辐射源设备及其使用方法技术

技术编号:34790722 阅读:12 留言:0更新日期:2022-09-03 19:54
一种辐射源设备及其使用方法,辐射源设备包括容器、激光源、收集器和反射镜。容器具有出口孔。激光源位于容器的一端并用以激发靶材料以形成电浆。收集器设置在容器中并用以收集由电浆发出的辐射并将收集的辐射引导至容器的出口孔。反射镜在容器中并且用以向容器的边缘反射激光光束。反射激光光束。反射激光光束。

【技术实现步骤摘要】
辐射源设备及其使用方法


[0001]本揭露是关于辐射源设备及其使用方法。

技术介绍

[0002]光刻微影是一种制程,通过该制程,光照射具有图案的遮罩,以将该图案转移到覆盖半导体基板的感光材料上。在半导体产业的历史上,通过减少微影光学辐射源的曝光波长,来提高光刻微影分辨率,已经实现了更小的集成晶片最小特征尺寸。极紫外(extreme ultraviolet;EUV)微影,使用了极紫外(extreme ultraviolet;EUV)光,是新兴技术节点有望的下一代微影方案。

技术实现思路

[0003]根据本揭露的部分实施方式,提供一种辐射源设备。辐射源设备包含容器、激光源、收集器以及反射镜。容器具有出口孔。激光源设置于容器的一端,并用以发出激光光束,以激发靶材料而形成电浆。收集器设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的该辐射引导至该容器的该出口孔。反射镜位于该容器中,并用以朝向该容器的一边缘反射该激光光束。
[0004]根据本揭露的部分实施方式,提供一种辐射源设备。辐射源设备包含容器、激光源、收集器、燃料接收组件、滴管以及反射镜。容器具有一出口孔。激光源设置于容器的一端,并用以发出激光光束,以激发靶材料而形成电浆。收集器设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的该辐射引导至该容器的该出口孔。燃料接收组件环绕该容器。滴管连接该燃料接收组件的一底部。反射镜位于该容器中,并用以朝向该至少一滴管反射该激光光束。
[0005]根据本揭露的部分实施方式,方法包含产生一靶液滴至一容器中的一激发区域;向该激发区域发射一激光光束,以使该靶液滴被该激光光束加入而产生辐射;以及在该激光光束经过该激发区域后,将该激光光束导向该容器的一第一边缘。
附图说明
[0006]本揭露的态样在与随附附图一起研读时自以下详细描述内容来最佳地理解。应注意,根据行业中的标准规范,各种特征未按比例绘制。实际上,各种特征的尺寸可为了论述清楚经任意地增大或减小。
[0007]图1是根据本揭露的部分实施方式的微影系统的示意图;
[0008]图2A以及图2B是根据本揭露的部分实施方式的从不同侧观赏的极紫外辐射源的示意图;
[0009]图3是根据本揭露的部分实施方式的使用极紫外光辐射源的方法的流程图;
[0010]图4A描述根据本揭露的部分实施方式的极紫外光辐射源中的激光光束方法的光路图;
[0011]图4B描述图4A的极紫外光辐射源中的一部分的剖面示意图;
[0012]图5A是根据本揭露的部分实施方式的反射镜的示意图;
[0013]图5B是图5A的反射镜的示意图;
[0014]图5C是根据本揭露的部分实施方式的镜子的斜向反射率对波长的曲线图;
[0015]图5D是根据本揭露的部分实施方式的金属镜以及介电镜的宽带高反射(high

