【技术实现步骤摘要】
一种立式研磨机的进料控制方法及立式研磨机
[0001]本申请涉及研磨机
，具体涉及一种立式研磨机的进料控制方法及立式研磨机。
技术介绍
[0002]在锂电池浆料的生产过程中，需要采用研磨机对浆料进行充分的研磨分散。介质研磨机是一种应用范围广的研磨分散设备，由于不同产品的物料性质、细度要求、工艺条件差异很大，对细度要求可以适量加减研磨介质进行调整。其广泛应用于涂料、染料、油墨、农药、磁带、造纸、皮革、化工等行业的高效研磨设备，具有结构简单、起动稳、连续生产效率高、换色方便、清洗容易、操作简单等优点。
[0003]介质研磨机的工作原理是利用转子旋转带动填充在研磨腔内的研磨介质，研磨介质发生碰撞粉碎物料颗粒。现有的立式介质研磨机，研磨介质受到重力作用可能堆积在腔体底部，也可能受到流体冲击作用堆积在研磨腔一端，造成研磨介质在研磨腔内分布不均匀，研磨介质少的区域碰撞的几率也小，研磨介质堆积的区域研磨介质之间仅发生摩擦无碰撞作用，所以研磨介质分布不均会严重影响研磨效率，同时研磨介质的堆积也会加剧转子和研磨介质的磨损。
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种立式研磨机的进料控制方法，立式研磨机包括具有研磨腔的研磨筒，所述研磨筒的下方设有与所述研磨腔相通进料口，所述研磨筒的上方设有与所述研磨腔相通的出料口；其特征在于，进料控制方法包括：实时获取研磨腔上方的上方研磨介质分布密度信号和研磨腔下方的下方研磨介质分布密度信号；判断同一时间点获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值和所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值的比值是否在预设区间范围内；其中，所述预设区间范围为1
±
a，a＜0.1；若判断结果为否，调节研磨机的进料流量大小，直至获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值和所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值的比值处于所述预设区间范围内；若判断结果为是，保持研磨机的当前进料流量不变。2.根据权利要求1所述的立式研磨机的进料控制方法，其特征在于，当同一时间点获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值和所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值的比值小于所述预设区间范围的最小值时，增大研磨机的进料流量大小；当同一时间点获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值和所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值的比值大于所述预设区间范围的最大值时，减小研磨机的进料流量大小。3.一种立式研磨机的进料控制方法，立式研磨机包括具有研磨腔的研磨筒，所述研磨筒的下方设有与所述研磨腔相通进料口，所述研磨筒的上方设有与所述研磨腔相通的出料口；其特征在于，进料控制方法包括：实时获取研磨腔上方的上方研磨介质分布密度信号和研磨腔下方的下方研磨介质分布密度信号；比较同一时间点获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值和所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值的大小；若同一时间点获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值大于所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值，则减小研磨机的进料流量大小；若同一时间点获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值小于所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值，则增大研磨机的进料流量大小；直至获取的所述上方研磨介质分布密度信号所指示的信号值和所述下方研磨介质分布密度信号所指示的信号值的大小相等。4.根据权利要求1或3所述的立式研磨机的进料控制方法，其特征在于，所述上方研磨介质分布密度信号为第一撞击频率传感器在所述研磨腔上方检测到上方研磨介质撞击频率信号，所述下方研磨介质分布密度信号为第二撞击频率传感器在所述研磨腔下方检测到的下方研磨介质撞击频率信号。5.根据权利要求1或3所述的立式研磨机的进料控制方法，其特征在于，所述上方研磨介质分布密度信号为第一压力传感器单位时间内在所述研磨腔上方检测到上方平均压力信号，所述下方研磨介质分布密度信号为第二压力传感器单位时间内在所述研磨腔下方检测到下方平均压力信号。6.根据权利要求1或3所述的立式研磨机的进料控制方法，其特征在于，所述研磨腔中
的研磨介质为球状研磨介质...
【专利技术属性】
技术研发人员：李统柱，石桥，杜保东，金旭东，
申请(专利权)人：深圳市尚水智能设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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