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本公开涉及一种清洁系统、基站及清洁系统的控制方法。其中，清洁系统，包括：清洁设备，所述清洁设备包括地刷组件，所述地刷组件包括地刷壳体，以及设置在所述地刷壳体前侧边缘的滚刷；基站，所述基站被构造为用于放置所述清洁设备；所述基站的底座上设置清洗...
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