一种显示器支撑架用超疏水仿生纳米涂层及其制备方法技术

涉及显示器支撑架技术领域，并公开了一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，包括以下步骤：首先，通过蚀刻工艺在疏水基材表面蚀刻微纳结构，再将蚀刻后的疏水基材表面清洗干净；然后，再向疏水基材表面涂布粘胶层；最后，将纳米级疏水涂料颗粒喷涂至粘胶层上，烘干即得超疏水层。本发明专利技术中，利用蚀刻技术在疏水基材表面蚀刻出周期性的微米点阵，再结合粘胶和纳米级疏水涂料颗粒，使得点阵表面被喷涂的纳米级疏水涂料颗粒覆盖包裹，使具有点阵结构的基材表面与纳米级疏水涂料颗完全粘黏，从而使点阵与表面形成的超疏水层构成微纳米复合结构，能使基材表面长久保持疏水特性。使基材表面长久保持疏水特性。使基材表面长久保持疏水特性。

【技术实现步骤摘要】
一种显示器支撑架用超疏水仿生纳米涂层及其制备方法


[0001]本专利技术涉及显示器支撑架
，具体涉及一种显示器支撑架用超疏水仿生纳米涂层及其制备方法。

技术介绍

[0002]涂层是涂料一次施涂所得到的固态连续膜，是为了防护、绝缘、装饰等目的，涂布于金属、织物、塑料等基体上的。涂料可以为各种形态，且通常根据需要喷涂的基质决定涂料的种类和状态。现有的超疏水仿生纳米涂层的与基体的连接强度达不到预期，长期使用后疏水性能快速下降。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种显示器支撑架用超疏水仿生纳米涂层及其制备方法，以解决现有超疏水仿生纳米涂层的与基体的连接强度达不到预期，长期使用后疏水性能快速下降的技术问题。
[0004]本专利技术人发现，现有的疏水性基材，单单依靠在表面刻蚀形成微纳结构来达到超疏水目的，难以达到预期效果，且难度较大。同时现有的在基材表面喷涂粘胶再结合疏水涂层的方式，虽然能够解决疏水涂层与基材表面的强度问题，但是不够理想，仅仅依靠疏水涂层实现的疏水作用，依旧比较单一，难以持久。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]根据本专利技术的一个方面，提供了一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，包括以下步骤：
[0007]首先，通过蚀刻工艺在疏水基材表面蚀刻微纳结构，再将蚀刻后的疏水基材表面清洗干净；
[0008]然后，再向疏水基材表面涂布粘胶层；
[0009]最后，将纳米级疏水涂料颗粒喷涂至粘胶层上，烘干即得超疏水层。
[0010]其中，所述疏水基材为塑料或特氟龙。
[0011]其中，所述微纳结构为具有周期性的微米点阵，且在最后工序中，所述微米点阵被纳米级疏水涂料颗粒包裹；
[0012]其中，所述微纳结构优选6
‑
9μm周期的微米点阵。
[0013]其中，所述微纳结构中的点结构形状为圆柱形、长方形或棱台形。
[0014]其中，所述纳米级疏水涂料颗粒包括疏水改性纳米二氧化硅、纳米石蜡、疏水改性十八烷基三氯硅烷和PDMS
‑
炭黑中的一种；
[0015]其中，所述纳米级疏水涂料颗粒的粒径为0.01
‑
0.5μm。
[0016]其中，在涂布粘胶层后，烘干时间为4
‑
5min，烘干温度为30
‑
35℃；
[0017]在喷涂纳米级疏水涂料颗粒后，烘干时间为5
‑
6h，烘干温度为45
‑
55℃。
[0018]其中，所述粘胶层包括环氧树脂类胶、聚二甲基硅氧烷胶、聚氨酯类胶或硅酮类胶
中的至少一种。
[0019]其中，所述超疏水层表面的接触角为175
±5°
，滚动角为1
‑8°
。
[0020]根据本专利技术的一个方面，提供了利用上述制备方法得到的超疏水层。
[0021]根据本专利技术的一个方面，提供了超疏水层在显示器支架上的应用。
[0022]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0023]本专利技术中，利用蚀刻技术在疏水基材表面蚀刻出周期性的微米点阵，再结合粘胶和纳米级疏水涂料颗粒，使得点阵表面被喷涂的纳米级疏水涂料颗粒覆盖包裹，使具有点阵结构的基材表面与纳米级疏水涂料颗完全粘黏，从而使点阵与表面形成的超疏水层构成微纳米复合结构，能使基材表面长久保持疏水特性。
附图说明
[0024]此处的附图被并入说明书中构成本说明书的一部分，并示出了符合本专利技术的实施例，与说明书一起用于解释本专利技术的原理。
