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基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法技术

技术编号:34348543 阅读:22 留言:0更新日期:2022-07-31 05:16
本发明专利技术公开了基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法,包括:1)基于ResNet网络进行晶圆特征提取;2)融合注意力的特征图金字塔网络A

FPN wafer surface defect detection method based on parallel attention compensation mechanism

【技术实现步骤摘要】
基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法


[0001]本专利技术涉及晶圆后处理领域,特别涉及基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法。

技术介绍

[0002]在晶圆缺陷检测过程中,由于晶圆表面具有图案整齐的线路,所以导致晶圆进行视觉检测时,整齐规则排列的电路图案会成为非常复杂的背景,所以在晶圆检测过程中,缺陷表现为形状多样的多尺度特征,以上难点为检测任务带来了极大的挑战。所以需要解决在检测过程中复杂背景干扰的问题,提高缺陷检测精度。
[0003]本次需要解决的主要技术是现有晶圆检测技术中,在检测过程中无法抑制背景图像干扰,造成缺陷漏检、误检等问题,而提出的一种融合注意力的多尺度晶圆表面缺陷检测的方法。
[0004]2018年邡鑫等人在《基于卷积神经网络的晶圆缺陷检测与分类算法》(计算机工程,2018,44(08):218

223)一文中采用改进的更快区域

卷积神经网络方法(Faster RCNN:全称:Faster Regions with CNN Features)对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1)基于ResNet网络进行晶圆特征提取;步骤2)融合注意力的特征图金字塔网络A

FPN对特征图进行细分化;步骤3)基于K

means聚类改进锚框的大小生成;步骤4)得到候选区域进行分类及回归。2.根据权利要求1所述的基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法,其特征在于,步骤1)具体包括使用ResNet

50网络进行特征提取,得到四种不同规格的特征图,包括底层特征图L2、L3和高层特征图L4和L5。3.根据权利要求2所述的基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法,其特征在于,所述步骤2)具体包括:在底层特征图L2、L3输出位置设置通道注意力机制,L2、L3经过通道注意力融合后得到精细特征图C2、C3;在高层特征图L4输出位置设置空间注意力机制,L4经过空间注意力融合后得到精细特征图F
’4,将特征图输进FPN网络之前,先进行通道筛选和区域筛选。4.根据权利要求3所述的基于并行注意力补偿机制的FPN晶圆表面缺陷检测方法,其特征在于,所述通道注意力机制的执行过程具体包括:首先对特征图进行平均池化和最大池化,提取两种特征描述和并使特征图的输出变为1
×1×
C/r,r为降维倍数;其次,将这两个不同的特征和分别送入中间的共享网络层,然后将得到的两个特征的对应元素相加,再经过sigmoid激活函数得到通道注意力图Mc为1
×1×
C;最后和原始主干网络的输出相连接,如公式1所示:Mc(F)=σ(P
MLP
(P
avg
(F)+P
MLP
(P
max
(F)))(1)化简可得:其中,共享网络层表示一个多层感知机,在公式中用P
MLP
表示,包含两层的神经网络;P
avg
表示平均池化,P
max
表示最大池化,σ代表sigmoid激活函数,W0和W1代表的是多层感知机模型的两层参数,且W0和W1之间的特征采用ReLU作为激活函数进行处理;最后,将Mc(F)与其输入特征相乘得到经过通道注意力调整的...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙进梁立刘芳军杨志勇
申请(专利权)人:扬州大学
类型:发明
国别省市:

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