卡盘、基板保持装置、基板处理装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供通过使隔壁和凸部的配置位置成为规定的关系而可使基板的扭曲减少的卡盘、基板保持装置、基板处理装置以及物品制造方法。一种用于吸附并保持基板的卡盘，其特征在于，包括与被吸附并保持的基板的背面抵接的多个凸部、环状的隔壁以及配置了多个凸部和隔壁的底部，多个凸部由将被配置在隔壁的外侧的第1凸部以及被配置在隔壁的内侧且隔着隔壁与第1凸部相邻的位置的第2凸部作为一个组的多个组构成，在设多个组的每一个组所包含的第1凸部和第2凸部之间的距离为L，设该第2凸部和隔壁之间的距离为s时，满足s/L＜0.5。满足s/L＜0.5。满足s/L＜0.5。

【技术实现步骤摘要】
卡盘、基板保持装置、基板处理装置以及物品制造方法


[0001]本专利技术涉及卡盘、基板保持装置、基板处理装置以及物品制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，对于半导体元件制造等所使用的曝光装置(缩小投影曝光装置)，用于应对元件微细化的高NA化(高数值孔径化)逐渐发展。虽然通过高NA化，提高了分辨率，但是，有效的焦点深度却减少。因此，为了一面维持分辨率，一面确保充分的实用深度，谋求了晶片平滑(基板表面的平面度)的改善，例如，减轻投影光学系统的像面弯曲，改善晶片(基板)的厚度不均，提高用于吸附并保持晶片的卡盘的平面精度等。
[0003]作为使基板表面的平面度降低的原因，有卡盘和基板之间的异物夹入。若夹入异物，则存在夹入了的部分的基板变形而隆起从而导致产生向基板形成的图案的形成不良以及成品率降低的情况。为了准确地避免这样的异物造成的成品率降低，使用使卡盘和基板的接触率大幅减少的所谓使用了销(凸部)的销接触式卡盘(销卡盘)。
[0004]在使用了该销卡盘的情况下，还存在基板在凸部间因真空吸引力而变形、挠曲(扭曲)从而基板变形导致基板表面的平面度降低的情况，提出了用于对此进行改善的各种方案。例如，在日本专利4298078号公报中，将包围多个凸部那样的环状的隔壁(凸缘)设置在销卡盘，将该隔壁配置在外周侧的凸部和作为与外周侧的凸部相邻的凸部的内周侧的凸部之间。而且，作为该隔壁的配置位置，配置成尽可能接近外周部侧的凸部。
[0005]另外，在日本特开2001
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185607号公报中，将隔壁配置在与被配置在最外周侧的凸部相比靠外侧的位置或者最外周侧的凸部和与最外周侧的凸部相邻的内周侧的凸部之间。作为该隔壁的配置位置，将隔壁配置在从最外周侧的凸部和与最外周侧的凸部相邻的内周侧的凸部的距离的中心起的外周方向的规定范围内的位置。
[0006]若真空吸附基板，则隔壁的内侧产生被保持为大致真空压力的吸附力，但是，隔壁的外侧为大气压，几乎不产生吸附力。在日本专利4298078号公报以及日本特开2001
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185607号公报中，为了使吸附力尽量作用到基板的外侧，将隔壁配置在靠近外周侧凸部的位置。但是，因为吸附力作用到基板的外侧，所以，存在基板表面的平面度降低、基板的扭曲(形变)变大的问题。

