本发明专利技术容易地进行基板支架的位置调整。镀覆模块(400)包含：镀覆槽(410)，用于收容镀覆液；基板支架(440)，用于以使被镀覆面(Wf－a)朝向收容于镀覆槽(410)的镀覆液的状态保持基板(Wf)；升降机构(480)，用于使基板支架(440)升降；以及移动机构(490)，用于使基板支架(440)向与基板支架(440)的升降方向正交的方向移动。向移动。向移动。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】镀覆装置、以及镀覆处理方法
[0001]本申请涉及镀覆装置、以及镀覆处理方法。
技术介绍
[0002]作为镀覆装置的一个例子已知有杯式电解镀覆装置。杯式电解镀覆装置通过使被镀覆面朝向下方并保持于基板支架的基板(例如半导体晶圆)浸渍于镀覆液，并在基板与阳极之间施加电压，来使导电膜在基板的表面析出。
[0003]在杯式电解镀覆装置中，要求使形成于基板的镀覆膜厚度在基板整体均匀。对于这一点，例如在专利文献1公开了通过配置能够在阳极与基板之间屏蔽电场的环状的屏蔽部件，来使基板的外边缘部附近的电流密度降低，由此抑制在基板的外边缘部周边形成较厚的镀覆膜。
[0004]专利文献1：日本特开2014－51697号公报
[0005]然而，若仅配置屏蔽部件，则有不能够使基板整体的镀覆膜厚度充分地均匀化的担心，所以要求用于使镀覆膜厚度均匀化的其它的方法。
[0006]对于这一点，本申请的专利技术者们发现了镀覆装置的阳极的轴心与基板的轴心的位置关系对镀覆膜厚度的分布造成影响。另外，调整阳极的轴心与基板的轴心的位置关系例如在组装镀覆装置时的轴心对准中也重要。并且，在开始基板的种类或者镀覆液的种类等不同的新的镀覆工序时，要求基于该镀覆工序中的基板的镀覆膜厚度的分布的趋势，进行使阳极的轴心与基板的轴心对准，或者反而使轴心偏移等调整。为了调整阳极的轴心与基板的轴心的位置关系，容易地进行保持基板的基板支架的位置调整较重要。
技术实现思路
[0007]因此，本申请的目的之一在于容易地进行基板支架的位置调整。
[0008]根据一实施方式，公开一种镀覆装置，包含：镀覆槽，用于收容镀覆液；基板支架，用于以使被镀覆面朝向收容于上述镀覆槽的镀覆液的状态保持基板；升降机构，用于使上述基板支架升降；以及移动机构，用于使上述基板支架向与上述基板支架的升降方向正交的方向移动。
附图说明
[0009]图1是表示本实施方式的镀覆装置的整体构成的立体图。
[0010]图2是表示本实施方式的镀覆装置的整体构成的俯视图。
[0011]图3是示意地表示本实施方式的镀覆模块的构成的纵剖视图。
[0012]图4是示意地表示本实施方式的镀覆模块的构成的立体图。
[0013]图5是表示调整了基板支架的X方向的位置时的基板的镀覆膜厚度分布的图。
[0014]图6是表示本实施方式的镀覆处理方法的流程图。
具体实施方式
[0015]以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。在以下说明的附图中，对相同或者相应的构成要素标注相同的附图标记并省略重复的说明。
[0016]＜镀覆装置的整体构成＞
[0017]图1是表示本实施方式的镀覆装置的整体构成的立体图。图2是表示本实施方式的镀覆装置的整体构成的俯视图。如图1、2所示，镀覆装置1000具备装载口100、输送机器人110、校准器120、预湿模块200、预浸模块300、镀覆模块400、清洗模块500、旋干机600、输送装置700、以及控制模块800。
[0018]装载口100是用于将收纳于未图示的FOUP等盒的基板搬入到镀覆装置1000，或者从镀覆装置1000将基板搬出到盒的模块。在本实施方式中在水平方向并排地配置四台装载口100，但装载口100的数目以及配置任意。输送机器人110是用于输送基板的机器人，构成为在装载口100、校准器120、以及输送装置700之间交接基板。输送机器人110以及输送装置700能够在输送机器人110与输送装置700之间交接基板时，经由未图示的临时放置台进行基板的交接。
[0019]校准器120是用于使基板的定向平面、槽口等位置与规定的方向对准的模块。在本实施方式中在水平方向并排地配置两台校准器120，但校准器120的数目以及配置任意。预湿模块200通过以纯水或者脱气水等处理液润湿镀覆处理前的基板的被镀覆面，将形成于基板表面的图案内部的空气置换为处理液。预湿模块200构成为实施通过在镀覆时将图案内部的处理液置换为镀覆液而容易地向图案内部供给镀覆液的预湿处理。在本实施方式中在上下方向并排地配置两台预湿模块200，但预湿模块200的数目以及配置任意。
