本发明专利技术提供一种用于夹持物体的吸力夹具。所述吸力夹具包括：基部结构，所述基部结构包括基部和连接区域；和第一垫，所述第一垫用于接收所述物体。所述吸力夹具还包括弹性构件，所述弹性构件将所述第一垫连接至所述基部结构的所述连接区域，使得所述第一垫能够相对于所述基部在用于接收所述物体的接收位置与用于夹持所述物体的夹持位置之间移动，其中所述弹性构件适于将所述第一垫偏压至所述接收位置。所述吸力夹具还包括抽吸开口，所述抽吸开口被布置于所述基部中且适于连接至吸力装置，所述吸力装置用于提供吸力以供将所述物体夹持于所述第一垫上。持于所述第一垫上。持于所述第一垫上。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】吸力夹具、物体输送装置、平台设备和光刻设备
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年1月17日递交的欧洲申请20152451.9的优先权，所述欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。
[0003]本专利技术涉及夹持诸如衬底或晶片之类的物体的
具体地，本专利技术涉及吸力夹具、物体输送装置、平台设备和光刻设备。
技术介绍
[0004]光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模)的图案(常常也被称为“设计布局”或“设计”)投影至被设置于衬底(例如晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]随着半导体制造过程继续进步，数十年来，电路元件的尺寸已持续地减小，而每器件的诸如晶体管之类的功能元件的量已在稳步地增加，这遵循通常被称为“摩尔定律”的趋势。为了紧跟摩尔定律，半导体行业正追求使得能够产生越来越小特征的技术。为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定被图案化于所述衬底上的特征的最小大小。当前在使用中的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm至20nm的范围内的波长(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用以在衬底上形成较小特征。
[0006]当图案被投影于所述衬底上时，所述衬底通常被安装在衬底支撑件上。为了将所述衬底布置于所述衬底支撑件上，多个支撑构件被布置成接收所述衬底。所述支撑构件可以包括用于使用夹持力来夹持所述衬底的一个或更多个吸力夹具。在接收所述衬底之后，所述支撑构件同时竖直向下移动，直到所述衬底由所述衬底支撑件支撑为止。
[0007]通常，所述衬底由物体夹钳或物体夹持器布置至所述支撑构件上。所述夹钳或夹持器也可以包括用于使用夹持力来夹持所述衬底的一个或更多个吸力夹具。
[0008]近年来诸如所谓的3DNAND和3D Xpoint衬底之类的发展已导致衬底更经常地为不平坦的，而是具有平面外形状，例如翘曲或弯曲。这可能是例如具有内应力的层的数目增加的后果。已观察到，这样的翘曲或弯曲衬底不总被物体输送装置和/或支撑销的常规吸力夹具适当地夹持。
技术实现思路
[0009]本专利技术的目的是至少提供用于现有技术装置的替代方案。本专利技术的目的是减轻现有技术装置的一个或更多个缺点。特别地，本专利技术的目的是提供针对弯曲的或翘曲的物体的有所改善的夹持。
[0010]根据本专利技术的第一方面，利用用于夹持物体的吸力夹具来实现以上目的中的一个
或更多个目的。所述吸力夹具包括：基部结构，所述基部结构包括基部和连接区域；和第一垫，所述第一垫用于接收所述物体。所述吸力夹具还包括弹性构件，所述弹性构件将所述第一垫连接至所述基部结构的所述连接区域，使得所述第一垫能够相对于所述基部在用于接收所述物体的接收位置与用于夹持所述物体的夹持位置之间移动，其中所述弹性构件适于将所述第一垫偏压至所述接收位置。所述吸力夹具还包括抽吸开口，所述抽吸开口被布置于所述基部中且适于连接至吸力装置，所述吸力装置用于提供吸力以供将所述物体夹持于所述第一垫上。
[0011]当所述弹性构件将所述第一垫朝向所述接收位置偏压时，则所述第一垫当所述物体被布置至所述吸力夹具上时被布置于所述接收位置中。所述物体可以例如是衬底或晶片。即使当所述物体具有翘曲表面时，也确保所述物体的所述翘曲表面的至少下部部分由所述第一垫接合。因为所述弹性构件允许所述第一垫朝向所述夹持位置移动，则至少在其与所述翘曲表面接合的情况下，所述翘曲表面的较高部分也由所述第一垫接合。当所述第一垫接着朝向所述夹持位置移动时，所述翘曲表面大致由所述吸力而被拉直。所述物体可以被适当地夹持在明确限定的位置中。
[0012]在实施例中，所述吸力夹具还包括压降构件，所述压降构件被布置成当经由所述抽吸开口提供所述吸力时，使所述压降构件下游的内部压力低于所述第一垫上游的环境压力。有利地，所述压降构件增大被施加于所述物体上的所述吸力。
[0013]在实施例中，所述压降构件相对于所述基部被布置于固定位置中，并且其中至少在所述第一垫的所述接收位置中，在所述第一垫与所述压降构件之间存在间隙。有利地，在这种实施例中，所述压降构件是耐磨的。
