一种排废机构及光刻胶涂覆平台制造技术

本发明专利技术属于半导体行业中光刻胶涂覆领域，具体地说是一种排废机构及光刻胶涂覆平台，包括废液盒组件及与废液盒组件相连通的排废接头组件，废液盒组件包括废液盒盖、废液盒桶及废液盒底座，废液盒底座安装于涂胶单元底板上，废液盒桶插设于废液盒底座内，废液盒桶顶部安装有废液盒盖；排废接头组件包括旋紧板、上接头及下接头，上接头的上部与废液盒底座螺纹连接、下部与下接头的上部插接，并与下接头的上部相对转动，下接头的下部为排废接头组件的出口；上接头的上表面设有旋紧板，通过在废液盒底座上方旋拧旋紧板实现上接头与废液盒底座的螺纹连接。本发明专利技术的废液盒组件与排废接头组件无需先进行固定，而是可作为相互分离的个体任意装拆。个体任意装拆。个体任意装拆。

【技术实现步骤摘要】
一种排废机构及光刻胶涂覆平台


[0001]本专利技术属于半导体行业中光刻胶涂覆领域，具体地说是一种排废机构及光刻胶涂覆平台。

技术介绍

[0002]涂胶机的核心单元是涂胶单元，其主要的工作原理是：通过胶臂运动将胶管对准晶圆圆心，将定量的光刻胶滴到晶圆表面，然后通过旋转电机带动晶圆旋转，离心力使光刻胶均匀地分布在晶圆表面。
[0003]为避免因误操作致使光刻胶溢出并流到单元处造成污染，及方便润湿溶剂顺利排出，在涂胶单元处设有专门的排废机构。该排废机构主要包括废液盒组件、排废接头、管箍、排废管及废液桶。光刻胶/溶剂经废液盒流出后，先后通过排废接头和排废管，最终流到废液桶中，以完成收集。
[0004]由于涂胶单元的空间限制，排废接头的出口向需与竖直方向成120
°
，以利于排废管的安装。
[0005]涂胶机在实际工作中，需经常拆装排废机构，具体是拆掉排废接头和排废管，清洗去除残留在排废管中的已经固化的光刻胶等物质，避免排废管堵塞，影响工艺和生产。
[0006]现有的排废机构主要有以下缺点：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种排废机构，其特征在于：包括废液盒组件(1)及与所述废液盒组件(1)相连通的排废接头组件(3)，所述废液盒组件(1)包括废液盒盖(101)、废液盒桶及废液盒底座(104)，所述废液盒桶及废液盒底座(104)均为中空结构，所述废液盒底座(104)安装于涂胶单元底板(2)上，所述废液盒桶插设于废液盒底座(104)内，所述废液盒桶顶部安装有废液盒盖(101)；所述排废接头组件(3)包括旋紧板(301)、上接头(302)及下接头(304)，所述上接头(302)及下接头(304)均为中空结构，所述上接头(302)的上部与废液盒底座(104)螺纹连接，所述上接头(302)的下部与下接头(304)的上部插接，并与所述下接头(304)的上部相对转动，所述下接头(304)的下部为排废接头组件(3)的出口；所述上接头(302)的上表面设有旋紧板(301)，通过在所述废液盒底座(104)上方旋拧旋紧板(301)实现所述上接头(302)与废液盒底座(104)的螺纹连接。2.根据权利要求1所述的排废机构，其特征在于：所述废液盒盖(101)上开设有胶嘴接口(105)。3.根据权利要求1所述的排废机构，其特征在于：所述废液盒底座(104)底板开孔的边缘沿轴向向下延伸，并在延伸部的内表面制有用于与所述上接头(302)螺纹连接的内螺纹。4.根据权利要求1所述的排废机构，其特征在于：所述上接头(302)的上部外表面制有用于废液盒底座(104)螺纹连接的外螺纹(306)。5.根据权利要求1所述的排废机构，其特征在于：所述下接头(304)上部的内壁沿圆周方向非均布地...

【专利技术属性】
技术研发人员：于威达，张怀东，郭生华，李浩楠，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：