一种承载盘装置及基板生长反应系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种承载盘装置及基板生长反应系统，涉及气相沉积技术领域，该承载盘装置包括承载盘，承载盘上设有一个或多个放置槽，放置槽用于放置基板，承载盘装置还包括隔离组件，隔离组件设于放置槽内，隔离组件包括环状体，环状体可拆卸连接于放置槽内，以通过环状体，在放置槽和基板之间形成间隔，通过该装置的设置，实现基板在加工时，可避免放置槽的侧壁破损，解决因承载盘出现破损，而影响薄膜生长质量的问题，此外通过环状体的可拆卸连接，还可有效减少承载盘的报废和修补，具有延长承载盘使用寿命的效果。延长承载盘使用寿命的效果。延长承载盘使用寿命的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种承载盘装置及基板生长反应系统


[0001]本技术涉及气相沉积
，具体为一种承载盘装置及基板生长反应系统。

技术介绍

[0002]在制作化合物半导体如蓝光、紫外、红光、红外LED或激光器过程中，通常会使用MOCVD技术，MOCVD是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术，当通过MOCVD机台(有机金属化学气象沉积设备)在基板上生长所需要的薄膜时，由于基板表面的反应非常复杂，除了控制参数以形成好的薄膜外，基板的承载结构设计也尤为重要。
[0003]加工基板时，需将基板放置在MOCVD腔室内的承载盘上，在承载盘上设置有用于装载基板的多个圆槽，目前的承载盘采用石墨，且表面涂碳化硅制成，在其背面设置有孔状结构可与MOCVD腔室内的支柱连接，利用支柱的旋转带动承载盘旋转，以实现在基板上生长薄膜。
[0004]由于承载盘在工作时需高速旋转，因此在基板与圆槽之间会产生非常大的作用力，当受力后很容易在承载盘上出现缺口，严重会导致承载盘内部的石墨喷出，影响薄膜质量。

技术实现思路

>[0005]基于此本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种承载盘装置，用于基板生长，其特征在于，所述承载盘装置包括承载盘，所述承载盘上设有一个或多个放置槽，所述放置槽用于放置所述基板；所述承载盘装置还包括隔离组件，所述隔离组件设于所述放置槽内，所述隔离组件包括环状体，所述环状体可拆卸连接于所述放置槽内，以通过所述环状体，在所述放置槽和所述基板之间形成间隔。2.根据权利要求1所述的承载盘装置，其特征在于：所述放置槽以所述承载盘的中心阵列设于所述承载盘上并构成一个或多个放置槽群，所述放置槽群中所述放置槽的数量以所述承载盘的边缘逐渐向所述承载盘的中心递减。3.根据权利要求2所述的承载盘装置，其特征在于：所述放置槽内设有多个用于支撑所述基板的第一支撑块，所述第一支撑块以所述放置槽的中心为圆心阵列设于所述放置槽内。4.根据权利要求3所述的承载盘装置，其特征在于：所述环状体上设有供所述第一支撑块穿过的凹槽，当所述环状体位于所述放置槽内时，所述环状体靠近所述承载盘的边缘与所述承载盘的表面在同一平面上，且所述基板的一侧与所述第一支撑块的边缘抵靠。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：焦二斌，张铭信，陈铭胜，
申请(专利权)人：江西兆驰半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：