玻璃盖板清洁剂和清洁方法技术

技术编号:34740229 阅读:24 留言:0更新日期:2022-08-31 18:32
本申请公开玻璃盖板清洁剂和清洁方法,属于玻璃盖板清洁技术领域,其中玻璃盖板清洁方法包括以下步骤:S1,在室温状态的去离子水中浸泡待清洁的玻璃盖板15

【技术实现步骤摘要】
玻璃盖板清洁剂和清洁方法


[0001]本专利技术涉及玻璃盖板清洁
,尤其涉及玻璃盖板清洁剂和清洁方法。

技术介绍

[0002]玻璃的蚀刻是利用氢氟酸与二氧化硅的反应来让玻璃减薄的过程。在一些电子产品的屏幕上会用到对平面度和清洁度要求很高的玻璃盖板。
[0003]目前,玻璃盖板的研磨抛光普遍使用以纳米级氧化铈为主原料的抛光液进行抛光,来达到客户要求的抛光平面度,虽然抛光效果较好,但是,采用上述抛光液抛光后的玻璃盖板如果再使用传统的玻璃盖板清洁剂进行清洗,常常会存在清洁效率较低以及清洁质量较差等问题。在清洁后,玻璃盖板上往往还会有部分污物残留(主要是抛光液成分),严重影响玻璃盖板的品质和品相。

技术实现思路

[0004]本专利技术的一个优势在于提供一种玻璃盖板清洁剂,其中利用清洁剂中各组分的协同效应,能够有效清除附着在玻璃盖板上的抛光液和其他污渍,同时,基于清洁剂所具有的发泡效果,使得不溶于水的一部分污垢质点也可以被泡沫膜黏附,随同泡沫漂浮到溶液的表面,不仅便于在清洁过程中保持清洁剂的品质,进而确保清洁剂的高效清洁,还可以快速清除黏附在玻璃盖板上的微小污渍和固体污垢粒子,单次清洁的清洁度可达90%以上。
[0005]本专利技术的一个优势在于提供一种玻璃盖板清洁方法,其中结合清洁剂的高效、高品质清洁效果、多孔载体的强力吸附作用和超声波空化产生的高压环境影响,能够在玻璃盖板的表面形成持续的、大量的、高压密集爆炸性气泡,快速剥落玻璃盖板表面的各种包括氧化铈颗粒在内的污渍,还能够防止清洁后的氧化铈再次附着在玻璃盖板上,避免出现污渍反弹的现象,从而能够有效提高对玻璃盖板的清洁效率和清洁质量,使得利用该清洁剂单次清洁的玻璃盖板,清洁度可达90%以上。
[0006]为达到本专利技术以上至少一个优势,第一方面,本专利技术提供一种玻璃盖板清洁剂,按质量百分比计,包括以下组分:
[0007]3%~5%的多泡表面活性剂;
[0008]1.5%~4%的络合剂;
[0009]2%~4%的渗透剂;
[0010]2%~7%的分散剂;
[0011]3%~5%的锌盐;
[0012]1%~3%的缓蚀剂;
[0013]1%~2%的发泡剂;
[0014]0.1%~1%的稳泡剂;
[0015]20%~30%的碱性助剂,所述碱性助剂为有机碱和无机碱的混合物,其中所述有机碱和所述无机碱的混合比例为3:2;
[0016]5%~10%质量百分比的多孔载体,所述多孔载体为经强酸和有机酸处理过的纳米活性炭;
[0017]剩余组分为去离子水。
[0018]根据本专利技术一实施例,所述多泡表面活性剂为十二烷基二甲基甜菜碱和烷基苯磺酸盐(LAS)中的任一种或者两种,其中在所述多泡表面活性剂同时包括十二烷基二甲基甜菜碱和烷基苯磺酸盐(LAS)时,十二烷基二甲基甜菜碱和烷基苯磺酸盐(LAS)的质量比为1:1。
[0019]根据本专利技术一实施例,所述络合剂为葡萄糖酸钠和乙二胺四乙酸钠中的任一种或两种,其中在所述络合剂同时包括葡萄糖酸钠和乙二胺四乙酸钠时,葡萄糖酸钠和乙二胺四乙酸钠的质量比为3.3~4.5:1。
[0020]根据本专利技术一实施例,所述渗透剂为醇醚糖苷和醇醚羧酸盐中的任一种或两种,其中在所述渗透剂同时包括醇醚糖苷和醇醚羧酸盐时,醇醚糖苷和醇醚羧酸盐的质量比为1:1。
[0021]根据本专利技术一实施例,所述分散剂为聚马来酸酐(HPMA)、羟基乙叉二膦酸(HEDP)、2-丙烯酰-2-甲基丙磺酸(AMPS)和聚丙烯酸(PAA)中的任一种或多种的组合。
[0022]根据本专利技术一实施例,所述锌盐为氯化锌、碳酸锌、硫酸锌、硅酸锌、偏硅酸锌和磷酸锌中的任一种或多种的组合。
[0023]根据本专利技术一实施例,所述缓蚀剂为硅酸钠,所述发泡剂为高泡精,所述稳泡剂为硅树脂醚乳液。
[0024]根据本专利技术一实施例,所述有机碱为二甘醇胺、三乙醇胺、乙醇胺和羟基乙二胺中的任一种或多种的组合。
[0025]根据本专利技术一实施例,所述无机碱为氢氧化钠和氢氧化锌的混合物。
[0026]第二方面,本专利技术还提供了一种利用前述玻璃盖板清洁剂的玻璃盖板清洁方法,依次包括以下步骤:
[0027]S1,在室温状态的去离子水中浸泡待清洁的玻璃盖板15

