【技术实现步骤摘要】
一种黄光曝光用挡板装置
[0001]本技术属于微纳加工制造
，具体涉及一种黄光曝光用挡板装置。
技术介绍
[0002]在光刻技术中，曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜。掩模版是一种表面被各种图案覆盖的玻璃板，光源通过掩模版将图案投射到涂有光刻胶的晶片上，生成三维的浮雕图案，用于辅助在晶片上刻蚀电路图案。
[0003]在实际使用过程中，可能有将掩模版上的图案部分投射的需求，即进行部分曝光。因此可以在掩模版和晶片之间加设挡板，将不需要进行曝光的部分用挡板遮住以阻挡光线透过，而将光线限制在需要曝光的部分，通过挡板来控制光照射区域的面积，从而可以实现部分曝光。
[0004]对于新材料光刻胶的导入或是新工艺的摸索须要做很多次实验，现有技术是每一个条件分别用一整片的晶圆片，这样容易造成晶圆片和前面工序中的如匀胶时间和光刻胶的浪费。
技术实现思路
[0005]本技术目的在于克服现有技术的不足，提供一种黄光曝光用挡板装置，降低通过多次实验摸索不同曝光、显影等条件的成本，进一步提高效率。
[0006]...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种黄光曝光用挡板装置，其特征在于，包括曝光挡板，所述曝光挡板为圆形、尺寸为4寸
‑
12寸；所述曝光挡板分成N块盖板，N≥2；所述曝光挡板的中央设有旋转件，所述N块盖板分别通过所述旋转件串联，各块盖板能够单独转动。2.根据权利要求1所述的一种黄光曝光用挡板装置，其特征在于，所述曝光挡板的材质为不锈钢、硅片或玻璃片中的一种。3.根据权利要求1所述的一种黄光曝光用挡板装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：龚跃武，陈婷，官盛果，杨山清，涂良成，
申请(专利权)人：中山大学南昌研究院，
类型：新型
国别省市：
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