用于曝光浮雕前体的设备和方法技术

公开了一种用于曝光浮雕前体(P)的设备，该浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：第一光源(1)，其被配置成照射浮雕前体的第一侧；可移动的第二光源(2)，其被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧；可移动屏蔽件(3)，其位于第一光源与第二光源(2)之间，并且被配置成捕捉第二光源的透过浮雕前体(P)的光的至少一部分；以及移动装置，其被配置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于曝光浮雕前体的设备和方法


[0001]本专利
涉及用于曝光浮雕前体(relief precursor)，特别地涉及印刷版前体，并且更特别地涉及用于正面和背面曝光印刷版前体的设备和方法。

技术介绍

[0002]可以通过将图像信息转移到可成像层上并去除部分可成像层来形成浮雕结构。然后，所形成的浮雕可以用于在印刷步骤中将信息转移到基板上。浮雕前体的示例是印刷版前体。可数字化成像的柔性印刷版前体是已知的，并且通常至少包括尺寸稳定的支撑层、光敏层和可数字化成像层。可数字化成像层可以是例如可激光烧蚀层。在常规印刷版前体的情况下，用贴附于光敏层的掩模(mask)来代替可数字化成像层。
[0003]为了由印刷版浮雕前体生产印刷版，根据现有方法，首先基于待印刷的图像数据将掩模写入可数字化成像层中。在写入掩模之后，通过掩模用辐射曝光该版，使得光敏层在未被掩模覆盖的区域中经历聚合或交联或改变光敏层的溶解性或流动性的反应。在曝光之后，去除掩模和光敏层的未曝光部分的残留物。这可以在清洗装置中用一种或多种液体或通过热显影来进行，其中在热显影中，通过温度升高液化光敏层的未曝光材料并将其去除。
[0004]用于印刷版前体的曝光装置是已知的。曝光装置可以包括用于背面曝光的第一光源和用于正面曝光的第二光源。背面曝光可以使用一组UV(紫外)灯管进行。背面曝光产生在上面生成浮雕结构的固体层(底层)。正面曝光也可以使用一组UV灯管进行，或者可以使用可移动UV光源(例如可移动激光器或LED条)进行。根据需要，一些曝光装置仅进行正面曝光或仅进行背面曝光。在一些情况下，曝光装置能够从两侧曝光，并且本专利技术的实施例涉及这样的情况。
[0005]US2016/0368260A1公开了用于柔性版印刷版的光聚合的自主装置，该版包括主面和与所述主面相对的基部。该装置包括曝光室，在该曝光室中安装所述版的所述基部的至少第一光聚合装置。该装置还包括移动装置，其被配置成沿着进给方向拖动版。第一光聚合装置包括根据大致正交于所述进给方向的方向排列的一排LED。
[0006]US2018/0210345A1公开了从主侧(顶部)以预定辐射密度和从背侧(底部)以预定辐射密度对光敏印刷版进行曝光的方法。方法包括在背面曝光之后以一定的时间延迟执行主曝光。

