本实用新型专利技术公开了一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，涉及单晶生长炉内部石墨热场件的打磨清理工作技术领域，包括主体装置、隔离箱体和清理组件，所述主体装置的内部设置有隔离箱体，所述隔离箱体的上表面设置有清理组件，所述隔离箱体的内壁固定连接有消音隔板，所述隔离箱体的底面固定连接有收集底座，所述收集底座的上表面开设有环槽。本实用新型专利技术通过，隔离箱体内部安装的消音隔板对打磨容器产生的噪音进行吸收，安装的水泵通过进水管抽取水，再通过出水管底端的水流喷嘴喷出，进行打磨之后的装置辅助清理，打磨过程中，通过气流喷嘴喷出气泵抽取的气体，配合吸尘管对石墨粉进行定向的收集，同时，对残留的碎屑进行清理。对残留的碎屑进行清理。对残留的碎屑进行清理。
【技术实现步骤摘要】
一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台
[0001]本技术涉及单晶生长炉内部石墨热场件的打磨清理工作
，具体涉及一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台。
技术介绍
[0002]在惰性气体环境中，单晶炉设备通过石墨加热器及其他石墨件将多晶硅等多晶材料在高温下熔化成溶液，并采用直拉法生长无错位单晶。其中单晶炉热场是单晶炉中的必备部件，主要由柱状等静压石墨加工而成。单晶炉热场件在运行完一炉后，需要对单晶炉内的石墨件进行拆清处理，清除附着在石墨件上的碳化硅、硅蒸汽、黄色氧化物等杂质。如果石墨件有溅硅，则需要进行打磨处理。
[0003]目前，在清理石墨件上附着杂质时，操作人员是在热场打磨清理间内作业，主要采用百洁布和手持式角磨机。然而在擦拭与打磨碳化硅、硅蒸汽、黄色氧化物等杂质时，容易产生较多粉尘，导致清理作业环境较差，工作间石墨粉污染较重。
[0004]在石墨件打磨清理完成后，还需要将其表面的石墨粉及其他粉尘清理干净，目前是使用纤维纸蘸取酒精对石墨件表面进行整体擦拭。这样的清理方法导致石墨件表面清理质量较差，无法达到拆清质量的要求，现有的打磨装置在使用时还存在一定的缺陷。
[0005]针对现有技术存在以下问题：
[0006]1、现有的打磨装置在使用时，常常会产生噪声污染，对车间生产环境和工人的健康带来不利影响；
[0007]2、现有的打磨装置在使用时，因为打磨的结构单一，所以不能对石墨件表面进行快打磨，而且，打磨完毕之后，石墨件表面会残留碎屑，不方便清理。
技术实现思路
[0008]本技术提供一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，其中一种目的是为了具备隔离箱体、水泵和水流喷嘴，解决现有的打磨装置在使用时，常常会产生噪声污染，对车间生产环境和工人的健康带来不利影响的问题；其中另一种目的是为了现有的打磨装置在使用时，因为打磨的结构单一，所以不能对石墨件表面进行快打磨，而且，打磨完毕之后，石墨件表面会残留碎屑，不方便清理的问题，从而设置了清理组件。
[0009]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：
[0010]一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，包括主体装置、隔离箱体和清理组件，所述主体装置的内部设置有隔离箱体，所述隔离箱体的上表面设置有清理组件。
[0011]所述隔离箱体的内壁固定连接有消音隔板，所述隔离箱体的底面固定连接有收集底座，所述收集底座的上表面开设有环槽，所述环槽的内壁固定连接有导向板收集器，所述导向板收集器的内壁固定连接有滤板。
[0012]所述清理组件的内部设置有辅助套管，所述辅助套管的上表面与所述隔离箱体内壁的顶部固定连接，所述辅助套管的内部设置有出水管，所述出水管的底端固定连接有水
流喷嘴。
[0013]本技术技术方案的进一步改进在于：所述辅助套管内壁的顶部固定连接有中心转轴，所述中心转轴的内壁活动连接有打磨电机，所述打磨电机贯穿所述辅助套管的底面固定连接有上旋件，所述收集底座的内壁固定连接有液压机。
[0014]本技术技术方案的进一步改进在于：所述打磨电机的右侧设置有气泵，所述气泵的左侧固定连接有出气管，所述出气管远离所述气泵的一端固定连接有气流喷嘴，所述液压机的顶端固定连接有支撑盘，所述支撑盘的上表面活动连接有下旋转件，所述气泵的上表面固定连接有进气管。
[0015]本技术技术方案的进一步改进在于：所述出水管远离所述水流喷嘴的一端固定连接有水泵，所述水泵的上表面固定连接有进水管。
[0016]本技术技术方案的进一步改进在于：所述隔离箱体的内壁固定连接有调节杆，所述调节杆远离所述隔离箱体的一端固定连接有打磨刷板。
[0017]本技术技术方案的进一步改进在于：所述隔离箱体的正面活动连接有封门，所述封门的正面固定连接有把手，所述隔离箱体的底面固定连接有支撑架，所述支撑架的底端固定连接有万向轮。
