一种单银膜玻璃结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种单银膜玻璃结构，包括玻璃基板，所述玻璃基板的顶面自下而上分别包覆有下介质层、下阻隔层、银膜层、上阻隔层和上介质层；所述上阻隔层和所述下阻隔层均为FTO覆膜且厚度一致。有益效果在于：本实用新型专利技术的上阻隔层和下阻隔层采用FTO覆膜，上阻隔层和下阻隔层的膜层硬度高且牢固，同时化学和力学抵抗性好，能够在镀膜后使产品进行钢化处理；上介质层的顶面覆盖有PET覆膜构成的防划伤层，能够对产品的外表面提供一定程度防划伤保护，避免了产品在转运过程中外表易意外留下划痕而影响使用，同时有利于延长产品布设安装后的使用寿命。后的使用寿命。后的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种单银膜玻璃结构


[0001]本技术涉及单银膜玻璃领域，具体涉及一种单银膜玻璃结构。

技术介绍

[0002]单银低辐射镀膜玻璃是一种常见的镀膜玻璃，其银膜层通常在玻璃外侧的两个介质层之间，且介质层与银膜层之间需要设置阻隔层来保护银膜层在溅射成膜过程中不被氧化及提高银膜层与介质层之间的结合力，目前介质层在选取时常用NiCr、Ti等金属材料作为阻隔层材料，由于NiCr、Ti等金属材料对可见光的吸收率均较高，所以应用此种结构生产的单银低辐射镀膜玻璃透光率只有85％以上，并且产品的隔热性能较低，而采用AZO作为阻隔层时，其膜层偏软，镀膜后产品整体不能钢化处理。

