一种转印基板制造技术

一种转印基板，包括设置在转印基板上的沟槽图案，所述沟槽图案用以填充印刷浆料，所述转印基板包括至少一个刚性层，所述刚性层为对激光透明的硬质材料层，所述沟槽的粗糙度为，其面粗糙度为Sa为0.02μm

【技术实现步骤摘要】
一种转印基板


[0001]本申请涉及一种转印基板，尤其是一种激光转印基板，属于转印


技术介绍

[0002]现有技术中，太阳能电池电极印刷一般采用丝网印刷方式，通过刮刀挤压网版上的印刷浆料，印刷浆料透过网版后转移到电池上完成电极栅线的印刷，电池栅线形状和栅线高宽比由刮刀压力、刮刀速度以及网版结构等决定。
[0003]激光转印工艺作为一种无接触印刷方案，由于其可以印刷高高宽比的印刷栅线，发展前景良好。
[0004]在激光转印工艺中，所用的激光转印基板(也称源基板)其一侧设置有沟槽图案，用以填充印刷浆料，使用时通过激光照射沟槽图案的对侧，将沟槽图案中的印刷浆料脱离沟槽并转印至设置于其下方的接收基板中。转印基板有两种，一种是柔性基板(例如高分子聚合物基板)，另一种是硬质基板(例如玻璃基板)。现有技术的硬质基板存在的问题有1、刮刀将印刷浆料刮入沟槽图案中，以及长期激光转的激光损伤，沟槽容易崩边，影响转印基板的使用寿命；2、沟槽形状设置不合理，激光转印时，浆料难以全部从沟槽释放并转印至接收基板上，残余的浆料粘附在转印基板上甚至和转印基板发生反应，导致转印时释放更不完全，后期浆料填充少，影响转印效果等。

