药液处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种抑制在每个基板的抗蚀剂去除中产生不均的药液处理装置。所述药液处理装置具备：处理槽(10a)，通过将基板(4)浸渍于药液(6)来对所述基板进行抗蚀剂去除处理；多个保持部(22)，以纵置的方式保持所述基板(4)；上下驱动部(20)，单独地上下驱动所述保持部(22)；以及装夹部(55)，卡脱自如地装夹所述基板(4)，所述上下驱动部(20)使所述保持部(22)在将所述基板(4)浸渍于所述药液(6)的浸渍位置与将所述基板(4)从所述药液(6)提起的非浸渍位置之间单独地上下移动，由此由所述保持部(22)保持的所述基板(4)被以单片式进行抗蚀剂去除处理。去除处理。去除处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】药液处理装置


[0001]本专利技术涉及一种药液处理装置。

技术介绍

[0002]一直以来，存在如下药液处理装置：通过将基板浸渍于剥离液来剥离在基板上形成的抗蚀剂、金属膜。
[0003]专利文献1公开了一种药液处理装置，其在由保持部将基板保持为水平的状态下，配设于保持部的侧面附近的喷嘴向基板的上方和下方喷出剥离液，从而防止剥离后的抗蚀剂、金属膜再附着于基板。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2005－311023号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的技术问题
[0008]在专利文献1中，在将一组基板保持为水平的横置状态下，以分批式进行将一组基板浸渍于剥离液的剥离处理。反复进行如下步骤：将浸渍于剥离液的一组基板提起，从一组基板中取出某基板，空出的部位置换为另外的基板后，浸渍一组基板。在分批式的剥离处理中对各个基板进行浸渍和提起，因此难以管理各个基板的浸渍温度、浸渍时间，在每个基板的抗蚀剂去除中产生不均，对后续工序中的品质造成影响。
[0009]因此，本专利技术的技术问题在于提供一种抑制在每个基板的抗蚀剂去除中产生不均的药液处理装置。
[0010]用于解决技术问题的方案
[0011]为了解决上述技术问题，本专利技术的一个方案的药液处理装置的特征在于，具备：处理槽，通过将基板浸渍于药液来对所述基板进行抗蚀剂去除处理；多个保持部，以纵置的方式保持所述基板；上下驱动部，单独地上下驱动所述保持部；以及装夹部，卡脱自如地装夹所述基板，所述上下驱动部使所述保持部在将所述基板浸渍于所述药液的浸渍位置与将所述基板从所述药液提起的非浸渍位置之间单独地上下移动，由此由所述保持部保持的所述基板被以单片式进行抗蚀剂去除处理。
[0012]本说明书中的“抗蚀剂去除处理”是指，除了去除抗蚀剂单体的处理之外，还包括在抗蚀剂上形成金属膜后将金属膜和抗蚀剂一起去除的处理，即所谓的剥离(lift off)处理。
[0013]专利技术效果
[0014]根据本专利技术，由保持部保持的基板在浸渍位置与非浸渍位置之间单独地上下移动并被以单片式进行抗蚀剂去除处理，因此能抑制在每个基板的抗蚀剂去除中产生不均。
附图说明
[0015]图1是对第一实施方式的药液处理装置进行说明的俯视图。
[0016]图2是对图1所示的药液处理装置中的膨润处理系统进行说明的示意图。
[0017]图3是对图1所示的药液处理装置中的抗蚀剂去除处理进行说明的示意图。
[0018]图4是对图1所示的药液处理装置中的上下驱动部进行说明的示意性主视图。
[0019]图5是图4所示的上下驱动部的示意性侧视图。
[0020]图6是对图1所示的药液处理装置中的装夹部进行说明的示意性主视图。
[0021]图7是图6所示的装夹部的示意性侧视图。
[0022]图8是对图1所示的药液处理装置中的膨润处理槽进行说明的俯视图。
[0023]图9是对第二实施方式的药液处理装置中的膨润处理槽进行说明的俯视图。
[0024]图10是对第三实施方式的药液处理装置进行说明的俯视图。
[0025]图11是对图10所示的药液处理装置中的膨润处理槽进行说明的俯视图。
[0026]图12是对第四实施方式的药液处理装置中的膨润处理槽进行说明的俯视图。
具体实施方式
[0027]以下，参照附图对本专利技术的药液处理装置1的实施方式进行说明。
[0028]〔第一实施方式〕
