一种分散装置制造方法及图纸

技术编号:34744520 阅读:59 留言:0更新日期:2022-08-31 18:37
本发明专利技术公开一种分散装置,涉及研磨设备技术领域;包括研磨筒组件、分离组件和分散组件;所述分散组件设置于所述研磨筒组件的研磨腔内,所述分离组件位于所述分散组件上方,且所述分离组件的分离主轴和分散组件的分散主轴同心布置;所述分离主轴和分散主轴分别外接有传动装置;所述分散主轴上固定设置有转子,所述转子包括自下至上倾角逐渐减小的多个叶轮式转子,所述叶轮式转子上方固定设置有棒销式转子,所述叶轮式转子底部固定设置有L型转子。本发明专利技术避免了研磨珠沉降到研磨筒底部,削弱了局部磨损不均匀现象。局部磨损不均匀现象。局部磨损不均匀现象。

【技术实现步骤摘要】
一种分散装置


[0001]本专利技术涉及研磨设备
,特别是涉及一种分散装置。

技术介绍

[0002]纳米砂磨装置是一种广泛用于涂料、化工、染料、油漆、油墨、医药以及化妆品等非金属矿行业的高效率超微研磨设备。基于砂磨装置的分散机理,现有砂磨装置的分散装置由于采用棒销式转子形状结构,研磨转子销钉和研磨筒内壁上的销钉相互错开排列,用定盘距相隔开,每个转子上有角度0
°
的圆柱形销钉,物料颗粒和研磨珠不能完全被往上拖起来和旋转起来,研磨珠会沉降到研磨筒底部,造成局部磨损不均匀现象、颗粒分布不够均匀。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种分散装置,以解决上述现有技术存在的问题,避免了研磨珠沉降到研磨筒底部,削弱了局部磨损不均匀现象。
[0004]为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:
[0005]本专利技术提供一种分散装置,包括研磨筒组件、分离组件和分散组件;所述分散组件设置于所述研磨筒组件的研磨腔内,研磨腔材质为氮化硅陶瓷,导热性好、硬度大、磨损小,实现浆料无污染、快速散热,所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分散装置,其特征在于:包括研磨筒组件、分离组件和分散组件;所述分散组件设置于所述研磨筒组件的研磨腔内,所述分离组件位于所述分散组件上方,且所述分离组件的分离主轴和分散组件的分散主轴同心布置;所述分离主轴和分散主轴分别外接有传动装置;所述分散主轴上固定设置有转子,所述转子包括自下至上倾角逐渐减小的多个叶轮式转子,所述叶轮式转子上方固定设置有棒销式转子,所述叶轮式转子底部固定设置有L型转子。2.根据权利要求1所述的分散装置,其特征在于:所述研磨筒组件包括固定竖直设置的研磨筒,所述研磨筒外侧固定套设有外筒,所述研磨筒内壁上均匀设置有多个凸台,所述凸台与所述转子相互错开排列。3.根据权利要求2所述的分散装置,其特征在于:所述外筒和研磨筒之间固定设置有多个螺旋状的导流板,相邻两个所述导流板之间分布有冷却水层。4.根据权利要求2所述的分散装置,其特征在于:所述外筒内部开设有保温层,所述保温层为...

【专利技术属性】
技术研发人员:杜保东李统柱金旭东
申请(专利权)人:深圳市尚水智能设备有限公司
类型:发明
国别省市:

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