一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置及使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及施釉装置技术领域，尤其是一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，包括箱体以及连通管，所述箱体的上端为开口设置，所述滑动结构包括支撑架、转轴、滚筒以及限位块，两个所述支撑架分别倾斜安装在所述箱体的内壁以及隔板的侧面上，所述转轴固定在两个所述支撑架之间，所述滚筒套设在两个所述转轴之间，所述限位块安装在所述滚筒内侧的转轴末端。本发明专利技术采用浸泡的方式，将陶瓷瓦顺着滚筒滑落，滑落的过程中充分的与箱体内部的物料实现接触，并将釉料均匀的包裹在瓦片的外表面，实现均匀施釉的效果。的效果。的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置及使用方法


[0001]本专利技术涉及施釉装置
，尤其涉及一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置及使用方法。

技术介绍

[0002]陶瓷瓦，属于一种屋顶建筑材料，它有呈长方形的瓦体，所述的瓦体的正面有纵向的凹槽，在凹槽上端的瓦体上有挂瓦挡头，瓦体的左、右两侧分别为左搭合边和右搭合边，在瓦体背面的下端有后爪凸台，瓦体背面的凸起部位有突出的后肋；
[0003]现有市场上的陶瓷瓦加工用施釉装置无法实现对表面均匀的施釉，使得陶瓷瓦表面粗细不均匀，影响后续瓦片的加工。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在无法实现对表面均匀的施釉，使得陶瓷瓦表面粗细不均匀，影响后续瓦片的加工的缺点，而提出的一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置及使用方法。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
[0006]设计一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，包括箱体以及连通管，所述箱体的上端为开口设置，所述箱体中部竖直安装有隔板，所述箱体的内部两侧与隔板之间均设置有滑动结构，所述滑动本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，包括箱体(1)以及连通管(5)，其特征在于，所述箱体(1)的上端为开口设置，所述箱体(1)中部竖直安装有隔板(11)，所述箱体(1)的内部两侧与隔板(11)之间均设置有滑动结构，所述滑动结构包括支撑架(2)、转轴(6)、滚筒(7)以及限位块(9)，两个所述支撑架(2)分别倾斜安装在所述箱体(1)的内壁以及隔板(11)的侧面上，所述转轴(6)固定在两个所述支撑架(2)之间，所述滚筒(7)套设在两个所述转轴(6)之间，所述限位块(9)安装在所述滚筒(7)内侧的转轴(6)末端。2.根据权利要求1所述的陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，其特征在于，其特征在于，所述箱体(1)的内部一侧放置有网架(8)，所述网架(8)位于支撑架(2)的下端一侧，所述网架(8)的尺寸与所述箱体(1)的内侧尺寸相互匹配，所述网架(8)的上部对称设置有连接板(4)。3.根据权利要求2所述的陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，其特征在于，所述连接板(4)的一侧上端水平安装有连接片(3)，不同所述连接片(3)的底部与所述箱体(1)的上端口以及隔板(11)上部相接触。4.根据权利要求3所述的陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，其特征在于，所述网架(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱坤，汤雷雷，
申请(专利权)人：谷城钜沣陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：