一种聚酯薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术属于聚酯薄膜技术领域，一种聚酯薄膜及其制备方法，包括基膜与涂覆于基膜的至少一面涂覆底涂层；所述底涂层包括如下重量份的各物质：聚酯20份

【技术实现步骤摘要】
一种聚酯薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术属于聚酯薄膜
，涉及一种聚酯薄膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]聚酯薄膜由于相对于其他塑料薄膜具有良好的尺寸稳定性、耐化学性、高透明性及良好的加工性，被大量的应用于各种功能膜用聚酯薄膜材料的深加工，如作为透明导电膜、耐高温保护膜、偏光片保护膜、偏光片离型膜等功能膜材料。其具有良好的热稳定性、印刷性、耐冲击性、耐划伤及良好的化学稳定性，应用于高档IMD膜内装饰加工领域。
[0003]对于以上应用，需要在聚酯薄膜表面进行硬涂层、粘合剂层和离型层等功能层的再加工，再加工过程中聚酯薄膜会经过烘箱热处理；而在各种功能膜材料的应用过程中，会经过长时间的高温或高温高湿处理，这两种过程均会导致低聚物在聚酯薄膜中形成并向薄膜表面迁移析出，引起功能膜材料出现白雾或者装饰器件出现色差现象。低聚物析出到薄膜表面后，薄膜卷在放卷和收卷过程会受到低聚物污染，最终产品的光学和应用特性会变差。为了防止聚酯薄膜中的低聚物发生迁移，在聚酯薄膜聚合时降低低聚物的含量，但是在高温或者高温高湿条件下仍会有低聚物产生并向表面迁移。
[0004]因此，如何在有效的解决聚酯薄膜的低聚物析出现象，特别是长时间高温处理时薄膜保持较低的表面析出，同时对硬涂层、粘合剂层和离型层具有良好的附着力，是业界比较关注的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种聚酯薄膜及其制备方法，能够有效抑制表面低聚物的析出，特别是长时间高温处理时薄膜保持较低的表面析出，同时对硬涂层、粘合剂层和离型层具有良好的附着力。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：一种聚酯薄膜，包括基膜与涂覆于基膜的至少一面涂覆底涂层；所述底涂层包括如下重量份的各物质：
[0007]聚酯20份
‑
65份
[0008]聚氨酯30份
‑
50份
[0009]交联剂5份
‑
30份；
[0010]所述交联剂包括任意重量比的交联剂A、交联剂B与交联剂C，所述交联剂A交联温度：T
A
<80℃；所述交联剂B交联温度：80℃≤T
B
≤120℃；所述交联剂C交联温度：T
C
﹥120℃。
[0011]作为本申请改进的技术方案，所述聚酯薄膜以80℃热处理250小时后，底涂层表面的低聚物析出量在3.0
×
10
－4
mg/cm2以下。
[0012]作为本申请改进的技术方案，所述聚酯为萘二甲酸系聚酯。
[0013]作为本申请改进的技术方案，聚氨酯为聚碳酸酯系聚氨酯。
[0014]作为本申请改进的技术方案，所述底涂层是在基膜纵向拉伸之后、横向拉伸之前涂覆。
[0015]作为本申请改进的技术方案，所述薄膜涂覆底涂层后，用夹子把持薄膜，导入横向拉伸的预热区，所述预热区的温度小于等于120℃。
[0016]作为本申请改进的技术方案，所述预热区至少包含两段，所述预热区的第一段的温度小于100℃。
[0017]作为本申请改进的技术方案，所述横向拉伸区的温度大于120℃。
[0018]作为本申请改进的技术方案，所述交联剂A为氮丙啶、碳化二亚胺系交联剂中的一种或任意重量比的两种，
[0019]作为本申请改进的技术方案，所述交联剂B为噁唑啉、封闭型异氰酸酯系交联剂中的一种或任意重量比的两种。
[0020]作为本申请改进的技术方案，所述交联剂C为三聚氰胺、环氧系交联剂中的一种或任意重量比的两种。
[0021]作为本申请改进的技术方案，所述交联剂A、B、C的比例为1:1:2。
[0022]本申请的另一目的是提供一种制备光学聚酯薄膜的方法，，包括步骤如下：
[0023]a.将基膜原料送入相应挤出系统熔融挤出，熔融挤出温度为260℃～285℃；
[0024]b.基膜熔体经模头在转动的冷却辊上形成未取向的铸塑厚片；
[0025]c.将冷却后的铸塑厚片预热后纵向拉伸3.0倍
