平衡质量系统技术方案

本实用新型专利技术涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种平衡质量系统。本实用新型专利技术的平衡质量系统，包括：真空腔室和平衡块，平衡块设置在真空腔室中，平衡块能够相对于真空腔室做平面运动，并且平衡块与真空腔室的底部之间有间隔，平衡块通过柔性铰链与真空腔室的内壁相连，柔性铰链能够分别沿X向和Y向发生弹性形变；平衡块的上方设置有磁性件，以对平衡块施加设定大小的向上的作用力。本实用新型专利技术中，采用柔性铰链支撑平衡块，适用于真空环境，能够消除平衡块在运动过程中因质心偏移产生的力矩衰减平衡块向真空腔室传递的振动，同时，在平衡块的上方设置磁性件，能够抵消平衡块的部分重力，从而有利于减小柔性铰链的Z向尺寸。从而有利于减小柔性铰链的Z向尺寸。从而有利于减小柔性铰链的Z向尺寸。

【技术实现步骤摘要】
平衡质量系统


[0001]本技术涉及光刻机
，尤其涉及一种平衡质量系统。

技术介绍

[0002]光刻机作为半导体制造领域的重要设备，其对精度、效率的要求极为严格。在光刻机工件台系统中，为了提高效率，工件台的运动速度非常高，同时还要求保证极高精度。故而在光刻机工件台系统中，通常采用平衡质量系统来缓冲工件台高速运动所产生的反作用力，从而提高工件台系统的运动精度同时减小工件台运动对基础框架的冲击及其引起的振动。
[0003]现有的浸没式光刻机工件台中，粗动部件5通过平面电机驱动并且在平衡块2产生的磁场中运动，粗动部件5在运动过程中会产生反力作用在平衡块2上。若平衡块2固定连接在底座上，将会引起整个系统的振动，从而影响工件台的精度。为降低此类现象的影响，平衡块2采用三个气浮轴承7支撑，以使平衡块2具有X向、Y向及Rz向的自由度，平衡块2采用三个沿圆周均布的直线电机6驱动，如图1中所示。当粗动部件5沿一个方向运动时，平衡块2沿相反方向运动并且其位移与粗动部件5的质量成反比，从而能够保持平衡块2和粗动部件5的质心稳定，抵消粗动部件5运动过程的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平衡质量系统，其特征在于，包括：真空腔室和平衡块，所述平衡块设置在所述真空腔室中，所述平衡块能够相对于所述真空腔室做平面运动，并且平衡块与所述真空腔室的底部之间有间隔，所述平衡块通过柔性铰链与所述真空腔室的内壁相连，所述柔性铰链能够分别沿X向和Y向发生弹性形变；所述平衡块的上方设置有磁性件，以对所述平衡块施加设定大小的向上的作用力。2.根据权利要求1所述的平衡质量系统，其特征在于，所述磁性件为永磁体或电磁铁。3.根据权利要求1或2所述的平衡质量系统，其特征在于，所述平衡块的上方设置有至少两个所述磁性件。4.根据权利要求1或2所述的平衡质量系统，其特征在于，所述柔性铰链包括相连的第一直线段和第二直线段，其中，所述第一直线段沿X向延伸，所述第一直线段上设置有沿Y向凹入的第一切口，并且所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖凤德，郭少龙，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：