技术实现思路

[0007]在本专利技术中，其目的是提供例如可通过使隔壁和凸部的配置位置成为规定关系而使基板的扭曲减少的卡盘。
[0008]作为本专利技术的一个方面的卡盘，其特征在于，该卡盘包括与被吸附并保持的基板的背面抵接的多个凸部、环状的隔壁以及配置了多个凸部和隔壁的底部，多个凸部由将被配置在隔壁的外侧的第1凸部以及被配置在隔壁的内侧且隔着隔壁与第1凸部相邻的位置的第2凸部作为一个组的多个组构成，在设多个组的每一个组所包含的第1凸部和第2凸部之间的距离为L，设该第2凸部和隔壁之间的距离为s时，满足s/L＜0.5。
[0009]根据附图的以下示例性实施例的描述，本专利技术的其他特征将变得显而易见。
附图说明
[0010]图1是例示实施例1的曝光装置的结构的示意图。
[0011]图2是例示在受到等分布载荷的单侧固定且单侧自由的梁的材料力学模型的图。
[0012]图3A以及图3B是例示实施例1的基板保持装置的图。
[0013]图4A以及图4B是例示悬臂梁中的材料力学模型的图。
[0014]图5是例示实施例1的形变相对于隔壁的配置位置的关系的图。
[0015]图6A以及图6B是例示实施例2的基板保持装置的图。
[0016]图7A以及图7B是例示实施例3的基板保持装置的图。
[0017]图8是例示没有实施例3的外周侧凸部的场合的悬臂梁中的材料力学模型的流程图。
[0018]图9是例示实施例3的卡盘的剖视图的图。
[0019]图10A以及图10B是例示实施例5的基板保持装置的图。
[0020]图11是例示设备的制造工艺的流程图。
[0021]图12是例示晶片工艺的流程图。
[0022]图13A以及图13B是例示在一般的基板保持装置中使用的销卡盘的图。
具体实施方式
[0023]下面，参照附图，使用实施例和图对本专利技术的优选的实施方式进行说明。另外，在各图中，对相同的部件或要素标注相同的附图标记，省略或简化重复的说明。
[0024](实施例1)
[0025]图1是示意性地例示实施例1的曝光装置100的结构的结构图。曝光装置100是以下装置：相对于抗蚀剂照射从光源照射的光(曝光光线)，使之硬化，能够形成转印了被形成在中间掩模104上的图案的硬化物的图案。
[0026]另外，下面，将与相对于基板110上的抗蚀剂照射的光的光轴平行的方向作为Z轴方向，将在与Z轴方向垂直的平面内相互正交的两个方向作为X轴方向以及Y轴方向。实施例1的曝光装置100可应用于对多个图案形成区域(曝光区域)依次进行聚焦驱动的装置以及依次进行曝光的装置(投影曝光装置、基板处理装置)等。下面，参照图1，说明实施例1的曝光装置100。另外，针对实施例1的曝光装置100，作为分步重复方式的曝光装置进行说明。
[0027]基板(晶片)110是表面涂敷了通过曝光光线有效地引起化学反应的感光剂(抗蚀剂)的被处理基板。基板110使用玻璃、陶瓷、金属、硅、树脂等，也可以根据需要，在其表面形成由不同于基板110的材料构成的部件。另外，基板110也可以是砷化镓晶片、复合粘接晶片、材料含有石英的玻璃晶片、液晶面板基板、中间掩模等各种基板。另外，外形形状也不仅是圆形，也可以是方形等，在这种情况下，后述的卡盘1的外形也只要做成与基板外形匹配的形状即可。
[0028]中间掩模(原版)104被载置在成为可在与投影光学系统106的光轴正交的平面内以及该光轴方向移动的结构的中间掩模载台103上。中间掩模104具有矩形的外周形状，在与基板110相向的面(图案面)具有图案部，所述图案部具备被三维状形成的图案(电路图案
等应向基板转印的凹凸图案)。中间掩模104由可使光透过的材料例如石英构成。
[0029]实施例1的曝光装置100还作为基板处理装置发挥功能，包括基板保持装置101、基板载台102、中间掩模载台103、照明光学系统105、投影光学系统106、离轴镜107、测量部108和控制部109。
[0030]基板保持装置101包括用于吸附并保持基板110的卡盘1、对基板110的背面和卡盘1之间的空间进行吸引(排气)的作为真空源的未图示的吸引部和控制吸引部的未图示的控制部。实施例1中的基板保持装置101的细节将在后面阐述。
[0031]基板载台102具备经基板保持装置101保持基板110的θZ倾斜载台、支撑θZ倾斜载台的未图示的XY载台和支撑XY载台的未图示的底座。基板载台102由线性马达等驱动装置(未图示)驱动。驱动装置可在X、Y、Z、θX、θY、θZ这六轴方向驱动，由后述的控制部109控制。另外，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种卡盘，用于吸附并保持基板，其特征在于，上述卡盘包括：与被吸附并保持的上述基板的背面抵接的多个凸部；环状的隔壁；以及配置了上述多个凸部和上述隔壁的底部，上述多个凸部由将被配置在上述隔壁的外侧的第1凸部以及被配置在上述隔壁的内侧且隔着上述隔壁与上述第1凸部相邻的位置的第2凸部作为一个组的多个组构成，在设上述多个组的每一个组所包含的上述第1凸部和上述第2凸部之间的距离为L，设该第2凸部和上述隔壁之间的距离为s时，满足s/L＜0.5。2.如权利要求1所述的卡盘，其特征在于，上述隔壁是比上述多个组的每一个组所包含的上述第2凸部低的高度。3.如权利要求1所述的卡盘，其特征在于，上述隔壁由相邻的双层的隔壁构成。4.如权利要求3所述的卡盘，其特征在于，上述双层的隔壁中的外侧的隔壁的高度比上述多个组的每一个组所包含的上述第1凸部低。5.如权利要求1所述的卡盘，其特征在于，在上述底部具备用于对上述隔壁的内周侧进行吸引的第1吸引口。6.如权利要求3所述的卡盘，其特征在于，在上述底部具备用于对上述双层的隔壁之间进行吸引的第2吸引口。7.如权利要求1所述的卡盘，其特征在于，上述隔壁的直径比上述基板的直径小。8.如权利要求1所述的卡盘，其特征在于，上述卡盘具有作为与上述多个凸部不同的凸部的第3凸部。9.如权利要求1所述的卡盘，其特征在于，在设上述多个组的每一个组所包含的上述第1凸部的高度为ho，设上述多个组的每一个组所包含的上述第2凸部的高度为hi时，满足hi＞ho。10.如权利要求9所述的卡盘，其特征在于，上述多个组的每一个组所包含的上述第1凸部是被配置在上述底部的上述多个凸部内的被配置在最外周侧的凸部。11.如权利要求9所述的卡盘，其特征在于，上述隔壁的高度为上述多个组的每一个组所包含的上述第2凸部的高度以下。12.如权利要求9所述的卡盘，其特征在于，在设上述多个组的每一个组所包含的上述第1凸...

【专利技术属性】
技术研发人员：神谷重雄，是永伸茂，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：