技术实现思路

[0005]本申请的目的旨在至少在一定程度上解决上述的技术问题之一。
[0006]一方面，本申请提供一种转印基板，包括设置在转印基板上的沟槽，一个或多个所述沟槽组成沟槽图案，所述沟槽图案用以填充印刷浆料，所述转印基板包括至少一个刚性层，所述刚性层为对激光透明的硬质材料层，所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.02μm
‑
2μm，Sz为小于 4μm。
[0007]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.2μm
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0.8μm，Sz为小于1.6μm。
[0008]另一方面，本申请提供一种转印基板，包括设置在转印基板上的沟槽，一个或多个所述沟槽组成沟槽图案，所述沟槽图案用以填充印刷浆料，所述转印基板包括至少一个刚性层，以及设置在刚性层上的至少一个保护层，所述沟槽设置在刚性层上，所述保护层至少设置在沟槽内部；
[0009]或者，所述转印基板包括至少一个刚性层，以及设置在刚性层上的至少一个柔性层，所述沟槽设置在柔性层上；
[0010]所述刚性层为对激光透明的硬质材料层，所述保护层或柔性层为对激光透明的有机层。
[0011]进一步的，本申请的一种转印基板，所述有机层为半晶或者非晶有机层。
[0012]进一步的，本申请的一种转印基板，柔性层为有机层，所述有机物为聚乙烯、聚丙
烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、全芳香族聚酯、脂肪族
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芳香族共聚聚酯、共聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚砜、聚醚砜、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、芳香族聚酰亚胺、脂环族聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、乙酸纤维素、硝酸纤维素、芳香族聚酰胺、聚氯乙烯、聚苯酚、聚芳酯、聚苯硫醚、聚苯醚、聚苯乙烯中的一种。
[0013]进一步的，本申请的一种转印基板，所述保护层设置在刚性层的沟槽面，覆盖沟槽内部及设置沟槽的刚性层侧的表面。
[0014]进一步的，本申请的一种转印基板，所述保护层的厚度为0.1μm
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10μm。
[0015]进一步的，本申请的一种转印基板，所述柔性层的厚度为50μm
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200μm。
[0016]本申请提供的前述转印基板，不管其沟槽设在刚性层，还是柔性层，还包括下述特征。
[0017]一种转印基板，所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.02μm
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2μm，Sz为小于4μm。
[0018]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.2μm
‑
0.8μm，Sz为小于1.6μm。
[0019]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽的深度为10μm
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40μm，所述沟槽的宽度为 10μm
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1000μm，所述沟槽的深宽比为1:1—1:0.4。
[0020]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽的深度为15μm
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30μm，宽度为10μm
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30μm。
[0021]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽深度为10μm
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30μm，宽度为60μm
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120μm。
[0022]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽槽口和/或槽底具有平滑界面或倒角。
[0023]进一步的，本申请的一种转印基板，所述刚性层设置有增透膜涂层，所述增透膜涂层设置于与沟槽相对侧的刚性层表面。
[0024]进一步的，本申请的一种转印基板，所述增透膜涂层为纳米薄膜，所述增透膜对应为设置成激光波长1/4波长堆，1/4波长堆为不同折射率的两层或者多层光学膜层叠堆而成，激光在1/4波长堆中的光程为1/4波长的整数倍。
[0025]进一步的，本申请的一种转印基板，所述增透膜涂层为纳米金属颗粒涂层。
[0026]进一步的，本申请的一种转印基板，所述沟槽的截面形状为矩形、U形或者梯形。
[0027]进一步的，本申请的一种转印基板，所述的刚性层为石英玻璃、普通玻璃或者硬质塑料板。
[0028]本申请实施例的有益效果如下描述。
[0029]浆料能成功的转印到电池片上主要是由于浆料膨胀力大于槽壁摩擦力，槽壁粗糙度太大浆料转印不完全，槽内浆料残留较多，严重影响转印质量。槽壁粗糙度太小时，前期转印基板在填充浆料时无法正常填充浆料。本申请的转印基板通过对粗糙度的设计，可以实现良好的浆料附着和释放。
[0030]本申请转印基板的柔性层或者保护层的设置，其耐高温、激光透射较好，这也保证了转印基板的使用寿命。
[0031]本申请转印基板的柔性层，可以更加方便和容易的通过压印、激光等方式获得各种截面形状的沟槽。
[0032]本申请转印基板的保护膜的设置，使得浆料更容易填充和脱落。
[0033]本申请的转印基板，其沟槽槽底和/或槽口为平滑界面，避免了刮刀将浆料刮入沟槽图案时，导致的沟槽崩边，延长了转印基板的使用寿命。
[0034]本申请的转印基板，所述的沟槽深度和宽度的比值为1:1—1:0.4，可以在更深的范围内承载浆料，在进行副栅的转印时，可以转印形成高高宽比的印刷栅线。
[0035]本申请的转印基板，与沟槽相对侧的一面上设置有激光增透膜，以增加激光的透光性。转印基板光透过率增高，光吸收少，可以进一步增强浆料释放效果和延长转印基板的使用寿命。
[0036]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0037]图1是本申请的激光转印的示意图；
[0038]图2是本申请一种实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转印基板，包括设置在转印基板上的沟槽，一个或多个所述沟槽组成沟槽图案，所述沟槽用以填充印刷浆料，其特征在于：所述转印基板包括至少一个刚性层，所述刚性层为对激光透明的硬质材料层，所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.02μm
‑
2μm，Sz为小于4μm。2.根据权利要求1所述的一种转印基板，其特征在于：所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.2μm
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0.8μm，Sz为小于1.6μm。3.一种转印基板，包括设置在转印基板上的沟槽，一个或多个所述沟槽组成沟槽图案，所述沟槽图案用以填充印刷浆料，其特征在于：所述转印基板包括至少一个刚性层，以及设置在刚性层上的至少一个保护层，所述沟槽设置在刚性层具有沟槽的一面，且所述保护层至少设置在沟槽内部；或者，所述转印基板包括至少一个刚性层，以及设置在刚性层上的至少一个柔性层，所述沟槽设置在柔性层上；所述刚性层为对激光透明的硬质材料层，所述保护层或柔性层为对激光透明的有机层。4.根据权利要求3所述的一种转印基板，其特征在于：所述有机层为非晶态或部分结晶态聚合物。5.根据权利要求4所述的一种转印基板，其特征在于：所述有机层中，非晶态或者部分结晶态聚合物为聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、全芳香族聚酯、脂肪族
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芳香族共聚聚酯、共聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚砜、聚醚砜、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、芳香族聚酰亚胺、脂环族聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、乙酸纤维素、硝酸纤维素、芳香族聚酰胺、聚氯乙烯、聚苯酚、聚芳酯、聚苯硫醚、聚苯醚、聚苯乙烯中的一种。6.根据权利要求3所述的一种转印基板，其特征在于：所述保护层设置在刚性层的沟槽面，覆盖沟槽内部及设置沟槽的刚性层侧的表面。7.根据权利要求3所述的一种转印基板，其特征在于：所述的保护层的厚度为0.1μm
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10μm。8.根据权利要求3所述的一种转印基板，其特征在于：所述柔性层的厚度为50μm
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200μm。9.根据权利要求3所述的一种转印基板，其特征在于：所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.02μm
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2μm，Sz为小于4μm。10.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱胜鹏，李志刚，朱凡，陆红艳，梁乔春，
申请(专利权)人：武汉帝尔激光科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：