一种红外屏蔽热反射玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种红外屏蔽热反射玻璃及其制备方法，其中，该方法包括：将清洗干燥后的玻璃基片置于磁控溅射区，在真空环境下对所述玻璃基片表面进行磁控溅射，依次溅射沉积形成第一介质组合层、吸收层、第二介质组合层、功能层、第三介质组合层，从而在所述玻璃基片表面形成镀膜层。本发明专利技术方法制备的红外屏蔽热反射玻璃通过在镀膜层对膜层结构进行功效细分优化组合，通过对功能层材料的选择和厚度的控制使镀膜层具有低辐射率，对吸收层材料的选择和厚度的控制使镀膜层的透过率可调节，使玻璃整体对可见光具有良好的遮蔽作用，对红外线有高的屏蔽效果，且提升了整个膜层结构耐热牢固性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种红外屏蔽热反射玻璃及其制备方法


[0001]本专利技术涉及热反射玻璃
，尤其涉及一种红外屏蔽热反射玻璃及其制备方法。

技术介绍

[0002]热反射玻璃又称阳光控制镀膜玻璃，是一种对太阳光具有反射作用的镀膜玻璃，通常是采用物理或化学方法在玻璃基片的表面镀一层或多层金属或金属氧化物薄膜而成的，其膜色使玻璃呈现丰富的色彩。热反射玻璃能够通过其镀膜层对波长范围为350nm～1800nm的太阳光产生一定的控制作用，即选择性地反射、透过和吸收太阳光，达到节能的效果。
[0003]传统的热反射玻璃，在镀膜层结构设计上较为简单，辐射率高，选择系数小，导致对可见光的遮蔽作用弱，隔热效果差，且颜色性能单一。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种红外屏蔽热反射玻璃及其制备方法，该红外屏蔽热反射玻璃在镀膜层对膜层结构进行功效细分优化组合，通过对功能层材料的选择和厚度的控制使镀膜层具有低辐射率，对吸收层材料的选择和厚度的控制使镀膜层的透过率可调节，使玻璃整体对可见光具有良好的遮蔽作用，对红外线有高的屏蔽效果，且提升了整个膜层结构耐热牢固性。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供一种红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，该方法包括：
[0006]将清洗干燥后的玻璃基片置于磁控溅射区，在真空环境下对所述玻璃基片表面进行磁控溅射，依次溅射沉积形成第一介质组合层、吸收层、第二介质组合层、功能层、第三介质组合层，从而在所述玻璃基片表面形成镀膜层。
[0007]可选地，所述第一介质组合层包括氮化硅层和/或氮化硅铬层，所述第一介质组合层的厚度为18nm
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40nm。
[0008]可选地，在溅射沉积所述第一介质组合层时，采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，溅射功率为50kw
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70kw，中频电源频率为40kHz。
[0009]可选地，所述吸收层包括铬层、镍铬合金层、钛层、硅层中的至少一种，所述吸收层的厚度为1nm
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30nm。
[0010]可选地，在溅射沉积所述吸收层时，采用直流双极脉冲电源在氩气氛围中溅射沉积，溅射功率为2kw
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30kw。
[0011]可选地，所述第二介质组合层为氮化硅层，所述第二介质组合层的厚度为60nm
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100nm。
[0012]可选地，所述功能层包括氮化钛层、氮化钛铌层、氮化铌层、钛铌合金层、钛层、铌层、镍钒合金层中的至少一种，所述功能层的厚度为15nm
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40nm。
[0013]可选地，所述第三介质组合层包括氮化硅层和/或氮化硅钛铝层，所述第三介质组
合层的厚度为16nm
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40nm。
[0014]可选地，在溅射沉积所述第二介质组合层时，采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，溅射功率为50kw
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70kw，中频电源频率为40kHz；在溅射沉积所述功能层时，采用中频电源或直流脉冲电源加旋转阴极在氩气氛围或氩氮氛围中溅射沉积，溅射功率为50kw
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70kw，中频电源频率为40kHz，直流脉冲电源频率为8kw
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40kw；在溅射沉积所述第三介质组合层时，采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，溅射功率为50kw
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70kw，中频电源频率为40kHz。
[0015]为实现上述目的，本专利技术还提供一种红外屏蔽热反射玻璃，包括玻璃基片及镀在所述玻璃基片表面的镀膜层，所述红外屏蔽热反射玻璃基于上述红外屏蔽热反射玻璃的制备方法制备得到，所述镀膜层包括自所述玻璃基片的一侧依次向外设置的第一介质组合层、吸收层、第二介质组合层、功能层、第三介质组合层。
[0016]本专利技术的红外屏蔽热反射玻璃，通过在玻璃基片表面依次镀上第一介质组合层、吸收层、第二介质组合层、功能层、第三介质组合层，对各膜层材料选择及厚度进行层间功效细分优化和组合，使热反射玻璃的辐射率得到降低，颜色多样化可调节幅度得到改善，整个膜层结构的耐热牢固性提升。同时，通过多个材料膜层在不同波段吸收的搭配来实现透过色可灵活调色、内反射可适当降低、外反射率可从低到高的自由选择。此外，还可以采用该膜层结构在白玻基片上镀膜从而替代着色玻璃镀膜颜色，解决着色基片短缺及价格昂贵影响交货期限的问题。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0018]图1为本专利技术红外屏蔽热反射玻璃的结构示意图；
[0019]图2为本专利技术红外屏蔽热反射玻璃实施例一的结构示意图；
[0020]图3为本专利技术红外屏蔽热反射玻璃实施例二的结构示意图。
[0021]本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0022]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0023]需要说明，若本专利技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后厖)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0024]另外，若本专利技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技
术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。
[0025]本专利技术提出一种红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，该制备方法包括：将清洗干燥后的玻璃基片置于磁控溅射区，在真空环境下对所述玻璃基片10表面进行磁控溅射，依次溅射沉积形成第一介质组合层21、吸收层22、第二介质组合层23、功能层24、第三介质组合层25，从而在所述玻璃基片表面形成镀膜层20。
[0026]本专利技术的制备方法制备出的红外屏蔽热反射玻璃100，对各膜层材料选择及厚度进行层间功效细分优化和组合，使热反射玻璃的辐射率得到降低，颜色多样化可调本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将清洗干燥后的玻璃基片置于磁控溅射区，在真空环境下对所述玻璃基片表面进行磁控溅射，依次溅射沉积形成第一介质组合层、吸收层、第二介质组合层、功能层、第三介质组合层，从而在所述玻璃基片表面形成镀膜层。2.如权利要求1所述的红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一介质组合层包括氮化硅层和/或氮化硅铬层，所述第一介质组合层的厚度为18nm
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40nm。3.如权利要求2所述的红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，在溅射沉积所述第一介质组合层时，采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，溅射功率为50kw
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70kw，中频电源频率为40kHz。4.如权利要求1所述的红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述吸收层包括铬层、镍铬合金层、钛层、硅层中的至少一种，所述吸收层的厚度为1nm
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30nm。5.如权利要求4所述的红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，在溅射沉积所述吸收层时，采用直流双极脉冲电源在氩气氛围中溅射沉积，溅射功率为2kw
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30kw。6.如权利要求1所述的红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述第二介质组合层为氮化硅层，所述第二介质组合层的厚度为60nm
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100nm。7.如权利要求1所述的红外屏蔽热反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述功能层包括氮化钛层、氮...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾小绵，
申请(专利权)人：长兴旗滨节能玻璃有限公司天津旗滨节能玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：