一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，该系统用于过滤主箱体内流出的抛光液，包括过滤机构，所述过滤机构连通在主箱体的出口端；所述过滤机构形成有过滤一部和过滤二部；所述过滤二部位于过滤一部的工艺下游；所述主箱体内的抛光液经由出口端依次流入过滤一部、过滤二部以实现抛光液两次过滤；收集桶，所述收集桶连接在过滤二部的出口端用以承接经由过滤机构过滤完成的抛光液；沉积机构，所述沉积机构形成于过滤机构内以实现收集抛光液中留存的抛光粉；本装置结构优化、抛光液经由两次过滤效果更佳，同时在过滤过程中可以对抛光粉进行回收，便于后期处理使用。期处理使用。期处理使用。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统


[0001]本技术涉及光学产品去除式冷加工
，尤其涉及一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统。

技术介绍

[0002]目前大部分厂家在使用中低端光学抛光设备时，对待循环使用的抛光液有两种处理方案，一种是使用丝袜在抛光液流入储液桶前进行简单过滤，另一种是定期替换抛光液，然后对替换下来的旧抛光液进行沉淀分离，取中上层洁净清液继续使用，下层杂质、结块等废弃处理。
[0003]传统的对待循环使用的抛光液的处理方法仍存在一些不足：
[0004]1、丝袜过滤方式受限于丝袜的针织孔大小，在抛光粉结块或长时间堆积后容易造成拉伸效果，拉伸后过滤效果不佳；
[0005]2、定期更换抛光液的方式要储备多个桶，并且沉积时间较长，做分离时，下层沉淀密度较大，好多可用的抛光液(粉)也会随之被清理，造成浪费；
[0006]因此，结合现有技术中对待循环使用的抛光液的处理方法存在丝袜过滤方式过滤效果不佳，沉淀分离方式周期长、易产生浪费现象，总体使用不够灵活的问题，设计一款结构优化，操作便利、使用灵活，提高过滤效果的装置，从而解决上述问题。

技术实现思路

[0007]本技术的目的是提供一种结构优化，操作便利、使用灵活，提高过滤效果的适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统。
[0008]为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0009]一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，该系统用于过滤主箱体内流出的抛光液，包括：
[0010]过滤机构，所述过滤机构连通在主箱体的出口端；
[0011]所述过滤机构形成有过滤一部和过滤二部；
[0012]所述过滤二部位于过滤一部的工艺下游；其中
[0013]所述主箱体内的抛光液经由出口端依次流入过滤一部、过滤二部以实现抛光液两次过滤；
[0014]收集桶，所述收集桶连接在过滤二部的出口端用以承接经由过滤机构过滤完成的抛光液；
[0015]沉积机构，所述沉积机构形成于过滤机构内以实现收集抛光液中留存的抛光粉。
[0016]进一步的，所述过滤一部为内部中空的圆柱状结构；
[0017]所述过滤一部安装于主箱体的出口端处；
[0018]所述过滤一部内设有筛网一组用以对抛光液进行一次过滤。
[0019]进一步的，所述过滤二部内部中空且呈L状结构；
[0020]所述过滤二部形成有A段和B段；
[0021]所述A段和B段一体成型；
[0022]所述B段内设有筛网二组用以对抛光液进行二次过滤；
[0023]所述B段与收集桶连通安装。
[0024]进一步的，所述沉积机构具有数个沉积槽；
[0025]数个所述沉积槽沿B段长度方向间隔分布；
[0026]所述沉积槽内安装有吸附垫以实现吸附抛光液中残留的抛光粉；
[0027]所述沉积槽的下端开口处安装有盖体；其中
[0028]打开所述盖体并抽离吸附垫以实现抛光粉回收。
[0029]进一步的，所述A段和B段连接转角处安装有吸附垫用以吸附流经抛光液中残留的抛光粉。
[0030]在上述技术方案中，本技术的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，具有以下有益效果：
[0031]本技术提供的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，该装置结构优化、抛光液经由两次过滤效果更佳，同时在过滤过程中可以对抛光粉进行回收，便于后期处理使用。
附图说明
[0032]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0033]图1为传统的四轴抛光机的抛光液过滤系统的结构示意图；
[0034]图2为本技术实施例提供的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统的结构示意图；
[0035]图3为本技术实施例提供的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统的结构示意图。
[0036]附图标记说明：
[0037]1、主箱体；2、过滤机构；3、收集桶；4、沉积机构；5、吸附垫；
[0038]21、过滤一部；22、过滤二部；
[0039]211、筛网一组；
[0040]221、筛网二组；
[0041]41、沉积槽；42、盖体。
具体实施方式
[0042]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面将结合附图对本技术作进一步的详细介绍。
[0043]需要说明的是，本文所使用的的术语“内”、“出口端”、“下端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，类似的表述只是为了说明的目的，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制；此外，术语“一部”、“二部”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0044]参见图1～图3所示；
[0045]本技术的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，该系统用于过滤主箱体1内流出的抛光液，包括：
[0046]过滤机构2，过滤机构2连通在主箱体1的出口端；
[0047]过滤机构2形成有过滤一部21和过滤二部22；
[0048]过滤二部22位于过滤一部21的工艺下游；其中
[0049]主箱体1内的抛光液经由出口端依次流入过滤一部21、过滤二部22以实现抛光液两次过滤；
[0050]收集桶3，收集桶3连接在过滤二部22的出口端用以承接经由过滤机构2过滤完成的抛光液；
[0051]沉积机构4，沉积机构4形成于过滤机构2内以实现收集抛光液中留存的抛光粉。
[0052]具体的，本技术提供的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，使用时，抛光液从主箱体1中流进过滤机构2内进行过滤，抛光液首先通过过滤一部21进行一次过滤，之后继续流入过滤二部22中进行二次过滤，在此过程中沉积机构4对流经的抛光液中留存的抛光粉进行收集，抛光液经过两次过滤和抛光粉吸附后、流入收集桶3内进行回收再使用，对于过滤后的抛光液，可以静止放置一段时间经过再次的沉积处理。
[0053]过滤一部21为内部中空的圆柱状结构；
[0054]过滤一部21安装于主箱体1的出口端处；
[0055]过滤一部21内设有筛网一组211用以对抛光液进行一次过滤。
[0056]过滤二部22内部中空且呈L状结构；
[0057]过滤二部22形成有A段和B段；
[0058]A段和B段一体成型；
[0059]B段内设有筛网二组221用以对抛光液本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，该系统用于过滤主箱体(1)内流出的抛光液，其特征在于，包括：过滤机构(2)，所述过滤机构(2)连通在主箱体(1)的出口端；所述过滤机构(2)形成有过滤一部(21)和过滤二部(22)；所述过滤二部(22)位于过滤一部(21)的工艺下游；其中所述主箱体(1)内的抛光液经由出口端依次流入过滤一部(21)、过滤二部(22)以实现抛光液两次过滤；收集桶(3)，所述收集桶(3)连接在过滤二部(22)的出口端用以承接经由过滤机构(2)过滤完成的抛光液；沉积机构(4)，所述沉积机构(4)形成于过滤机构(2)内以实现收集抛光液中留存的抛光粉。2.根据权利要求1所述的一种适用于四轴高速精磨抛光机的抛光液循环过滤系统，其特征在于：所述过滤一部(21)为内部中空的圆柱状结构；所述过滤一部(21)安装于主箱体(1)的出口端处；所述过滤一部(21)内设有筛网一组(211)用以对抛光液进...

【专利技术属性】
技术研发人员：高玲，王成秋，丑恩天，张彦龙，刘派，
申请(专利权)人：长春汇恒光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：