紫外处理设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种紫外处理设备，将第一待处理对象放置于第一加热台上进行加热，同时紫外光组件用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象，夹持组件可夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，使得对所述第一待处理对象的加热和紫外光照射更加均匀，从而提高所述第一待处理对象的结构强度和稳定性；同时，气压组件可改变处理腔室内的气压状态，例如使处理腔室达到真空状态，满足紫外处理工艺的特定环境要求，从而减少了废品率，降低了成本，并且可以提高处理腔室的保温性，减少热量损耗，降低能耗。本实用新型专利技术中的紫外处理设备在工作时不需要操作人员参与，避免高温、紫外光对人体产生损伤。伤。伤。

【技术实现步骤摘要】
紫外处理设备


[0001]本技术涉及紫外处理
，尤其涉及一种紫外处理设备。

技术介绍

[0002]目前，一些由高分子材料制成的产品的结构强度和稳定性达不到要求，需要在制备完成后再进行一道强化工艺，从而增加产品的结构强度和稳定性。通常，这道强化工艺是将产品置于真空环境或氮气环境下，通过加热产品并进行紫外光照射实现。目前并没有能够实现这道强化工艺的设备，如果依靠人工手动操作，操作人员难以在真空或充氮的环境内作业，且紫外光也对人体有害，即使这些困难能够克服，人工操作也面临处理效率低下，操作难度高等问题，所以设计本台设备。
[0003]在此之前，虽然有诸如PP粒子的烘干箱等类似的箱体设备，但在这类设备中，产品受热、受紫外照射不够均匀，从而导致产品的结构强度和稳定性无法进一步提高。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种紫外处理设备，能够较好的实现高分子材料制成的产品的强化工艺，提高产品的结构强度和稳定性。
[0005]为了达到上述目的，本技术提供了一种紫外处理设备，包括：
[0006]处理腔室；
[0007]气压组件，连接所述处理腔室，用于改变所述处理腔室内的气压状态；
[0008]第一加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第一待处理对象；
[0009]紫外光组件，位于所述处理腔室内，用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象；以及，
[0010]夹持组件，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，且所述第一待处理对象的旋转轴与所述紫外光的光路垂直。
[0011]可选的，还包括：
[0012]第二加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第二待处理对象。
[0013]可选的，所述第一加热台及所述第二加热台在所述紫外光的光路上具有重叠区域，且所述第一加热台及所述第二加热台中至少最靠近所述紫外光组件的一者可拆卸地设置于所述处理腔室内。
[0014]可选的，所述第一待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度大于或等于一设定值，所述第二待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度小于所述设定值。
[0015]可选的，所述第一加热台上具有一凹槽，所述凹槽的底面及侧面均为加热面，所述第一待处理对象位于所述凹槽内。
[0016]可选的，所述第一待处理对象和/或所述第二待处理对象的材料包括合成纤维、树脂、塑料或橡胶。
[0017]可选的，所述第一加热台用于将所述第一待处理对象加热至熔融状态；和/或，所
述第二加热台用于将所述第二待处理对象加热至熔融状态。
[0018]可选的，所述气压组件包括：
[0019]真空单元，用于将所述处理腔室抽真空；和/或，
[0020]供气单元，用于向所述处理腔室内通入惰性气体并逼走所述处理腔室内的空气。
[0021]可选的，所述紫外光组件包括：
[0022]紫外光源，用于发出所述紫外光；以及，
[0023]伸缩单元，设置于所述处理腔室的内壁上并连接所述紫外光源，以驱动所述紫外光源沿靠近或远离所述第一加热台的方向移动。
[0024]可选的，所述夹持组件包括：
[0025]夹持单元，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持所述第一待处理对象；以及，
[0026]驱动单元，位于所述处理腔室外，用于连接所述夹持单元并驱动所述夹持单元及所述第一待处理对象旋转。
[0027]在本技术提供的紫外处理设备中，将第一待处理对象放置于第一加热台上进行加热，同时紫外光组件用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象，夹持组件可夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，使得对所述第一待处理对象的加热和紫外光照射更加均匀，从而提高所述第一待处理对象的结构强度和稳定性；同时，气压组件可改变处理腔室内的气压状态，例如使处理腔室达到真空状态，满足紫外处理工艺的特定环境要求，从而减少了废品率，降低了成本，并且可以提高处理腔室的保温性，减少热量损耗，降低能耗。本技术中的紫外处理设备在工作时不需要操作人员参与，避免高温、紫外光对人体产生损伤。
附图说明
[0028]图1为本技术实施例提供的紫外处理设备的结构示意图；
[0029]图2为本技术实施例提供的伸缩单元的结构示意图；
[0030]图3为本技术实施例提供的第一加热台的剖面示意图；
[0031]其中，附图标记为：
[0032]100
‑
机架；200
‑
处理腔室；301
‑
真空单元；302
‑
供气单元；401
‑
第一加热台；411
‑
凹槽；412
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加热棒；402
‑
第二加热台；501
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伸缩单元；511
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固定板；512
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伸缩架；513
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连杆；514
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丝杆；515
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旋钮；502
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紫外光源；601
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旋转电机；602
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紧定轴承；603
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夹爪；701
‑
第一待处理对象；702
‑
第二待处理对象。
具体实施方式
[0033]下面将结合示意图对本技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。
[0034]图1为本实施例提供的紫外处理设备的结构示意图。如图1所示，本实施例中，所述紫外处理设备用于处理第一待处理对象701和/或第二待处理对象702，所述第一待处理对象701和所述第二待处理对象702均可由高分子材料制成，所述高分子材料是以高分子化合物为基础的材料，如合成纤维、树脂、塑料和橡胶等材料。由于高分子材料的特性，通过所述紫外处理设备将所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702加热至熔融状态，
并利用紫外光对所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702进行照射，可以增加所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702的结构强度和稳定性。所述第一待处理对象701及所述第二待处理对象702可以是诸如医疗等领域中会使用到的产品，本技术不作限制。
[0035]当然，作为可选实施例，所述第一待处理对象701和所述第二待处理对象702不限于采用高分子材料制成，所述紫外处理设备也不限于仅用于对高分子材料进行强化，只要是需要进行加热及紫外光照射的应用场合均可以使用本实施例中的所述紫外处理设备，此处不再一一举例说明。
[0036]请继续参阅图1，本实施例中，所述紫外处理设备包括机架100、处理腔室200、气压组件、第一加热台401、紫外光组件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紫外处理设备，其特征在于，包括：处理腔室；气压组件，连接所述处理腔室，用于改变所述处理腔室内的气压状态；第一加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第一待处理对象；紫外光组件，位于所述处理腔室内，用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象；以及，夹持组件，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，且所述第一待处理对象的旋转轴与所述紫外光的光路垂直。2.如权利要求1所述的紫外处理设备，其特征在于，还包括：第二加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第二待处理对象。3.如权利要求2所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一加热台及所述第二加热台在所述紫外光的光路上具有重叠区域，且所述第一加热台及所述第二加热台中至少最靠近所述紫外光组件的一者可拆卸地设置于所述处理腔室内。4.如权利要求2或3所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度大于或等于一设定值，所述第二待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度小于所述设定值。5.如权利要求4所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一加热台上具有一凹槽，所述凹槽的底面及...

【专利技术属性】
技术研发人员：温一秋，应云海，詹东，钱太利，刁思远，张明明，
申请(专利权)人：微创投资控股有限公司，
类型：新型
国别省市：