一种用于半导体石英环的抛光液供给装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于半导体石英环的抛光液供给装置，包括：支撑架，所述支撑架的侧面设置有储液箱且储液箱的上部设置有输液管，所述支撑架的内侧设置有升降机构且升降机构的侧面设置有支撑板，所述支撑板的上部设置有半导体制冷器且半导体制冷器的输出端设置有制冷端，所述制冷端的内侧设置有冷却管。本实用新型专利技术在支撑架的内侧设置有升降机构且升降机构的侧面设置有支撑板，支撑板的上部设置有半导体制冷器且半导体制冷器的输出端设置有制冷端，制冷端的内侧设置有冷却管且冷却管与输液管之间相连接，此种设置可以在抛光液的输送过程中对其进行冷却，从而避免温度的升高，保证抛光液的使用温度。保证抛光液的使用温度。保证抛光液的使用温度。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体石英环的抛光液供给装置


[0001]本技术涉及抛光液供给装置
，更具体为一种用于半导体石英环的抛光液供给装置。

技术介绍

[0002]半导体用石英环是半导体制造的整个流程中的关键零部件，尤其是对抛光后的半导体用石英环的技术参数要求极高。石英环的抛光加工，需要将石英环放置于粘有聚氨酯抛光皮的大理石上，通过水泵将抛光液输送到抛光皮上进行抛光工作。由于在抛光过程中石英玻璃与抛光皮不断摩擦产生热量，抛光液温度升高，大理石与石英玻璃膨胀变形，因而抛光精度降低，影响抛光品质。而传统的抛光液供给系统则无法解决上述缺陷，降低抛光连续工作时间，影响工作效率。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于半导体石英环的抛光液供给装置，解决了目前，在对半导体石英环的加工过程中需要使用抛光液，抛光液在循环使用后温度容易升高，从而影响抛光液的使用效果的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于半导体石英环的抛光液供给装置，包括：支撑架，所述支撑架的侧面设置有储液箱且储液箱的上部设置有输液管，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体石英环的抛光液供给装置，其特征在于：包括：支撑架(1)，所述支撑架(1)的侧面设置有储液箱(2)且储液箱(2)的上部设置有输液管(3)，所述支撑架(1)的内侧设置有升降机构且升降机构的侧面设置有支撑板(4)，所述支撑板(4)的上部设置有半导体制冷器(5)且半导体制冷器(5)的输出端设置有制冷端(14)，所述制冷端(14)的内侧设置有冷却管(15)且冷却管(15)与输液管(3)之间相连接，所述冷却管(15)的侧面设置有连接管(16)且连接管(16)的下部连接有分流板(7)，所述分流板(7)的下部设置有若干组喷头(8)，所述支撑板(4)的内部设置有活动槽(18)且活动槽(18)的内部设置有调节杆(...

【专利技术属性】
技术研发人员：张广雨，张慧，
申请(专利权)人：北京亦盛精密半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：