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本实用新型涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种平衡质量系统。本实用新型的平衡质量系统，包括：真空腔室和平衡块，平衡块设置在真空腔室中，平衡块能够相对于真空腔室做平面运动，并且平衡块与真空腔室的底部之间有间隔，平衡块通过柔性铰链与真空腔室的内壁相...
该专利属于北京华卓精科科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京华卓精科科技股份有限公司授权不得商用。

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