一种耐指纹型高抗刮光学保护膜制造技术

技术编号:34525662 阅读:27 留言:0更新日期:2022-08-13 21:16
本发明专利技术公开了一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,包括光学基材层以及调节式布设在光学基材层上端面上的柔性防护层,所述防护层采用回转的“O”字形结构,所述光学基材层的表面形成一个凹陷腔,正对凹陷腔的光学基材层内部形成一个镂空腔,位于凹陷腔两侧的光学基材层上均开设有一个回转槽,回转槽将镂空腔与凹陷腔连接导通,所述防护层穿过回转槽并布设在凹陷腔与镂空腔内。本发明专利技术的光学膜,其采用一种全新的结构,使其表面接触层在出现刮痕时,可以调节防护层的位置,使得刮痕出现在保护膜的边缘位置,减少刮痕对整个光学保护膜的影响,降低经济成本。经济成本。经济成本。

【技术实现步骤摘要】
一种耐指纹型高抗刮光学保护膜


[0001]本专利技术涉及光学保护膜,具体涉及一种耐指纹型高抗刮光学保护膜。

技术介绍

[0002]随着电子消费产品的快速发展,各种保护膜已经成为智能手机、平板电脑等电子产品不可缺少的一种起触摸式电容屏保护功能的产品。
[0003]目前,光学保护膜的售卖成本价格普遍较高,特别是保护膜的质量的提升,导致保护膜的价格非常的高昂,而保护膜的抗刮能力一般都较差,一旦出现刮痕在屏幕中间位置,该刮痕会严重影响整个光学膜的使用,影响整体美观性,所以如果该刮痕的位置如果能够调节至边缘位置,使其不在屏幕中间位置,则可以很好的延长保护膜的使用寿命。

技术实现思路

[0004]本专利技术所要解决的技术问题是一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,可调节刮痕在保护膜上的位置,这样即可延长保护膜的使用寿命,降低花费在保护膜上的经济成本。
[0005]本专利技术是通过以下技术方案来实现的:一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,包括光学基材层以及调节式布设在光学基材层上端面上的柔性防护层,所述防护层采用回转的“O”字形结构,所述光学基材层的表面形成一个凹陷腔,正对凹陷腔的光学基材层内部形成一个镂空腔,位于凹陷腔两侧的光学基材层上均开设有一个回转槽,回转槽将镂空腔与凹陷腔连接导通,所述防护层穿过回转槽并布设在凹陷腔与镂空腔内。
[0006]作为优选的技术方案,当柔性防护层布设在凹陷腔与镂空腔内时,在防护层位于凹陷腔的外侧面形成一个“O”字形的填充腔。
[0007]作为优选的技术方案,所述填充腔内填充一层透明的覆盖层,由覆盖层填充在填充腔内,覆盖层的上端面与光学基材层以及防护层上端面平齐,防护层上端面与光学基材层上端面平齐。
[0008]作为优选的技术方案,防护层与光学基材层的接触部分均设置有胶粘薄层。
[0009]作为优选的技术方案,所述光学基材层的底部设置胶粘层,胶粘层底部设置离型膜层。
[0010]作为优选的技术方案,所述覆盖层下端面与光学基材层之间胶粘固定。
[0011]作为优选的技术方案,所述防护层采用光学级PET薄膜,厚度为100μm,透光率≥96%,雾度≤0.8%,其内含有纳米颗粒与耐指纹成分。
[0012]作为优选的技术方案,所述纳米颗粒为纳米二氧化硅,所述耐指纹成分为氟碳树脂。
[0013]作为优选的技术方案,所述胶粘层为自吸式PU胶粘层。
[0014]作为优选的技术方案,所述胶粘薄层为自吸式PU胶粘层,其厚度小于胶粘层厚度。
[0015]本专利技术的有益效果是:本专利技术在光学基材层上设置可以调节的柔性防护层,这样即使出现刮痕,也可以将刮痕调节至边缘位置,其不影响对显示屏画面的使用,减少刮痕对
光学膜在美观度以及可视度上的影响,增加光学膜的使用寿命,降低经济成本。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本专利技术的整体结构示意图;
[0018]图2为本专利技术图1中C处的局部放大图;
[0019]图3为本专利技术去除覆盖层后的示意图;
[0020]图4为本专利技术图3中A处的局部放大图;
[0021]图5为本专利技术去除防护层以及覆盖层后的结构示意图;
[0022]图6为图5中B处的局部放大图;
[0023]图7为本专利技术的截面示意图。
具体实施方式
[0024]本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
[0025]本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即,除非特别叙述,每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
[0026]在本专利技术的描述中,需要理解的是,术语“一端”、“另一端”、“外侧”、“上”、“内侧”、“水平”、“同轴”、“中央”、“端部”、“长度”、“外端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0027]此外,在本专利技术的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
[0028]本专利技术使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如,如果将图中的设备翻转,则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此,示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向(旋转90度或其他朝向),并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。
[0029]在本专利技术中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“套接”、“连接”、“贯穿”、“插接”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0030]如图1和图2所示,本专利技术的一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,包括光学基材层1以及调节式布设在光学基材层1上端面上的柔性防护层3,防护层3采用回转的“O”字形结构,光学基材层1的表面形成一个凹陷腔4,正对凹陷腔4的光学基材层内部形成一个镂空腔,位于凹陷腔两侧的光学基材层上均开设有一个回转槽5,回转槽5将镂空腔与凹陷腔4连接导通,防护层3穿过回转槽并5布设在凹陷腔4与镂空腔内。
[0031]当柔性防护层3布设在凹陷腔与镂空腔内时,在防护层3位于凹陷腔的外侧面形成一个“O”字形的填充腔,填充腔内填充一层透明的覆盖层2,由覆盖层2填充在填充腔6内,覆盖层2的上端面与光学基材层1以及防护层3上端面平齐,防护层3上端面与光学基材层1上端面平齐。
[0032]其中,防护层3与光学基材层1的接触部分均设置有胶粘薄层,在需要调节防护层进行回转动作时,只需要松动防护层即可调节旋转,将使用一根细针的结构,撕掉覆盖层,如图3和图4所示,此时即可沿着填充腔侧面将细针插入,分离胶粘薄层,使得防护层与光学基材层分离,即可完成调节,将刮痕位移至光学膜的边缘位置即可,然后下压粘接固定,再更换上新的覆盖层,所以每次调节只需要更换一张覆盖层即可,非常的方便,更节约成本。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,包括光学基材层以及调节式布设在光学基材层上端面上的柔性防护层,其特征在于:所述防护层采用回转的“O”字形结构,所述光学基材层的表面形成一个凹陷腔,正对凹陷腔的光学基材层内部形成一个镂空腔,位于凹陷腔两侧的光学基材层上均开设有一个回转槽,回转槽将镂空腔与凹陷腔连接导通,所述防护层穿过回转槽并布设在凹陷腔与镂空腔内。2.根据权利要求1所述的耐指纹型高抗刮光学保护膜,其特征在于:当柔性防护层布设在凹陷腔与镂空腔内时,在防护层位于凹陷腔的外侧面形成一个“O”字形的填充腔。3.根据权利要求2所述的耐指纹型高抗刮光学保护膜,其特征在于:所述填充腔内填充一层透明的覆盖层,由覆盖层填充在填充腔内,覆盖层的上端面与光学基材层以及防护层上端面平齐,防护层上端面与光学基材层上端面平齐。4.根据权利要求3所述的耐指纹型高抗刮光学保护膜,其特征在于:防护层...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐平赵小华
申请(专利权)人:浙江海轩科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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