一种紫外193nm增透膜的制备方法技术

本发明专利技术涉及增透膜的技术领域，尤其涉及一种紫外193nm增透膜的制备方法。制备方法的镀膜材料为氟化镧和氟化镁，采用热电阻蒸发材料的方式进行镀膜，镀膜基底采用的是高纯度熔融JGS1石英玻璃。采用了高纯度熔融JGS1石英玻璃，此种基板机械强度高表面易于处理，可做成高精抛光表面，减少基板界面的散射，整体提高了紫外193nm增透膜的透过率，降低了193nm处的损耗，提高了光刻机的能量传输效率。提高了光刻机的能量传输效率。

【技术实现步骤摘要】
一种紫外193nm增透膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种紫外193nm增透膜，尤其涉及一种紫外193nm增透膜的制备方法。

技术介绍

[0002]随着激光在半导体工业的应用 ,要求光学薄膜在短波长范围具有高性能及稳定性，尤其于ArF 激光系统的光学薄膜对于激光微加工及光刻技术具有重要意义。
[0003]真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。
[0004]我国光学薄膜行业的高速发展，对于光刻机系统当中所使用的193nm增透膜的镜片需求越来越大和质量要求也越越高，对于极紫外薄膜的制备技术也提出了更高的要求。

技术实现思路

[0005]本专利技术旨在解决上述缺陷，提供一种紫外193nm增透膜的制备方法。
[0006]为了克服
技术介绍
中存在的缺陷，本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：这种紫外193nm增透膜的制备方法该制备方法包括，第一步、基底制作：a、选取紫外级熔融石英JGS1为基底；b、基底镀膜前进行基板的超超声波的清洗或者采用人工擦拭，去除镜片表面的污物和灰尘，超声波采用乙醚当溶剂，清洗15分钟；c、基板清洗好后，进机台内加热400度，不采用离子源清洁工艺，防止离子源的污染；第二步、镀膜：a、将机台抽气恒温3个半小时以上，再进行氟化镧、氟化镁镀膜，依次镀膜四层；b、镀膜后，进行机台保温15分钟，随后冷却三个小时以上，放气、取出镜片；第三步、镜片采用有机溶剂清洗，随后抽真空包装。
[0007]根据本专利技术的另一个实施例，进一步包括所述四层镀膜的结构按镀膜先后依次为1.63H、1.4121L、0.833H 、0.9081L，其中H为氟化镧，L为氟化镁。
[0008]本专利技术的有益效果是：一种紫外193nm增透膜的制备方法采用了高纯度熔融JGS1石英玻璃，此种基板机械强度高表面易于处理，可做成高精抛光表面，减少基板界面的散射，整体提高了紫外193nm增透膜的透过率，降低了193nm处的损耗，提高了光刻机的能量传输效率。
附图说明
[0009]下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。
[0010]图1是氟化镧、氟化镁的透过率设计光谱图；
图2是氟化镧、氟化镁的反射率设计光谱图；图3是酒精乙醚混合液擦拭基板后的透过率曲线图；图4是沾水不擦拭自然干基板的透过率曲线图。
具体实施方式
[0011]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0012]紫外193nm增透膜的制备方法，其特征在于，该制备方法包括，第一步、基底的制作：a、选取紫外级熔融石英JGS1为基底；b、基底镀膜前进行基板的超超声波的清洗或者采用人工擦拭，去除镜片表面的污物和灰尘，超声波采用乙醚当溶剂，清洗15分钟；c、基板清洗好后，进机台内加热400度，不采用离子源清洁工艺，防止离子源的污染；第二步、镀膜：a、将机台抽气恒温3.5小时以上，再进行氟化镧、氟化镁镀膜，依次镀膜四层；b、镀膜后，进行机台保温15分钟，随后冷却三个小时以上，放气、取出镜片；第三步、镜片采用有机溶剂清洗，随后抽真空包装。
[0013]其中，四层镀膜的结构按镀膜先后依次为1.63H、1.4121L、0.833H 、0.9081L，其中H为氟化镧，L为氟化镁。如图1、2所示的光谱图，此图中已将材料的吸收带入，理论设计的最高点为98.8%，由材料本身的吸收参数来看，氟化镧的吸收参数为千分之二，氟化镁的吸收参数为千分之一点五，反应在设计光谱上时，会降低透过率1.2% ，从反射率上看，不会影响镜片表面的反射。
[0014]紫外级熔融石英JGS1为高纯度熔融JGS1石英玻璃，此种基板机械强度高表面易于处理，可做成高精抛光表面，减少基板界面的散射。相对于一款氟化钙基板，该基板由于基板材质比较软，镜片表面并不能做到精抛光，且表面易出现划痕，热稳定性也不太好。如图3、4两个图是对熔融JGS1石英玻璃基板不同方法进行处理后的透过率曲线图,通过上面两种基板处理方法的对比，可以清楚一点，水分对于极紫外的透过率影响是很大的，因此对于基板的处理和镀膜时对于水分的处理需要认真对待，排除水分对于基板和镀膜的的影响，因此镀膜时采用400度高温，同时尽量将机器抽气时间进行延长，排除水分，减少真空腔体内的多余气体分子，建议抽气在三个小时以上，对于机器内部需要彻底进行大扫除，拆除一切多余的部件，机台不进行铝箔包裹。以减少其他物质镀出来影响光谱透过率。
[0015]对于采用400度高温工艺，是为了提高镜片表面的膜层牢固度以及使膜层更致密，减少水分进入膜层内部，通过前面的实验可以看到水分对于极紫外透过率有极大地影响。因此在镀膜时需要尽量多的排除水分，以提高透过率。
[0016]以上所述，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，根据本专利技术的技术方案及其
专利技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紫外193nm增透膜的制备方法，其特征在于，该制备方法包括，第一步、基底的制作：a、选取紫外级熔融石英JGS1为基底；b、基底镀膜前进行基板表面污物和灰尘的去除处理；c、基板清洗好后，进机台内加热到400度；第二步、镀膜：a、将机台抽气恒温3.5小时以上，再进行氟化镧、氟化镁镀膜，依次镀膜四层；b、镀膜后，进行机台保温15分钟，随后冷却三个小时以上，放气、取出镜片；第三步、镜...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍刚华，
申请(专利权)人：鲍刚华，
类型：发明
国别省市：