[0029]参照图1至图6对第一实施方式的药液处理装置1进行说明。图1是对第一实施方式的药液处理装置1进行说明的俯视图。图2是对图1所示的药液处理装置1中的膨润处理系统3进行说明的示意图。图3是对图1所示的药液处理装置1中的抗蚀剂去除处理进行说明的示意图。图4是对图1所示的药液处理装置1中的上下驱动部20进行说明的示意性主视图。图5是图4所示的上下驱动部20的示意性侧视图。图6是对图1所示的药液处理装置1中的装夹部55进行说明的示意性主视图。图7是图6所示的装夹部55的示意性侧视图。图8是对图1所示的药液处理装置1中的膨润处理槽10进行说明的俯视图。
[0030]如图1所示，药液处理装置1具备膨润处理槽10、清洗处理槽5、5、干燥处理槽7、7、控制部8以及多关节机器人9。多关节机器人9由干燥专用的机器人和潮湿专用的机器人构成。在图1所示的药液处理装置1中，在膨润处理槽10的一侧配设有一侧的清洗处理槽5和干燥处理槽7，并且，在膨润处理槽10的另一侧配设有另一侧的清洗处理槽5和干燥处理槽7。此外，隔着清洗处理槽5和干燥处理槽7在膨润处理槽10的相反侧配设有载体2、2。配置为膨润处理槽10、清洗处理槽5、5、干燥处理槽7、7、载体2、2在俯视观察下包围多关节机器人9。药液处理装置1的目的在于，在平板状的基板4(例如晶片)上形成电路图案等时，除了电路图案以外，还将光致抗蚀剂和形成于该光致抗蚀剂上的金属膜(以下，将两者统称为被覆物)从所述基板4去除。
[0031]如图2所示，膨润处理系统3具备膨润处理槽10、多个基板上下移动致动器20以及淤渣回收箱30。如下文所述，在膨润处理系统3中，构成为通过配设于膨润处理槽10的多个基板上下移动致动器20来以单片式对多个基板4进行抗蚀剂去除处理。
[0032]膨润处理槽10容纳剥离液(药液)6，具有处理槽10a、贮存槽10b以及排出槽10c。剥离液(药液)6构成为：从处理槽10a流向贮存槽10b，进而从贮存槽10b流向排出槽10c，即向一个方向流动。
[0033]如图1和图8所示，在处理槽10a中，多个基板上下移动致动器20沿着处理槽10a的长尺寸方向(横向)分离地配置成一列。在相邻的两个基板上下移动致动器20之间配设有后述的喷嘴14，并且在位于侧端的基板上下移动致动器20的外侧也配设有后述的喷嘴14。各基板上下移动致动器20的动作由控制部8单独地控制。
[0034]控制部8具备CPU(中央运算处理装置)，通过ROM(只读存储器)、RAM(随机存取存储器)等各种存储器和各种输入设备、输出设备，对药液处理装置1中的各种动作和处理进行控制。基板上下移动致动器20和多关节机器人9的详情在下文叙述。
[0035]在处理槽10a中，构成为通过基板上下移动致动器20使基板4在浸渍于剥离液6的浸渍位置与从剥离液6提起的非浸渍位置之间沿上下方向移动。通过将基板4浸渍在容纳于处理槽10a的剥离液(药液)6中，形成于基板4上的光致抗蚀剂膨润，被覆物从基板4剥离。
[0036]如图2所示，膨润处理槽10的底部从处理槽10a到排出槽10c，相对于剥离液(药液)6的流动方向以下坡度倾斜。在膨润处理槽10的底部(具体而言，处理槽10a的底部和贮存槽10b的底部)配设有超声波发生器17。根据该结构，促进被覆物从基板4剥离，并且粉碎从基板4剥离后的被覆物，通过粉碎而产生的淤渣容易流向下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种药液处理装置，其特征在于，具备：处理槽，通过将基板浸渍于药液来对所述基板进行抗蚀剂去除处理；多个保持部，以纵置的方式保持所述基板；上下驱动部，单独地上下驱动所述保持部；以及装夹部，卡脱自如地装夹所述基板，所述上下驱动部使所述保持部在将所述基板浸渍于所述药液的浸渍位置与将所述基板从所述药液提起的非浸渍位置之间单独地上下移动，由此由所述保持部保持的所述基板被以单片式进行抗蚀剂去除处理。2.根据权利要求1所述的药液处理装置，其特征在于，在所述处理槽的底部配设有超声波发生器。3.根据权利要求1或2所述的药液处理装置，其特征在于，在所述处理槽的上部配设有朝向所述基板向下方喷出所述药液的喷嘴。4.根据权利要求3所述的药液处理装置，其特征在于，所述处理槽经由形成于构成所述处理槽的连通侧壁的底部的连通口与邻接的贮存槽连通。5.根据权利要求4所述的药液处理装置，其特征在于，与所述贮存槽邻接地配设有排出槽，所述排出槽容纳从所述贮存槽溢流出的所述药液，在所述喷嘴与所述排出槽之间形成有使所述药液循环的循环路径。6.根据权利要求5所述的药液处理装置，其特征在于，在所述循环路径设有过滤...

【专利技术属性】
技术研发人员：出口泰纪，
申请(专利权)人：东邦化成株式会社，
类型：发明
国别省市：