[0018]本技术技术方案的进一步改进在于：所述导向板收集器的底部固定连接有污水通管，所述导向板收集器的外壁固定连接有吸尘管。
[0019]由于采用了上述技术方案，本技术相对现有技术来说，取得的技术进步是：
[0020]1、本技术提供一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，通过隔离箱体内部安装的消音隔板对打磨容器产生的噪音进行吸收，安装的水泵通过进水管抽取水，再通过出水管底端的水流喷嘴喷出，进行打磨之后的装置辅助清理，很好地解决了现有的打磨装置在使用时，常常会产生噪声污染，对车间生产环境和工人的健康带来不利影响的问题。
[0021]2、本技术提供一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，打磨过程中，通过气流喷嘴喷出气泵抽取的气体，配合吸尘管对石墨粉进行定向的收集，同时，对残留的碎屑进行清理，很好地解决了现有的打磨装置在使用时，因为打磨的结构单一，所以不能对石墨件表面进行快打磨，而且，打磨完毕之后，石墨件表面会残留碎屑，不方便清理的问题。
附图说明
[0022]图1为本技术的主体装置结构示意图；
[0023]图2为本技术的主体装置结构细节示意图；
[0024]图3为本技术的辅助套管结构细节示意图；
[0025]图4为本技术的收集底座结构细节示意图。
[0026]图中：1、主体装置；2、隔离箱体；3、清理组件；4、封门；5、支撑架；6、万向轮；7、把手；8、打磨电机；9、消音隔板；10、收集底座；11、下旋转件；12、打磨刷板；13、调节杆；14、辅助套管；15、气泵；16、进气管；17、进水管；18、水泵；19、出水管；20、出气管；21、中心转轴；22、水流喷嘴；23、气流喷嘴；24、上旋件；25、环槽；26、滤板；27、污水通管；28、液压机；29、支撑盘；30、导向板收集器；31、吸尘管。
具体实施方式
[0027]下面结合实施例对本技术做进一步详细说明：
[0028]实施例1
[0029]如图1
‑
4所示，本技术提供了一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，包括主体装置1、隔离箱体2和清理组件3，主体装置1的内部设置有隔离箱体2，隔离箱体2的上表面设置有清理组件3，隔离箱体2的内壁固定连接有消音隔板9，隔离箱体2的底面固定连接有收集底座10，收集底座10的上表面开设有环槽25，环槽25的内壁固定连接有导向板收集器30，导向板收集器30的内壁固定连接有滤板26，清理组件3的内部设置有辅助套管14，辅助套管14的上表面与隔离箱体2内壁的顶部固定连接，辅助套管14的内部设置有出水管19，出水管19的底端固定连接有水流喷嘴22，辅助套管14内壁的顶部固定连接有中心转轴21，中心转轴21的内壁活动连接有打磨电机8，打磨电机8贯穿辅助套管14的底面固定连接有上旋件24，收集底座10的内壁固定连接有液压机28。
[0030]实施例2
[0031]如图1
‑
4所示，在实施例1的基础上，本技术提供一种技术方案：优选本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，包括主体装置(1)、隔离箱体(2)和清理组件(3)，其特征在于：所述主体装置(1)的内部设置有隔离箱体(2)，所述隔离箱体(2)的上表面设置有清理组件(3)；所述隔离箱体(2)的内壁固定连接有消音隔板(9)，所述隔离箱体(2)的底面固定连接有收集底座(10)，所述收集底座(10)的上表面开设有环槽(25)，所述环槽(25)的内壁固定连接有导向板收集器(30)，所述导向板收集器(30)的内壁固定连接有滤板(26)；所述清理组件(3)的内部设置有辅助套管(14)，所述辅助套管(14)的上表面与所述隔离箱体(2)内壁的顶部固定连接，所述辅助套管(14)的内部设置有出水管(19)，所述出水管(19)的底端固定连接有水流喷嘴(22)。2.根据权利要求1所述的一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，其特征在于：所述辅助套管(14)内壁的顶部固定连接有中心转轴(21)，所述中心转轴(21)的内壁活动连接有打磨电机(8)，所述打磨电机(8)贯穿所述辅助套管(14)的底面固定连接有上旋件(24)，所述收集底座(10)的内壁固定连接有液压机(28)。3.根据权利要求2所述的一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，其特征在于：所述打磨电机(8)的右侧设置有气泵(15)，所述气泵(...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢晓静，
申请(专利权)人：谢晓静，
类型：新型
国别省市：
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