【技术实现步骤摘要】
用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面及制备方法
[0001]本专利技术涉及吸收型超构表面
,具体涉及用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面及制备方法。
技术介绍
[0002]碳化硅(SiC)作为第三代半导体具有许多优良的特性,包括超高导热性、良好的化学稳定性、较高的强度(耐磨、耐腐蚀、耐高温、硬度高)、高临界磁场、高电子饱和速度等。因此,它适用于高频、高温、高功率、抗辐射的电子器件。此外,碳化硅有一个较宽的带隙,这使得它可以用于制造紫外探测器。碳化硅作为宽带隙材料具有以下优点:碳化硅由于带隙大,受可见光的影响较小,有利于提高紫外光的灵敏度,降低噪声;碳化硅等宽带隙材料大多能制造出小而简单的二维探测器阵列;碳化硅比其他材料性能更稳定。近年来,SiC的应用取得了突破,已应用于新能源汽车和铁路运输等领域。
[0003]由于臭氧层在200
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400nm波长范围内的紫外光有很强的吸收,因此在这个波长范围内工作的紫外探测器需要较高的灵敏度。碳化硅作为一种对紫外线有很高灵敏度的宽带隙材料,在紫外探测器 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面,其特征在于,包括:绝缘基板;碳化硅层,被设置在绝缘基板表面;碳化硅超构表面,被设置在碳化硅层表面;其中,所述碳化硅超构表面包括纳米柱或纳米孔微结构,所述纳米柱或纳米孔微结构间距相同,并按照四方晶格周期性排列在碳化硅层表面,微结构的材料为碳化硅;减反射覆盖层,被设置在碳化硅超构表面表层,所述减反射覆盖层的材料为二氧化硅;电极,被设置在减反射覆盖层表面。2.根据权利要求1所述的用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面,其特征在于,所述纳米柱或纳米孔微结构为亚波长微结构,纳米柱微结构的高度与纳米孔微结构的深度相同,纳米柱微结构与纳米孔微结构的横截面均为圆形且大小相等。3.根据权利要求2所述的用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面,其特征在于,所述纳米柱或纳米孔微结构的间距为400nm。4.根据权利要求3所述的用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面,其特征在于,所述纳米柱与纳米孔微结构的横截面为直径为300nm的圆形。5.根据权利要求4所述的用于高增益紫外光电探测器的碳化硅超构表面,其特征在于,所述...
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