技术实现思路

[0007]本专利技术实施例的目的是提供用于曝光包括基板层和至少一个光敏层的浮雕前体的设备和方法，其使用第一光源来照射浮雕前体的第一侧，并且使用第二光源来照射浮雕前体的第二侧，同时避免重影并且限制第一光源被第二光源加热。
[0008]根据本专利技术的第一方面，该设备包括第一光源、可移动的第二光源、可移动的屏蔽件和移动装置。第一光源被配置成照射浮雕前体的第一侧。可移动的第二光源被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧。可移动屏蔽件位于第一光源与第二光源之间，并且
被配置成捕捉来自第二光源的透过浮雕前体的光的至少一部分。移动装置被配置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。
[0009]因此，根据本专利技术的实施例，使用了屏蔽件，该屏蔽件与第二光源一起行进，以限制从第二光源朝向第一光源的光量，并且因此限制由第一光源的部件(例如上面安装光元件的支撑件)或者由第一光源附近的部件(例如布置在第一光源上方的遮光件)的反射量。这将防止或减少由反射光生成的重影的存在。进一步地，减少了对第一光源的部件和第一光源附近的部件的加热。特别地，当遮光件存在于第一光源上方时，可以减少第一光源的发热，并且避免其烧毁。
[0010]优选地，第一光源大致在旨在平行于浮雕前体定向的平面中延伸；并且第二光源可在与第一光源的平面平行的平面中移动。第一光源可以包括多个第一发光元件(例如灯管或LED)，该平面因此是多个第一发光元件所位于的平面。类似地，第二光源可以包括多个第二发光元件，该平面因此是多个第二发光元件所位于的平面。
[0011]优选地，第一光源是固定的。然而，在其它实施例中，例如当LED阵列用于第一光源时，第一光源也可以是可移动的。
[0012]优选地，第一光源被配置成照射平面的第一照射区域，并且第二光源被配置成照射所述平面的第二照射区域，其中，所述平面位于屏蔽件与第二光源之间，并且与浮雕前体的第一侧旨在位于的平面相对应，并且其中，术语平面的照射区域由强度高于所述平面中的光强度的最大值的10％的区域限定。当存在承载结构时，该平面与承载结构的支撑面相对应。优选地，第二照射区域比第一照射区域小至少两倍，更优选地小至少三倍，并且最优选地小至少五倍。在典型的实施例中，第一光源用于照射浮雕前体的大致整个第一侧，而第二光源通常以更高的光强度照射浮雕前体的第二侧的更小区域。
[0013]如上所述，屏蔽件被配置成捕捉第二光源发射的透过浮雕前体的电磁辐射的至少一部分。术语“捕捉”应被解释为包括吸收辐射的一部分和/或引导辐射的一部分远离第一光源处或附近的区域。
[0014]优选地，屏蔽件对于从第二光源发射的电磁辐射是不透明的。
[0015]优选地，屏蔽件的面向第二光源的表面被配置成吸收在所述表面上接收的80％以上的电磁辐射，优选地95％以上的电磁辐射。这可以通过具有黑色面来简单地实现。
[0016]优选地，屏蔽件是板状元件，但是其它形状也是可能的。例如，屏蔽件可以是具有黑色外表面的杆或安装在框架中的片材。
[0017]根据可能的实施例，可移动屏蔽件机械地联接到第二光源，使得它们可以容易地同时移动。根据另一实施例，屏蔽件和第二光源可以独立地移动，并且移动装置包括用于移动第二光源的移动装置和用于移动屏蔽件的移动装置。在后一种情况下，控制装置可以控制两个移动装置以获得第二光源和屏蔽件的同步移动。
[0018]根据优选实施例，屏蔽件在旨在在操作中与浮雕前体的第一侧相对应的平面上的垂直投影比第二光源在所述平面上的照射区域大1％至10％，优选地大5％至10％，其中，照射区域由强度高于所述平面中的光强度的最大值的10％的区域限定。
[0019]优选地，该设备还包括承载结构，其被配置用于支撑浮雕前体。承载结构可以位于第二光源与屏蔽件之间。优选地，承载结构对于从第一光源发射的电磁辐射是透明的。承载结构可以是例如透明玻璃板、透明材料的屏幕或透明塑料。
[0020]优选地，承载结构与可移动屏蔽件之间的距离小于50mm，优选地小于20mm，更优选地小于10mm。这样，可以增加屏蔽件的屏蔽能力，同时保持屏蔽件的尺寸有限。
[0021]优选地，承载结构是板，承载板的厚度在2mm至20mm之间。优选地，第二光源与承载结构之间的距离在10mm至100mm之间。
[0022]优选地，第二光源包括支撑件(例如印刷电路板(PCB))，在该支撑件上安装多个发光元件(例如LED阵列)。优选地，支撑件具有小于500mm(例如在100mm至400mm之间)的宽度。
[0023]可选地，可以提供多个第二光源和多个屏蔽件。例如，可以提供两个第二光源和两个相关联的屏蔽件，各个第二光源旨在沿着浮本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于曝光浮雕前体(P)的设备，所述浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：
‑
第一光源(1)，其被配置成照射所述浮雕前体的第一侧；
‑
可移动的第二光源(2)，其被配置成照射所述浮雕前体的与所述第一侧相对的第二侧；
‑
可移动的屏蔽件(3)，其位于所述第一光源与所述第二光源(2)之间，并且被配置成捕捉所述第二光源的透过所述浮雕前体(P)的光的至少一部分；和
‑
移动装置，其被配置成使所述可移动的屏蔽件与所述第二光源同时移动。2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一光源大致在旨在与所述浮雕前体平行的平面中延伸；并且其中，所述第二光源能够在与所述第一光源的所述平面平行的平面中移动。3.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源是固定的。4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源被配置成照射平面的第一照射区域，并且所述第二光源被配置成照射所述平面的第二照射区域，其中，所述平面位于所述屏蔽件与所述第二光源之间并且与所述浮雕前体的所述第一侧旨在位于的平面相对应，其中，所述第二照射区域比所述第一照射区域小至少两倍，更优选地小至少三倍，并且最优选地小至少五倍。5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件对于从所述第二光源发射的电磁辐射是不透明的。6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件的面向所述第二光源的表面被配置成吸收在所述表面上接收的80％以上的电磁辐射，优选地95％以上的电磁辐射。7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述可移动的屏蔽件机械地联接到所述第二光源或者可独立地移动。8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件在位于所述屏蔽件与所述第二光源之间的并且与所述浮雕前体的所述第一侧旨在位于的平面相对应的平面上的垂直投影比所述第二光源在所述平面上的照射区域大1％至10％，优选地大5％至10％，其中，所述照射区域由强度高于区域中的光强度的最大值的10％的所述区域限定。9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，还包括承载结构(4)，所述承载结构(4)被配置用于支撑所述浮雕前体，所述承载结构位于所述第二光源与所述屏蔽件之间。10.根据前一权利要求所述的设备，其中，所述承载结构对于从所述第一光源发射的电磁辐射是透明的。11.根据权利要求9或10所述的设备，其中，所述承载结构与所述可移动的屏蔽件之间的距离(d)小于50mm，优选地小于20mm，更优选地小于10mm。12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，还包括冷却装置，所述冷却装置被配置成冷却所述可移动的屏蔽件。13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源选自包括多个LED、荧光灯、闪光灯、灯管组、LCD屏幕、光投影系统(具有可移动反射镜)、太阳光收集系统、及其组合的组。
14.根据前述权利要求中任一项所述的设备，还包括控制装置，所述控制装置用于根据所述可移动的屏蔽件的位置来控制所述第一光源。15.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源包括灯管组，并且其中，所述控制装置被配置用于在第一时间段期间为所述第一光源供电并且用于在随后的时间段期间为所述第二光源供电以及移动所述第二光源。16.根据前述权利要求中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：德克，
申请(专利权)人：阿合斯印前有限公司，
类型：发明
国别省市：