[0020]预浸模块300例如构成为实施利用硫酸或者盐酸等处理液对在镀覆处理前的基板的被镀覆面形成的种子层表面等所存在的电阻较大的氧化膜进行蚀刻除去并将镀覆基底表面清洗或者活性化的预浸处理。在本实施方式中在上下方向并排地配置两台预浸模块300，但预浸模块300的数目以及配置任意。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。在本实施方式中，在上下方向并排配置三台并且在水平方向并排配置四台的共十二台镀覆模块400的组有两个，合计设置二十四台镀覆模块400，但镀覆模块400的数目以及配置任意。
[0021]清洗模块500构成为为了除去在镀覆处理后的基板残留的镀覆液等而对基板实施清洗处理。在本实施方式中在上下方向并排地配置两台清洗模块500，但清洗模块500的数目以及配置任意。旋干机600是用于使清洗处理后的基板高速旋转来使其干燥的模块。在本实施方式中在上下方向并排地配置两台旋干机，但旋干机的数目以及配置任意。输送装置700是用于在镀覆装置1000内的多个模块间输送基板的装置。控制模块800构成为控制镀覆装置1000的多个模块，例如能够由具备与操作人员之间的输入输出接口的一般的计算机或者专用计算机构成。
[0022]对镀覆装置1000所进行的一系列的镀覆处理的一个例子进行说明。首先，收纳于盒的基板被搬入装载口100。接着，输送机器人110从装载口100的盒取出基板，并将基板输送到校准器120。校准器120使基板的定向平面或者槽口等位置与规定的方向对准。输送机器人110将通过校准器120对准了方向的基板交接给输送装置700。
[0023]输送装置700将从输送机器人110接受的基板输送到预湿模块200。预湿模块200对基板实施预湿处理。输送装置700将实施了预湿处理的基板输送到预浸模块300。预浸模块
300对基板实施预浸处理。输送装置700将实施了预浸处理的基板输送到镀覆模块400。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。
[0024]输送装置700将实施了镀覆处理的基板输送到清洗模块500。清洗模块500对基板实施清洗处理。输送装置700将实施了清洗处理的基板输送到旋干机600。旋干机600对基板实施干燥处理。输送装置700将实施了干燥处理的基板交接给输送机器人110。输送机器人110将从输送装置700接受的基板输送到装载口100的盒。最后，从装载口100搬出收纳了基板的盒。
[0025]＜镀覆模块的构成＞
[0026]接下来，对镀覆模块400的构成进行说明。本实施方式中的二十四台镀覆模块400为相同的构成，所以仅对一台的镀覆模块400进行说明。图3是示意地表示本实施方式的镀覆模块的构成的纵剖视图。如图3所示，镀覆模块400具备用于收容镀覆液的镀覆槽410。镀覆模块400具备在上下方向隔开镀覆槽410的内部的膜片420。镀本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种镀覆装置，包含：镀覆槽，用于收容镀覆液；基板支架，用于以使被镀覆面朝向收容于上述镀覆槽的镀覆液的状态保持基板；升降机构，用于使上述基板支架升降；以及移动机构，用于使上述基板支架向与上述基板支架的升降方向正交的方向移动。2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其中，上述移动机构包含：第一移动机构，用于使上述基板支架向与上述升降方向正交的第一方向移动；以及第二移动机构，用于使上述基板支架向与上述升降方向以及上述第一方向正交的第二方向移动。3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其中，上述第一移动机构包含：第一线性导件，向上述第一方向延伸；第一支承台，设置在第一线性导件上；以及第一驱动部件，用于使上述第一支承台沿着上述第一线性导件移动，上述第二移动机构包含：第二线性导件，向上述第二方向延伸；第二支承台，设置在第二线性导件上；以及第二驱动部件，用于使上述第二支承台沿着上述第二线性导件移动，上述第一移动机构以及上述第二移动机构重叠地配置在基台上，上述升降机构包含：升降线性导件，安装于上述第一支承台或者第二支承台并向上述升降方向延伸；和升降驱动部件，用于使保持上述基板支架的保持部件沿着上述升降线性导件移动。4.根据权利要求1～3中任意一项所述的镀覆装置，其中，上述移动机构使上述基板支架移动以使配置在上述镀覆槽的内部的阳极的轴心与保持于上述基板支架的基板的轴心对准。5.根据权利要求1～4中任意一项所述的镀覆装置，其中，还包含传感器，...
【专利技术属性】
技术研发人员：富田正辉，增田泰之，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：
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