVD）设备）的过程中，为了确保较高的密封性，在磁流体的两端一般均会设置密封环。
[0003]由于人工装配以及零件加工精度方面都不可避免地存在一定误差，因此无法保证安装后即为高密封。现有的公开技术中均是在设备组装完毕后通过设备运行的实际状况来判断磁流体旋转密封机构的密封性能，安装与拆卸过程繁琐，无法在安装过程中对密封性不好的结构进行调整和重装，无疑增加了操作上的人工成本。

技术实现思路

[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种磁流体旋转密封机构检漏工具及检漏方法，用于解决现有磁流体旋转密封机构的安装与拆卸过程繁琐、无法在安装过程中对密封性不好的结本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁流体旋转密封机构检漏工具，其特征在于，包括：连接结构；通气结构，包括通气管、第一密封板、第一密封环、第二密封板、第二密封环、通气道、固定杆及第一固定结合部，所述通气管的顶端与所述连接结构连接，所述通气管的底端与所述第一密封板连接，所述第一密封环配置于所述第一密封板的底面，所述第二密封板与所述第一密封板连接，且所述第一密封板的侧缘水平突出于所述第二密封板的侧缘，所述第二密封环配置于所述第二密封板的底面，所述通气道自所述第二密封板的侧壁开口，并往所述第二密封板的内部延伸直至与所述通气管连通，所述固定杆的顶端与所述第二密封板连接，所述固定杆的底端连接所述第一固定结合部；固定结构，包括辅助固定部、拉杆、第二固定结合部、销轴及偏心夹紧手柄，所述辅助固定部内部中空且设有顶部开口与底部开口，所述第二固定结合部位于所述辅助固定部的内部空间中并可拆卸式连接于所述第一固定结合部，所述拉杆穿过所述底部开口，且所述拉杆的顶端与所述第二固定结合部连接，所述拉杆的底端突出于所述辅助固定部外部，所述偏心夹紧手柄位于所述辅助固定部下方并通过所述销轴与所述拉杆转动式连接。2.根据权利要求1所述的磁流体旋转密封机构检漏工具，其特征在于：所述第二固定结合部与所述第一固定结合部之间通过旋转铆合方式连接。3.根据权利要求2所述的磁流体旋转密封机构检漏工具，其特征在于：所述第一固定结合部包括卡槽及入口，所述入口位于所述卡槽下方并与所述卡槽连通，所述第二固定结合部的形状与所述入口相匹配以经由所述入口伸入所述卡槽中，且所述第二固定结合部伸入所述卡槽中后水平旋转预设角度后完成与所述第一固定结合部之间的铆合连接。4.根据权利要求3所述的磁流体旋转密封机构检漏工具，其特征在于：所述入口呈一字型。5.根据权利要求1所述的磁流体旋转密封机构检漏工具，其特征在于：所述偏心夹紧手柄包括偏心半圆部与手柄部，所述偏心半圆部具有一面向所述辅助固定部的圆弧面，所述偏心半圆部通过所述销轴与所述拉杆转动式连接，所述销轴的中心轴线偏离所述圆弧面对应的圆心，所述手柄部的一端与所述偏心半圆部固定连接以在外力作用下带动所述偏心半圆部绕所述销轴转动进而带动所述拉杆上升或下降。6.根据权利要求5所述的磁流体旋转密封机构检漏工具，其特征在于：所述偏心夹紧手柄满足R/e=7.5～10，其中，R为所述圆弧面对应的圆直径，e为所述销轴的中心轴线与所述圆弧面对应的圆心之间的距离。7.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙亭，赵美英，宋维聪，
申请(专利权)人：上海陛通半导体能源科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：