[0025]图1为一实施例中超疏水层制备方法的流程框图。
具体实施方式
[0026]本申请文件中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围值的端点和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应当被视为在本申请文件中具体公开。
[0027]请参阅图1，其中，图1为一实施例中超疏水层制备方法的流程框图。
[0028]实施例一，超疏水层制备方法包括以下步骤：
[0029]步骤S101，通过激光蚀刻仪在塑料表面蚀刻6μm周期的微米点阵，再将蚀刻后的塑料表面清洗干净；
[0030]其中，激光蚀刻仪型号为IBE
‑
A
‑
150，蚀刻时采用6μm周期蜂窝型分布的似圆形点阵结构掩膜板，使得蚀刻后得到的点结构为圆柱形。
[0031]步骤S102，再向疏水基材表面涂布聚二甲基硅氧烷胶，完成涂布后，烘干时间为4.5min，烘干温度为33℃；
[0032]步骤S103，将粒径为0.25μm的疏水改性纳米二氧化硅喷涂至聚二甲基硅氧烷胶层上，在烘干时间为5.5h，烘干温度为50℃的条件下，即得表面接触角为178
°±
1，滚动角为1
‑3°
的超疏水层。
[0033]利用蚀刻技术在疏水基材表面蚀刻出周期性的微米点阵，再结合粘胶和纳米级疏水涂料颗粒，使得点阵表面被喷涂的纳米级疏水涂料颗粒覆盖包裹，使具有点阵结构的基材表面与纳米级疏水涂料颗完全粘黏，从而使点阵与表面形成的超疏水层构成微纳米复合结构，能使基材表面长久保持疏水特性
[0034]为便于进一步理解本专利技术的技术方案，将通过以下实施例进一步说明。
[0035]实施例二
‑
四：
[0036]按照实施例一的制备方法，不同的是微米点阵的周期不同，其中，对比例1为不具有微纳结构的超疏水涂层，对比例2仅具有6μm周期的微纳结构，对比例3为仅具有9μm周期
的微纳结构，具体见表1：
[0037] 微米点阵的周期表面接触角表面滚动角实施例一6μm178
°±
11
‑3°
实施例二7μm176
°±
12
‑5°
实施例三8μm174
°±
14
‑6°
实施例四9μm171
°±
15
‑8°
对比例一无160
°±
14
‑7°
对比例二6μm157
°±
15
‑8°
对比例三9μm155
°±
16
‑8°
[0038]通过表1可知，其它条件不变，6μm周期的微米点阵在疏水性能的表现最好，此外，在仅仅具有微纳结构和仅仅具有超疏水涂层的情况下，疏水性能的表现均不如微纳结构和超疏水涂层相结合的疏水性能。
[0039]实施例五
‑
六：
[0040]按照实施例一的制备方法，不同的是点结构的不同，具体见表2：
[0041] 点结构表面接触角表面滚动角实施例一圆柱形178
°±<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，通过蚀刻工艺在疏水基材表面蚀刻微纳结构，再将蚀刻后的疏水基材表面清洗干净；然后，再向疏水基材表面涂布粘胶层；最后，将纳米级疏水涂料颗粒喷涂至粘胶层上，烘干即得超疏水层。2.根据权利要求1所述的一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，其特征在于：所述疏水基材为塑料或特氟龙。3.根据权利要求1所述的一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，其特征在于：所述微纳结构为具有周期性的微米点阵，且在最后工序中，所述微米点阵被纳米级疏水涂料颗粒包裹；其中，所述微纳结构优选6
‑
9μm周期的微米点阵。4.根据权利要求3所述的一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，其特征在于：所述微纳结构中的点结构形状为圆柱形、长方形或棱台形。5.根据权利要求1所述的一种超疏水仿生纳米涂层的制备方法，其特征在于：所述纳米级疏水涂料颗粒包括疏水改性纳米二氧化硅、纳米石蜡、疏水改性十八烷基三氯硅烷和PDMS
‑
炭黑中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐宏俊，唐正勇，李日胜，韩琦，夏勇，程爱祥，陈波，
申请(专利权)人：泰州市创新电子有限公司，
类型：发明
国别省市：