[0014]在实施例中，所述压降构件被布置于所述抽吸开口与所述第一垫之间。已发现，这种布置有益于所述压降构件对被施加于所述物体上的所述夹持力的效应。
[0015]在实施例中，所述压降构件被布置成与所述第一垫相邻，其中在所述第一垫的所述夹持位置中，所述第一垫和压降构件是邻接的。有利地，在所述夹持位置中，减少了吸入空气的任何泄漏。
[0016]在实施例中，所述第一垫是环形元件，可选地为圆形或椭圆环形；和/或其中所述压降构件是环形元件，可选地为圆形或椭圆环形。已发现这种布置对于夹持所述物体是有利的。
[0017]在实施例中，所述第一垫包括至少第一区和第二区，其中所述第一区适于能够从所述接收位置移动至所述夹持位置，而所述第二区保持处于所述接收位置。有利地，当所述物体具有翘曲表面时，所述第一区可以首先与所述翘曲表面的下部部分接合，而所述第二区当所述第一区已经移动至所述夹持位置时与所述翘曲表面的较高部分接合。如此，所述翘曲表面可以被更好地夹持。
[0018]在实施例中，所述基部结构包括垫接收区域，所述垫接收区域适于当所述第一垫处于所述夹持位置时与所述第一垫接合。有利地，所述第一垫的位置被明确限定于所述夹持位置中，并且如此同样也限定了所述物体的位置。
[0019]在实施例中，所述第一垫适于在所述接收位置与所述夹持位置之间移动的距离小于0.5mm、优选小于0.3mm，例如大致0.2mm。已发现，这对于相对翘曲的物体是足够的，而同时仍允许明确限定所述物体的位置。
[0020]在实施例中，所述弹性构件是弹簧，例如片簧。已发现这是在相对简单地生产的同时实现令人满意的结果的布置。
[0021]在实施例中，所述基部结构包括第一突起，其中所述第一突起包括所述连接区域。有利地，所述弹性构件可以容易地被附接至所述突起，例如在不妨碍其它部件或被其它部件妨碍的情况下。
[0022]在本专利技术的第二方面中，本专利技术涉及一种吸力夹具，所述吸力夹具至少具有第一垫，其中所述第一垫具有不对称形状，所述不对称形状当在所述吸力夹具的俯视图中查看时包括：具有第一质心的第一端、具有第二质心的第二端、中间部分，在所述第一端与所述第二端之间且具有第三质心，所述中间部分在第一侧上具有第一边界部分且在第二侧上具有第二边界部分，其中所述第一边界部分和所述第二边界垫部分彼此平行，其中当沿从所述第一侧至所述第二侧的方向查看时，所述第三质心位于所述第一质心与所述第二质心之间。已发现，利用根据所述第二方面的吸力夹具来批准所述夹持。
[0023]本专利技术的所述第二方面可以与所述第一方本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于夹持物体的吸力夹具，包括：
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基部结构，所述基部结构包括基部和连接区域，
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第一垫，所述第一垫用于接收所述物体，
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弹性构件，所述弹性构件将所述第一垫连接至所述基部结构的所述连接区域，使得所述第一垫能够相对于所述基部在用于接收所述物体的接收位置与用于夹持所述物体的夹持位置之间移动，其中所述弹性构件适于将所述第一垫偏压至所述接收位置，
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抽吸开口，所述抽吸开口被布置于所述基部中且适于连接至吸力装置，所述吸力装置用于提供吸力以供将所述物体夹持于所述第一垫上。2.根据权利要求1所述的吸力夹具，还包括压降构件，所述压降构件被布置成当经由所述抽吸开口提供所述吸力时，使所述压降构件下游的内部压力低于所述第一垫上游的环境压力。3.根据权利要求2所述的吸力夹具，其中，所述压降构件相对于所述基部被布置于固定位置中，并且其中至少在所述第一垫的所述接收位置中，在所述第一垫与所述压降构件之间存在间隙。4.根据权利要求2或权利要求3所述的吸力夹具，其中，所述压降构件被布置于所述抽吸开口与所述第一垫之间。5.根据权利要求3或4所述的吸力夹具，其中，所述压降构件被布置成与所述第一垫相邻，其中在所述第一垫的所述夹持位置中，所述第一垫和压降构件是邻接的。6.根据前述权利要求中任一项所述的吸力夹具，其中，所述第一垫是环形元件，可选地为圆形或椭圆环形；和/或其中所述压降构件是环形元件，可选地为圆形或椭圆环形。7.根据前述权利要求中任一项所述的吸力夹具，其中，所述第一垫包括至少第一区和第二区，其中所述第一区适于能够从所述接收位置移动至所述夹持位置，而所述第二区保持处于所述接收位置。8.根据前述权利要求中任一项...
【专利技术属性】
技术研发人员：G，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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