一种底座、清洗基站及清洁设备制造技术

技术编号:34356117 阅读:38 留言:0更新日期:2022-07-31 06:37
本申请公开了一种底座、清洗基站及清洁设备,涉及清洁设备技术领域。底座包括底座本体和围板。所述底座本体上具有容纳槽,所述容纳槽用于容纳清洁设备的拖布,所述底座本体上设置有清水进口和污水出口;所述围板、所述容纳槽的至少一部分侧壁和所述容纳槽的至少一部分底部限定形成洗涤槽,且所述洗涤槽内设置有多个凸起部;其中所述清水进口与所述洗涤槽连通,所述污水出口位于所述洗涤槽的外部,并低于所述围板的顶部。本申请提供的底座,当拖布旋转洗涤时,拖布与洗涤槽接触,拖布也不断接触凸起部,使其边浸水边摩擦,有利于对拖布的清洗,同时,防止了污水与洗涤槽处清水的混合,提高了对拖布的清洗效果。提高了对拖布的清洗效果。提高了对拖布的清洗效果。

【技术实现步骤摘要】
一种底座、清洗基站及清洁设备


[0001]本申请涉及清洁设备
,尤其涉及一种底座、清洗基站及清洁设备。

技术介绍

[0002]目前,随着科技水平的提高,人们越来越倾向于采用扫地机器人来代替人工完成扫地、吸尘、拖地等工作,以减轻人们清洁地面的工作负担,扫地机器人能够缓解体力劳累,使其受到越来越广泛的应用。扫地机器人通常设有拖布,拖布脏污后,扫地机器人进入基站,在基站对拖布进行清洗。
[0003]现有技术中,一般在基站的底座设置容纳槽,容纳槽内设置有多个凸起,扫地机器人的拖布可位于容纳槽与凸起摩擦内进行冲洗,然而这样拖布在清洗时容易使清水和污水相混合,导致拖布清洗不干净,降低了清洗效果。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本申请的目的是为了克服现有技术中的不足,本申请提供了一种底座,以解决现有技术中拖布清洗不彻底的技术问题。
[0005]本申请的第一方面提供了:
[0006]一种底座,包括:
[0007]底座本体,所述底座本体上具有容纳槽,所述容纳槽用于容纳清洁设备的拖布,所述底座本体上设置有清水进口和污水出口;
[0008]围板,所述围板、所述容纳槽的至少一部分侧壁和所述容纳槽的至少一部分底部限定形成洗涤槽,且所述洗涤槽内设置有多个凸起部;
[0009]其中,所述清水进口与所述洗涤槽连通,所述污水出口位于所述洗涤槽的外部,并低于所述围板的顶部。
[0010]另外,根据本申请的底座,还可具有如下附加的技术特征:
[0011]在本申请的一些实施方式中,所述围板的顶部沿远离所述清水进口的方向朝向所述容纳槽的底部倾斜设置。
[0012]在本申请的一些实施方式中,所述围板的顶部倾斜角度为α,满足8度≤α≤17度。
[0013]在本申请的一些实施方式中,所述洗涤槽呈扇形结构,所述扇形结构的纵向截面面积向远离所述清水进口的方向逐渐减小。
[0014]在本申请的一些实施方式中,所述清水进口靠近所述洗涤槽的一侧设置有多个间隔设置的挡板,相邻两个所述挡板之间形成有间隙。
[0015]在本申请的一些实施方式中,所述容纳槽内设置有凸筋,所述凸筋的顶部设置多个凸起,且所述凸筋位于所述洗涤槽的外部。
[0016]在本申请的一些实施方式中,所述洗涤槽至少设置有两个,且所述污水出口位于相邻两个所述洗涤槽之间。
[0017]在本申请的一些实施方式中,所述底座本体上还设置有送风口,所述送风口位于
相邻两个所述洗涤槽之间。
[0018]在本申请的一些实施方式中,所述底座本体上还设置有液位检测传感器。
[0019]在本申请的第二方面还提供了一种清洗基站,包括上述任一实施例中所述的底座。
[0020]在本申请的第三方面还提供了一种清洁设备,包括上述任一实施例中所述的清洗基站。
[0021]相对于现有技术,本申请的有益效果是:本申请提出一种底座,底座本体上具有容纳槽,容纳槽用于容纳清洁设备的拖布。围板、容纳槽的至少一部分侧壁和容纳槽的至少一部分底部限定形成洗涤槽,洗涤槽与拖布接触。当拖布旋转洗涤时,清水进口将清水导流至洗涤槽内,拖布与洗涤槽接触,拖布也不断接触凸起部,使其边浸水边摩擦,有利于对拖布的清洗。同时,污水出口位于洗涤槽的外部,并低于围板的顶部,使凸起部与拖布摩擦挤出的污水,流至洗涤槽外部,防止了污水与洗涤槽处清水的混合,提高了对拖布的清洗效果。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0023]图1示出了本申请一些实施例中底座的立体示意图;
[0024]图2示出了图1中A部放大结构示意图;
[0025]图3示出了本申请一些实施例中底座的一视角示意图;
[0026]图4示出了图3中B

B向剖视结构示意图;
[0027]图5示出了本申请一些实施例中底座的另一视角示意图;
[0028]图6示出了图5中C

C向剖视结构示意图;
[0029]图7示出了图6中D部放大结构示意图;
[0030]图8示出了本申请一些实施例中底座的又一视角示意图;
[0031]图9示出了本申请一些实施例中拖布放置在底座的位置关系的立体示意图;
[0032]图10示出了本申请一些实施例中拖布放置在底座的位置关系的一视角示意图。
[0033]主要元件符号说明:
[0034]100

底座;10

底座本体;11

容纳槽;12

清水进口;13

污水出口;14

挡板;141

间隙;15

凸筋;151

凸起;16

送风口;20

洗涤槽;21

围板;211

第一侧板;212

第二侧板;213

第三侧板;22

凸起部;221

凸台;222

凸点;30

液位检测传感器;40

排水管;200

拖布。
具体实施方式
[0035]下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
[0036]在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、

厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
[0037]此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
[0038]在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种底座,其特征在于,包括:底座本体,所述底座本体上具有容纳槽,所述容纳槽用于容纳清洁设备的拖布,所述底座本体上设置有清水进口和污水出口;围板,所述围板、所述容纳槽的至少一部分侧壁和所述容纳槽的至少一部分底部限定形成洗涤槽,且所述洗涤槽内设置有多个凸起部;其中,所述清水进口与所述洗涤槽连通,所述污水出口位于所述洗涤槽的外部,并低于所述围板的顶部。2.根据权利要求1所述的底座,其特征在于,所述围板的顶部沿远离所述清水进口的方向朝向所述容纳槽的底部倾斜设置。3.根据权利要求2所述的底座,其特征在于,所述围板的顶部倾斜角度为α,满足8度≤α≤17度。4.根据权利要求1所述的底座,其特征在于,所述洗涤槽呈扇形结构,所述扇形结构的纵向截面面积向远离所述清水进口的方向逐渐减小。5.根据权利要求1所述的底座...

【专利技术属性】
技术研发人员:肖栋刘德福
申请(专利权)人:深圳市优必选科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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