显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种显示面板及其制备方法，本发明专利技术在剥离光阻图案之前，在辅助层和栅极的两侧均制备有致密的保护层，栅极的材料为金属铜，栅极的两侧形成的保护层为氧化铜膜层或者氧化铜和氧氟化铜叠加膜层，辅助层的材料为金属钼，辅助层的两侧形成的保护层为氧化钼膜层，保护层对栅极起保护作用，避免后续剥离光阻图案的刻蚀液进一步降低对栅极的损伤，同时降低图案化功能金属层过程形成的底切结构发生的风险，减少产品静电现象和降低产品黑屏发生率；同时形成保护层过程中通入的氧气可以去除部分光阻图案，减少剥离光阻图案的时间，提升产品的生产速度。升产品的生产速度。升产品的生产速度。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及显示
，具体地，涉及一种显示面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前，在液晶显示器(TFT
‑
LCD)的加工制造领域，导电层金属的材料主要以铝和钼为主，铝和钼的优点在于成膜工艺简单。作为导电金属材料，铜的导电率要远远优于铝，对于15.0寸以上的显示屏，采用铜取代铝作为导电金属材料，其面板分辨率可以提升35.2％，亮度可以提高32％，同时画面闪烁(flicker)和线负载都能大大降低。因此，针对目前高分辨率面板的市场需求，将使用铜取代铝应用到未来的显示面板中。
[0003]TFT
‑
LCD随着产品尺寸不断增大，为了降低栅极配线和数据配线阻抗，将金属铜作为扫描线/数据线电极材料。因金属铜与下方玻璃基板的粘附力较差，需要在玻璃基板上形成钼金属层，在栅极电极制造过程中，栅极电极的制作过程需要经过栅极溅射、栅极图案化、湿法蚀刻、光刻胶剥离后，形成栅极图案。
[0004]栅极湿法蚀刻时，需要蚀刻金属铜和金属钼，蚀刻液体对于金属铜来说较易蚀刻，但对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S10，提供一衬底基板，在所述衬底基板之上制备辅助金属层，在所述辅助金属层之上制备功能金属层；步骤S20，在所述功能金属层之上制备光阻图案，以所述光阻图案为阻挡层，同时对所述辅助金属层和所述功能金属层进行刻蚀，分别形成所需要的辅助层和栅极；步骤S30，在所述辅助层和所述栅极的两侧均制备保护层，然后去除所述光阻图案。2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S10中的所述辅助金属层的材料为金属钼，所述功能金属层的材料为金属铜。3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S30具体包括：将步骤S20中形成的显示面板的部分结构放置在封闭的灰化室中，然后向所述辅助层和所述栅极的两侧通入氧气，以使所述辅助层和所述栅极的两侧形成氧化物薄膜。4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S30还包括：向所述栅极的两侧还通入氟气，以使所述栅极的两侧形成氧化物和氧氟化物叠加膜层。5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S30中的所述栅极的两侧形成的保护层包括栅极材料的氧化物或栅极材料的氟氧化物中的至少一种，所述辅助层的两侧形成的保护层的材料包括辅助层材料的氧化物或辅助...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴灵智，徐俊，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：