清洁系统、基站及清洁系统的控制方法技术方案

本公开涉及一种清洁系统、基站及清洁系统的控制方法。其中，清洁系统，包括：清洁设备，所述清洁设备包括地刷组件，所述地刷组件包括地刷壳体，以及设置在所述地刷壳体前侧边缘的滚刷；基站，所述基站被构造为用于放置所述清洁设备；所述基站的底座上设置清洗槽，所述清洗槽被构造为用于容纳至少部分滚刷；在所述清洗槽中设置有UV光组件；所述滚刷在潮湿状态时其面向所述UV光组件的表面被构造为与所述UV光组件之间具有间隙；所述UV光组件发出的光线被配置为通过所述间隙照射到至少部分所述滚刷的表面。本公开的清洁系统在进行自清洁工作时，可以实现彻底清洁，提升了清洁系统的清洁性能，延长滚刷的使用时限，以及有效改善用户使用体验。使用体验。使用体验。

Cleaning system, base station and control method of cleaning system

【技术实现步骤摘要】
清洁系统、基站及清洁系统的控制方法


[0001]本公开涉及清洁
，尤其涉及一种清洁系统、一种基站；本公开还涉及一种清洁系统的控制方法。

技术介绍

[0002]随着社会生产力的发展，人们的生活水平也得到了提高。在物质基础得到保障的前提下，人们开始借助各种各样的工具来减少劳动量提高生活质量，家用清洁设备应运而生。其中同时具备吸尘和吸水能力的清洗机产品以其强大的地面清洁能力获得了大量消费者的青睐。
[0003]随着技术的更新、产品的迭代，手持式清洗设备获得了长足发展。伴随着用户需求的提升，对手持式清洗设备的自清洁性能有了更全面需求。单纯的水系已经无法满足用户实际使用需求，有鉴于此如何提高清洗机自清洁性能，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]为了解决现有技术中存在的问题，本公开提供了一种清洁系统、基站及清洁系统的控制方法。
[0005]根据本公开的第一方面，提供了一种清洁系统，包括清洁设备和基站；
[0006]所述清洁设备包括地刷组件，所述地刷组件包括地刷壳体，以及设置在所述地刷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁系统，其特征在于，包括：清洁设备(1)，所述清洁设备(1)包括地刷组件(11)，所述地刷组件(11)包括地刷壳体(12)，以及设置在所述地刷壳体(12)前侧边缘的滚刷(13)；基站(2)，所述基站(2)被构造为用于放置所述清洁设备(1)；所述基站(2)的底座(21)上设置清洗槽(22)，所述清洗槽(22)被构造为用于容纳至少部分滚刷(13)；在所述清洗槽(22)中设置有UV光组件(23)；所述滚刷(13)在潮湿状态时其面向所述UV光组件(23)的表面被构造为与所述UV光组件(23)之间具有间隙；所述UV光组件(23)发出的光线被配置为通过所述间隙照射到所述滚刷(13)的至少部分表面。2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗槽(22)被配置为沿着X轴方向延伸，其包括槽底(221)以及位于槽底(221)相对两侧的前槽壁(222)和后槽壁(223)；所述UV光组件(23)包括至少两个在X轴方向上排列的UV灯(231)。3.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述UV光组件(23)包括位于清洗槽(22)下方的灯板(232)，所述灯板(232)通过盖板(233)固定在所述清洗槽(22)的下方；至少两个UV灯(231)分布在所述灯板(232)上；还包括至少两个灯罩(234)；在所述清洗槽(22)上开设有至少两个用于与所述灯罩(234)配合的通孔；所述UV灯(231)发出的光线被配置为穿过所述灯罩(234)照射在所述滚刷(13)的至少部分表面。4.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，所述灯罩(234)的外部端面与所述清洗槽(22)的内壁齐平。5.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，沿X轴方向间隔排布的相邻两个所述UV灯(231)的发光角度交叉点位于所述滚刷(13)对应表面的外侧或者，沿X轴方向间隔排布的相邻两个所述UV灯的发光角度交叉点位于所述滚刷的对应表面。6.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的槽底(221)，或者是，所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的前槽壁(222)，或者是，所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的后槽壁(223)。7.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述UV灯(231)的发光角度被配置：所述UV灯(231)发出的照射在所述滚刷(13)表面之外的光线被配置为被地刷壳体(12)遮挡或者被清洗槽(22)遮挡。8.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：晁福，周春锋，刘咏海，周德化，
申请(专利权)人：添可智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：