reflection;HR)镀膜范围的曲线图;
[0016]图6描述根据本揭露的部分实施方式中沿着激光发出的方向观赏的极紫外光辐射源;
[0017]图7是根据本揭露的部分实施方式中反射镜的示意图;
[0018]图8A是根据本揭露的部分实施方式中极紫外光辐射源的立体示意图;
[0019]图8B展现图8A的极紫外光辐射源的一放大部分。
[0020]【符号说明】
[0021]100:微影系统
[0022]110:照射器
[0023]120:遮罩台
[0024]130:遮罩
[0025]140:投影光学盒
[0026]150:基板台
[0027]200:辐射源
[0028]210:容器
[0029]210O:出口孔
[0030]210V1,210V2,210V3,210V4:边缘
[0031]212:盖体
[0032]220:激光源
[0033]230:收集器
[0034]240:液滴产生器
[0035]242:贮存器
[0036]244:喷嘴
[0037]250:液滴捕集器
[0038]260:锥状结构
[0039]270:气体供应模块
[0040]280:排气系统
[0041]282:排气管线
[0042]284:泵浦
[0043]286:气体出口结构
[0044]290:中间聚焦帽模块
[0045]310:通管
[0046]320:导热特征
[0047]322:环形部分
[0048]324:延伸管
[0049]330:加热器
[0050]340:隔热罩
[0051]360:容纳结构
[0052]360O:入口
[0053]400:燃料桶
[0054]400O:开口
[0055]600:监测模块
[0056]EL:光
[0057]W:基板
[0058]X,Y,Z,G:方向
[0059]TD:燃料材料
[0060]LB:激光光束
[0061]LW:激光波长
[0062]LBD:光束直径
[0063]HO:水平遮挡杆
[0064]HO1:杆部
[0065]HO2:头部
[0066]FR1,FR2,FR3:燃料接收组件
[0067]DP:滴管
[0068]V1,V2:叶片
[0069]GU1:檐沟结构
[0070]GO1:排水孔
[0071]RM:镜
[0072]RM1:本体
[0073]RM2:反射层
[0074]RM3:涂层
[0075]RMOX:光轴
[0076]RMD:直径
[0077]RMO:通孔
[0078]CS1,CS2:凹面
[0079]M:方法
[0080]S1,S2,S3,S4:步骤
[0081]C1:电浆形成点
[0082]OA:光轴
[0083]OW:输出窗
[0084]LBS,LBS':杂散激光光束
[0085]IR:照射区域
[0086]IRW:宽度
[0087]D1:距离
[0088]GA:气体
[0089]A1:角度
[0090]SR:护罩
具体实施方式
[0091]以下揭示内容提供用于实施所提供标的物的不同特征的许多不同实施方式、或实例。下文描述组件及配置的特定实例以简化本揭露。当然,这些仅为实例且非意欲为限制性的。举例而言,在以下描述中第一特征于第二特征上方或上的形成可包含第一特征与第二特征直接接触地形成的实施方式,且亦可包含额外特征可形成于第一特征与第二特征之间使得第一特征与第二特征可不直接接触的实施方式。此外,本揭露在各种实例中可重复参考数字及/或字母。此重复是出于简单及清楚本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种辐射源设备,其特征在于,包含:一容器,具有一出口孔;一激光源,设置于容器的一端,并用以发出一激光光束,以激发一靶材料而形成一电浆;一收集器,设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的该辐射引导至该容器的该出口孔;以及一反射镜,位于该容器中,并用以朝向该容器的一边缘反射该激光光束。2.如权利要求1所述的辐射源设备,其特征在于,还包含:一水平遮挡杆,位于该容器中,并支撑该反射镜。3.如权利要求1所述的辐射源设备,其特征在于,其中该反射镜正位于该容器的该出口孔以及该收集器的一输出窗之间。4.如权利要求1所述的辐射源设备,其特征在于,其中该反射镜是一凹面镜。5.一种辐射源设备,其特征在于,包含:一容器,具有一出口孔;一激光源,设置于容器的一端,并用以发出一激光光束,以激发一靶材料而形成一电浆;一收集器,设置于该容器中,并用以收集由该电浆发出的一辐射,且将收集的...

【专利技术属性】
技术研发人员:凃韦仲余昇刚简上傑陈立锐刘恒信
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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