石墨烯电极静电透镜及扫描电子显微镜制造技术

技术编号:34626579 阅读:66 留言:0更新日期:2022-08-20 09:34
本实用新型专利技术公开了一种石墨烯电极静电透镜及扫描电子显微镜,石墨烯电极静电透镜包括导电衬底、至少一层石墨烯电极层、电极线和带电粒子束通道;导电衬底的上表面设置有绝缘层,石墨烯电极层设置在导电衬底的上表面,石墨烯电极层的表面覆盖有氮化硼介电层,对石墨烯电极层的表面形成绝缘;电极线设置在石墨烯电极层的上表面和覆盖于石墨烯电极层的表面的氮化硼介电层之间,电极线的引脚从石墨烯电极层的上表面向外延伸出氮化硼介电层;带电粒子束通道位于静电透镜的中心位置,从上至下贯通氮化硼介电层、石墨烯电极层和导电衬底。本实用新型专利技术提供的石墨烯电极静电透镜,能够在实现对带电粒子束聚焦和加速的效果前提下,大大减小静电透镜的体积与重量,同时易于保证高加工精度。工精度。工精度。

【技术实现步骤摘要】
石墨烯电极静电透镜及扫描电子显微镜


[0001]本技术涉及扫描电子显微镜
,特别是涉及一种石墨烯电极静电透镜和具有该静电透镜的扫描电子显微镜。

技术介绍

[0002]扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,缩写为SEM),简称扫描电镜,是利用聚焦电子束在样品表面扫描时激发出来的各种物理信号来调制成像的一种常用的显微分析仪器。
[0003]电子束的聚焦由一组透镜完成,透镜可以是静电的,也可以是有磁性的,这取决于它们是用静电场还是磁场来聚焦电子束。
[0004]目前,扫描电子显微镜中使用的静电透镜主要由金属结构件构成,为了形成均匀的电场,在加工过程中要综合考虑耐压、同心度、圆度、平面度等各个影响因素,加工难度大、体积大、重量重。

技术实现思路

[0005]本技术的目的至少在于提供一种石墨烯电极静电透镜和具有该石墨烯电极静电透镜的扫描电子显微镜,以解决传统静电透镜重量重、体积大、加工工艺复杂的且精度难以保证的问题。
[0006]为达到上述目的,本技术提供如下技术方案:
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯电极静电透镜,其特征在于:所述静电透镜包括导电衬底、至少一层石墨烯电极层、电极线和带电粒子束通道;所述导电衬底的上表面设置有绝缘层,所述石墨烯电极层设置在所述导电衬底的上表面,所述石墨烯电极层的表面覆盖有氮化硼介电层,对所述石墨烯电极层的表面形成绝缘;所述电极线设置在所述石墨烯电极层的上表面和覆盖于所述石墨烯电极层的表面的所述氮化硼介电层之间,所述电极线的引脚从所述石墨烯电极层的上表面向外延伸出所述氮化硼介电层;所述带电粒子束通道位于所述静电透镜的中心位置,从上至下贯通所述氮化硼介电层、所述石墨烯电极层和所述导电衬底。2.根据权利要求1所述的石墨烯电极静电透镜,其特征在于:所述导电衬底为掺杂硅衬底。3.根据权利要求1或2所述的石墨烯电极静电透镜,其特征在于:所述导电衬底的电阻率在0.01Ω
·
cm以下。4.根据权利要求1所述的石墨烯电极静电透镜,其特征在于:所述电极线为...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨思源杨润潇
申请(专利权)人:惠然科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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