20分钟;
[0028]S2,转移浸泡完毕的玻璃盖板至超声波清洗槽内,将搅拌均匀的清洁剂和去离子水按照2:8的比例混合,形成清洗介质,并将清洗介质加入至所述超声波清洗槽内;
[0029]S3,通过换能器将频率为68~80KHZ的超声波信号转换成高频机械振荡传入所述清洗介质中,清洁所述玻璃盖板;
[0030]S4,在步骤S3清洁所述玻璃盖板的过程中,同步以预定的频率刮除所述超声波清洗槽内溢出的气泡;
[0031]S5,转移经超声波清洁完毕的玻璃盖板至干净的容器内,并在所述容器内添加去离子水进行二次清洁。
[0032]本专利技术的这些和其它目的、特点和优势,通过下述的详细说明,得以充分体现。
附图说明
[0033]图1示出了本申请玻璃盖板清洁方法的流程示意图。
具体实施方式
[0034]以下描述用于揭露本专利技术以使本领域技术人员能够实现本专利技术。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本专利技术的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本专利技术的精神和范围的其他技术方案。
[0035]本领域技术人员应理解的是,在说明书的揭露中,术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系,其仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此,上述术语不能理解为对本专利技术的限制。
[0036]可以理解的是,术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”,即在一个实施例中,一个元件的数量可以为一个,而在另外的实施例中,该元件的数量可以为多个,术语“一”不能理解为对数量的限制。
[0037]主要考虑到:研磨抛光玻璃盖板的抛光液的主要原料以纳米级氧化铈为主,其虽然抛光效果好,抛光出来的玻璃盖板的平面度高,但是,使用传统的玻璃盖板清洁剂清洁上述经过抛光液研磨抛光后的玻璃盖板,常常会存在清洁效率较低以及清洁质量较差等问题。在清洁后,玻璃盖板上往往还会有部分污物残留(主要是抛光液成分),严重影响玻璃盖板的品质和品相。基于这一发现,本申请提出以下解决方案。
[0038]第一方面,本专利技术提供一种玻璃盖板清洁剂,按质量百分比计,主要包括以下组分:
[0039]3%~5%的多泡表面活性剂;1.5%~4%的络合剂;2%~4%的渗透剂;2%~7%的分散剂;3%~5%的锌盐;1%~3%的缓蚀本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.玻璃盖板清洁剂,其特征在于,按质量百分比计,包括以下组分:3%~5%的多泡表面活性剂;1.5%~4%的络合剂;2%~4%的渗透剂;2%~7%的分散剂;3%~5%的锌盐;1%~3%的缓蚀剂;1%~2%的发泡剂;0.1%~1%的稳泡剂;20%~30%的碱性助剂,所述碱性助剂为有机碱和无机碱的混合物,其中所述有机碱和所述无机碱的混合比例为3:2;5%~10%质量百分比的多孔载体,所述多孔载体为经强酸和有机酸处理过的纳米活性炭;剩余组分为去离子水。2.如权利要求1所述玻璃盖板清洁剂,其特征在于,所述多泡表面活性剂为十二烷基二甲基甜菜碱和烷基苯磺酸盐(LAS)中的任一种或者两种,其中在所述多泡表面活性剂同时包括十二烷基二甲基甜菜碱和烷基苯磺酸盐(LAS)时,十二烷基二甲基甜菜碱和烷基苯磺酸盐(LAS)的质量比为1:1。3.如权利要求1所述玻璃盖板清洁剂,其特征在于,所述络合剂为葡萄糖酸钠和乙二胺四乙酸钠中的任一种或两种,其中在所述络合剂同时包括葡萄糖酸钠和乙二胺四乙酸钠时,葡萄糖酸钠和乙二胺四乙酸钠的质量比为3.3~4.5:1。4.如权利要求1所述玻璃盖板清洁剂,其特征在于,所述渗透剂为醇醚糖苷和醇醚羧酸盐中的任一种或两种,其中在所述渗透剂同时包括醇醚糖苷和醇醚羧酸盐时,醇醚糖苷和醇醚羧酸盐的质量比为1:1。5.如权利要求1所述玻璃盖板清洁剂,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:邹维彭深海白红伟
申请(专利权)人:济宁海富光学科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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