辐射源设备及其使用方法技术

技术编号:34790722 阅读:39 留言:0更新日期:2022-09-03 19:54
一种辐射源设备及其使用方法,辐射源设备包括容器、激光源、收集器和反射镜。容器具有出口孔。激光源位于容器的一端并用以激发靶材料以形成电浆。收集器设置在容器中并用以收集由电浆发出的辐射并将收集的辐射引导至容器的出口孔。反射镜在容器中并且用以向容器的边缘反射激光光束。反射激光光束。反射激光光束。

【技术实现步骤摘要】
辐射源设备及其使用方法


[0001]本揭露是关于辐射源设备及其使用方法。

技术介绍

[0002]光刻微影是一种制程,通过该制程,光照射具有图案的遮罩,以将该图案转移到覆盖半导体基板的感光材料上。在半导体产业的历史上,通过减少微影光学辐射源的曝光波长,来提高光刻微影分辨率,已经实现了更小的集成晶片最小特征尺寸。极紫外(extreme ultraviolet;EUV)微影,使用了极紫外(extreme ultraviolet;EUV)光,是新兴技术节点有望的下一代微影方案。

技术实现思路

[0003]根据本揭露的部分实施方式,提供一种辐射源设备。辐射源设备包含容器、激光源、收集器以及反射镜。容器具有出口孔。激光源设置于容器的一端,并用以发出激光光束,以激发靶材料而形成电浆。收集器设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的该辐射引导至该容器的该出口孔。反射镜位于该容器中,并用以朝向该容器的一边缘反射该激光光束。
[0004]根据本揭露的部分实施方式,提供一种辐射源设备。辐射源设备包含容器、激光源、收集器、燃料接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种辐射源设备,其特征在于,包含:一容器,具有一出口孔;一激光源,设置于容器的一端,并用以发出一激光光束,以激发一靶材料而形成一电浆;一收集器,设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的该辐射引导至该容器的该出口孔;以及一反射镜,位于该容器中,并用以朝向该容器的一边缘反射该激光光束。2.如权利要求1所述的辐射源设备,其特征在于,还包含:一水平遮挡杆,位于该容器中,并支撑该反射镜。3.如权利要求1所述的辐射源设备,其特征在于,其中该反射镜正位于该容器的该出口孔以及该收集器的一输出窗之间。4.如权利要求1所述的辐射源设备,其特征在于,其中该反射镜是一凹面镜。5.一种辐射源设备,其特征在于,包含:一容器,具有一出口孔;一激光源,设置于容器的一端,并用以发出一激光光束,以激发一靶材料而形成一电浆;一收集器,设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的...

【专利技术属性】
技术研发人员:凃韦仲余昇刚简上傑陈立锐刘恒信
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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