技术实现思路

[0003]本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种单银膜玻璃结构，上阻隔层和下阻隔层采用FTO覆膜，上阻隔层和下阻隔层的膜层硬度高且牢固，同时化学和力学抵抗性好，能够在镀膜后使产品进行钢化处理，详见下文阐述。
[0004]为实现上述目的，本技术提供了以下技术方案：
[0005]本技术提供的一种单银膜玻璃结构，包括玻璃基板，所述玻璃基板的顶面自下而上分别包覆有下介质层、下阻隔层、银膜层、上阻隔层和上介质层；
[0006]所述上阻隔层和所述下阻隔层均为FTO覆膜且厚度一致。
[0007]作为优选，所述上阻隔层和所述下阻隔层的厚度范围为0.02mm到0.18mm。
[0008]作为优选，所述上介质层和所述下介质层均为SnOx膜层或者ZnOx膜层。
[0009]作为优选，所述上介质层和所述下介质层的厚度一致且范围为0.36mm到0.45mm。
[0010]作为优选，所述银膜层为真空磁控溅射覆膜，且所述银膜层的厚度范围为0.08mm到0.27mm。
[0011]作为优选，所述上介质层的顶面包覆有防划伤层。
[0012]作为优选，所述防划伤层为PET覆膜。
[0013]采用上述一种单银膜玻璃结构，所述银膜层与所述下介质层之间通过所述下阻隔层阻挡，所述银膜层与所述上介质层之间通过所述上阻隔层阻挡，同时所述上介质层和所述下介质层均为FTO覆膜，即掺杂氟的SnO2覆膜，其导电性能好并具有成本相对较低，同时激光刻蚀容易，化学和力学抵抗性好，且能够提升所述上阻隔层和所述下阻隔层的膜层硬度及牢固性，同时，继而能够在镀膜后使产品进行钢化处理，同时上介质层和所述下介质层均为SnOx膜层或者ZnOx膜层，其具有低温成膜，高迁移率，可见光透明等优点，继而能够进一步的提升产品整体的使用性能，且所述上介质层的顶面覆盖有PET覆膜构成的所述防划伤层，继而能够对产品的外表面提供一定程度防划伤保护，避免了产品在转运过程中外表易意外留下划痕而影响使用，同时有利于延长产品布设安装后的使用寿命。
[0014]有益效果在于：1、本技术的上阻隔层和下阻隔层采用FTO覆膜，上阻隔层和下
阻隔层的膜层硬度高且牢固，同时化学和力学抵抗性好，能够在镀膜后使产品进行钢化处理；
[0015]2、上介质层的顶面覆盖有PET覆膜构成的防划伤层，能够对产品的外表面提供一定程度防划伤保护，避免了产品在转运过程中外表易意外留下划痕而影响使用，同时有利于延长产品布设安装后的使用寿命。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本技术的断面结构示意图。
[0018]附图标记说明如下：
[0019]1、上介质层；101、防划伤层；102、上阻隔层；2、银膜层；3、下介质层；301、下阻隔层；4、玻璃基板。
具体实施方式
[0020]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本技术的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本技术所保护的范围。
[0021]参见图1所示，本技术提供了一种单银膜玻璃结构，包括玻璃基板4，所述玻璃基板4的顶面自下而上分别包覆有下介质层3、下阻隔层301、银膜层2、上阻隔层102和上介质层1。所述上阻隔层102和所述下阻隔层301均为FTO覆膜且厚度一致。
[0022]作为本案优选的方案，所述上阻隔层102和所述下阻隔层301的厚度范围为0.02mm到0.18mm，如此设置，便于所述上阻隔层102和所述下阻隔层301均具有足够的厚度来阻挡银膜层2被所述上介质层1或所述下介质层3氧化失效，所述上介质层1和所述下介质层3均为SnOx膜层或者ZnOx膜层，如此设置，便于所述上介质层1和所述下介质层3均具有低温成膜，高迁移率，可见光透明等优点，继而能够进一步的提升产品整体的使用性能。
[0023]所述上介质层1和所述下介质层3的厚度一致且范围为0.36mm到0.45mm，如此设置，便于上介质层1和下介质层3均具有一定的厚度而能够将银膜层2稳定的约束在之间防止变形及意外脱离，所述银膜层2为真空磁控溅射覆膜，且所述银膜层2的厚度范围为0.08mm到0.27mm，如此设置，便于银膜层2在镀膜时能够实现大面积镀膜，且膜层均匀性好、膜厚可控、溅射工艺重复性好。
[0024]所述上介质层1的顶面包覆有防划伤层101，如此设置，便于能够对产品的外表面提供一定程度防划伤保护，避免了产品在转运过程中外表易意外留下划痕而影响使用，所述防划伤层101为PET覆膜，如此设置，便于防划伤层101自身具有良好稳定的硬度来防止意外留下划痕，同时便于防划伤层101具有足够的通透度来防止影响到产品的使用性能。
[0025]采用上述结构，所述银膜层2与所述下介质层3之间通过所述下阻隔层301阻挡，所
述银膜层2与所述上介质层1之间通过所述上阻隔层102阻挡，同时所述上介质层1和所述下介质层3均为FTO覆膜，即掺杂氟的SnO2覆膜，其导电性能好并具有成本相对较低，同时激光刻蚀容易，化学和力学抵抗性好，且能够提升所述上阻隔层102和所述下阻隔层301的膜层硬度及牢固性，同时，继而能够在镀膜后使产品进行钢化处理，同时上介质层1和所述下介质层3均为SnOx膜层或者ZnOx膜层，其具有低温成膜，高迁移率，可见光透明等优点，继而能够进一步的提升产品整体的使用性能，且所述上介质层1的顶面覆盖有PET覆膜构成的所述防划伤层101，继而能够对产品的外表面提供一定程度防划伤保护，避免了产品在转运过程中外表易意外留下划痕而影响使用，同时有利于延长产品布设安装后的使用寿命。
[0026]以上所述，仅为本技术的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单银膜玻璃结构，包括玻璃基板(4)，其特征在于：所述玻璃基板(4)的顶面自下而上分别包覆有下介质层(3)、下阻隔层(301)、银膜层(2)、上阻隔层(102)和上介质层(1)；所述上阻隔层(102)和所述下阻隔层(301)均为FTO覆膜且厚度一致。2.根据权利要求1所述一种单银膜玻璃结构，其特征在于：所述上阻隔层(102)和所述下阻隔层(301)的厚度范围为0.02mm到0.18mm。3.根据权利要求2所述一种单银膜玻璃结构，其特征在于：所述上介质层(1)和所述下介质层(3)均为SnOx膜层或者ZnOx膜层。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：王华，廖凌春，鲁小飞，
申请(专利权)人：毕节明钧玻璃股份有限公司，
类型：新型
国别省市：