‑
3.8倍；
[0026]d.将底涂层涂覆液涂覆在纵向拉伸后的膜片的一个面或两个面上；
[0027]e.将涂有底涂层的膜片用夹子把持导入横向拉伸的预热区，经80℃
‑
120℃预热干燥后，在121℃
‑
160℃横向拉伸2.5倍
‑
4.5倍；
[0028]f.将拉伸后的薄膜热定型，热定型温度160℃～235℃，冷却后收卷，得到光学聚酯薄膜。
[0029]与现有技术相比，本专利技术具有以下优点；
[0030]1.本专利技术所述的聚酯薄膜的底涂层中的含有聚酯、聚氨酯与交联剂A、B、C，是在基膜纵向拉伸之后、横向拉伸之前涂覆。在薄膜预热、横向拉伸的过程中，涂覆液在中的聚酯、聚氨酯与交联剂A预热区第一段可以发生初步交联反应。随着预热区温度的升高，涂覆液中的水分随之蒸发，底涂层中的聚酯、聚氨酯与交联剂相互靠近，交联剂B可与聚酯、聚氨酯发生进一步的交联反应。薄膜进行横向拉伸时，随着拉伸区温度的升高，底涂层水份完全蒸发后随之进行横向拉伸。由于横向拉伸通常会降低底涂层的交联密度，本专利技术中聚酯、聚氨酯和交联剂C可在拉伸区继续交联反应，降低拉伸对底层交联的不良影响。本专利技术的底涂层在聚酯薄膜的预热和拉伸区，经历了预热、干燥和拉伸三个阶段，通过不同交联温度的交联剂进行了充分的交联反应，底涂层中聚酯与聚氨酯通过交联剂的交联形成了致密的互穿网络结构，能够有效抑制基膜表面低聚物的析出。在后续加工和使用过程中，即使是长时间在高温或者高温高湿环境中，也能保持较低的表面低聚物析出量，从而不会对聚酯薄膜的使用效果造成不良影响。
[0031]2.本专利技术所述聚酯薄膜，底涂层中含有萘二甲酸系聚酯、聚碳酸酯系聚氨酯，交联剂A、B、C的比例为1:1:2。萘二甲酸系聚酯能够将低聚物封闭在薄膜中,不向薄膜表面迁移析出，通过与聚碳酸酯系聚氨酯、交联剂形成的底涂层对各种硬化层、胶黏层和离型层均具有良好的附着力。
[0032]3.本专利技术所述聚酯薄膜具有低析出、高附着力的特点，适用于显示装置中的硬化
膜、偏光片保护膜和偏光片离型膜等高端膜材料领域。
具体实施方式
[0033]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。除非另作定义,此处使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。
[0034]基膜优选为塑料薄膜，具体可为聚合物薄膜。可采用聚酯薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯薄膜(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)、AB本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚酯薄膜，其特征在于，包括基膜与涂覆于基膜的至少一面涂覆底涂层；所述底涂层包括如下重量份的各物质：聚酯20份
‑
65份聚氨酯30份
‑
50份交联剂5份
‑
30份；所述交联剂包括任意重量比的交联剂A、交联剂B与交联剂C，所述交联剂A交联温度：T
A
<80℃；所述交联剂B交联温度：80℃≤T
B
≤120℃；所述交联剂C交联温度：T
C
﹥120℃。2.根据权利要求1所述的一种聚酯薄膜，其特征在于，该聚酯薄膜以80℃热处理250小时后，底涂层表面的低聚物析出量在3.0
×
10
－4
mg/cm2以下。3.根据权利要求1所述的一种聚酯薄膜，其特征在于，所述聚酯为萘二甲酸系聚酯。4.根据权利要求1所述的一种聚酯薄膜，其特征在于，聚氨酯为聚碳酸酯系聚氨酯。5.根据权利要求1所述的一种聚酯薄膜，其特征在于，所述底涂层是在基膜纵向拉伸之后、横向拉伸之前涂覆。6.根据权利要求1所述的一种聚酯薄膜，其特征在于，所述薄膜涂覆底涂层后，用夹子把持薄膜，导入横向拉伸的预热区，所述预热区的温度小于等于120℃7.根据权利要求6所述的一种聚酯薄膜，其特征在于，所述预热区至少包含两段，所述预热区的第一段的温度小于100℃。...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙月，牛运峰，程新星，姚晔，郑云霞，祁晓然，李瑞，刘洋，
申请(专利权)人：合肥乐凯科技产业有限公司，
类型：发明
国别省市：