一种光引发SiO2/CeO2杂化壳层自修复微胶囊及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光引发SiO2/CeO2杂化壳层自修复微胶囊及其制备方法。制备方法为：向表面活性剂的水溶液中，加入SiO2微胶囊和Ce源，实现Ce

【技术实现步骤摘要】
一种光引发SiO2/CeO2杂化壳层自修复微胶囊及其制备方法


[0001]本专利技术涉及微胶囊制备方法
，尤其涉及一种光引发SiO2/CeO2杂化壳层自修复微胶囊及其制备方法。

技术介绍

[0002]聚合物复合材料保护涂层，因具有质量轻、柔性好、热稳定性高等优点广泛应用在航天器上。然而航天器在轨运行期间，其航天器涂层会受到多种恶略太空环境(UV辐照、原子氧、高真空、冷热循环、空间碎片等)的影响，产生微裂纹，从而影响材料的尺寸稳定性、物理性能及力学性能。传统的检测及修复的方法不适用于航天器涂层。因此具有自修复能力的聚合物复合涂层，可修复微裂纹，从而显著延长材料的使用寿命。
[0003]微胶囊型自修复材料由于其具有自修复损伤的能力而得到广泛关注。传统的微胶囊自修复材料是将微胶囊化的修复剂及催化剂分别分散在基质中。然而这些材料的应用前景受到组分分布不均，催化剂失活，自修复效率低等因素的限制。因此，作为替代，由外界刺激(水、热、氧、光等)引发的单微胶囊自修复体系具有无催化剂及简化自修复过程的特点。
[0004]考虑到空间环境中充足本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光引发SiO2/CeO2杂化壳层自修复微胶囊的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)向表面活性剂的水溶液中，加入SiO2微胶囊和Ce源，实现Ce
3+
在SiO2微胶囊壳层中的吸附；步骤(2)向步骤(1)得到的反应体系中加入氨水，实现氢氧化铈或铈氨络合物的原位沉积，得到光引发SiO2/CeO2杂化壳层自修复微胶囊；其中，步骤(1)中，所述SiO2微胶囊为以SiO2为囊壳，以环氧树脂和光引发剂为囊芯的微胶囊。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述表面活性剂选自聚醚F127和聚醚P123中的任一种。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述Ce源为可溶性铈盐。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述表面活性剂的水溶液的浓度为12.8～16g/L。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述SiO2微胶囊的用量为每50mL所述表面活性剂的水溶液对应2.0～2.5g SiO2微胶囊；优选地，步骤(1)中，所述Ce源的用量以Ce的质量计，每50mL所述表面活性剂的水溶液对应0.3～0.5g Ce。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的反...

【专利技术属性】
技术研发人员：王海燕，李盼华，卢章，常靓，田克松，郭万春，
申请(专利权)人：燕山大学，
类型：发明
国别省市：