一种光发射电子束曝光机制造技术

本公开实施例提出一种光发射电子束曝光机，光发射电子束曝光机，其特征在于，包括控制装置、激光光源、电光调制器、光电发射探针、电子镜筒以及电驱动工件台。本公开实施例通过采用光电效应发射电子束替代传统热场发射电子束，在这种新的电子束发生技术下，采用电光调制器调制激发光电子的激光束得到曝光需要的电子脉冲，改变现有电子束曝光机的电子镜筒中电磁透镜组和扫描技术，确保电子束聚焦和电子束扫描定位的精度；本申请披露的光电发生电子束曝光机的图形发生器频率理论上可以达到50GHz

【技术实现步骤摘要】
一种光发射电子束曝光机


[0001]本公开涉及一种芯片或者集成电路的制造领域，尤其涉及一种光发射电子束曝光机。

技术介绍

[0002]电子束曝光时研究和研发常用的纳米光刻设备，它利用图形发生器产生的电压脉冲，经过放大后控制电子镜筒中的束闸实现对电子束的开关，结合镜筒中XY面内的扫描，产生纳米级图形。得益于扫描电镜、透射电镜技术电磁透镜技术、扫描技术的发展，电子束曝光借用这些先进的真空电子控制技术，利用图形发生器能实现控制直径为1
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2nm高度聚焦的电子束斑，在XY面内实现亚纳米精度的定位。当涂覆电子胶的晶圆或试样位于电磁透镜焦平面上时，利用图形发生器、电磁透镜组和扫描线圈，就可以得到小于10nm的曝光图案。这就是电子束曝光机的工作原理。
[0003]图形发生器作为电子束曝光机的核心部件，其输出的参数为控制束闸的电压脉冲和控制电子束在晶圆上定位的扫描信号，其中电压脉冲的频率决定电子束曝光的速度。现有电子束曝光机的图形发生器采用数字信号处理(Digital Signal Processing,DSP)实现，输出电压控制电子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光发射电子束曝光机，其特征在于，包括控制装置、激光光源、电光调制器、光电发射探针、电子镜筒以及电驱动工件台，所述激光光源发出的激光通过所述电光调制器后使所述光电发射探针发出电子束脉冲，所述控制装置与所述电光调制器、所述电子镜筒以及所述电驱动工件台连接，且所述控制装置能够基于设计版图控制所述电光调制器对所述激光光源发射的激光进行调节、控制所述电子镜筒对所述光电发射探针发出的电子束脉冲进行聚焦扫描以及控制所述电驱动工作台进行运动。2.根据权利要求1所述的光发射电子束曝光机，其特征在于，所述控制装置能够将所述设计版图按照加工工艺分解成多层图案，并基于每层图案生成光刻数据，基于所述光刻数据生成针对所述电光调制器的电光调制控制信号、针对所述电子镜筒的扫描信号以及针对所述电驱动控制台的工件台控制信号。3.根据权利要求1所述的光发射电子束曝光机，其特征在于，所述光发射电子束曝光机还包括真空系统，所述真空系统与所述电子镜筒和所述电驱动工作台相连，且所述控制装置能够控制真空系统使所述电子镜筒和所述电驱动工作台处于真空环境。4.根据权利要求3所述的光发射电子束曝光机，其特征在于，所述真空系统由真空泵、高真空泵和超真空泵组成，且所述真空泵能够使所述电子镜筒和所述电驱动工作台处于一级真空环境，所述高真空泵能够使所述电子镜筒和所述电驱动工作台处于二级真空环境，所述超真空泵能够使所述电子镜筒处于三级真空环境，且所述一级真空环境的真空度、所述二级真空环境的真空度和所述三级真空环境的真空度依次增加。5.根据权利要求1所述的光发射电子...

【专利技术属性】
技术研发人员：李西军，
申请(专利权)人：西湖大学，
类型：发明
国别省市：