CVD配气接头组件安装用轨道托盘制造技术

本实用新型专利技术公开了CVD配气接头组件安装用轨道托盘，涉及小型的CVD(气相沉积)系统技术领域，解决现有不能更换和安装不同长度反应管道的技术问题，包括第一配气接头组件和第二配气接头组件，所述第一配气接头组件和所述第二配气接头组件之间可拆卸连接有反应管，所述反应管的下方两侧均设置有直线圆柱导轨，两个所述直线圆柱导轨上设置有沿所述直线圆柱导轨来回移动的托板盘，每个所述托板盘的上部均设置有至少一个用于支撑对应配气接头组件的支撑限位机构；本实用新型专利技术可根据不同的反应管的长度调节两个托板盘上相靠近的支撑限位机构之间的间距，方便根据不同反应管的长度调节和安装。安装。安装。

Rail tray for CVD valve adapter assembly installation

【技术实现步骤摘要】
CVD配气接头组件安装用轨道托盘


[0001]本技术涉及小型的CVD(气相沉积)系统
，更具体的是涉及CVD(气相沉积)接头安装


技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。对于小型的CVD(气相沉积)系统，一般是通过一个进气口充入一种或几种气体，然后气体穿过石英管的时候将材料蒸汽或者裹挟的粉尘带到目标基体上去。
[0003]对于小型的CVD(气相沉积)系统，会有一些多次更换石英管的需求，现有的更换支撑件不能更换和安装不同长度反应管道；其次，现有的石英管与标准件按需搭配，存在结构冗大，无用结构太多，送样不平稳；再者，现有技术粉末和基材是要从石英管端口进入石英管正中间，进样和出样时，需要不停的将进气组件和出气组件从石英管上拆卸下来，每次更换对于非专业人士，如果每次拆卸石英管，石英管就会很容易损坏；此外，现有的反应管道不能被快速降温。
技术内容
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.CVD配气接头组件安装用轨道托盘，包括第一配气接头组件(22)和第二配气接头组件(20)，其特征在于，所述第一配气接头组件(22)和所述第二配气接头组件(20)之间可拆卸连接有反应管(3)，所述反应管(3)的下方两侧均设置有直线圆柱导轨(17)，两个所述直线圆柱导轨(17)端部之间均设置有固定板(24)，两个所述直线圆柱导轨(17)上设置有沿所述直线圆柱导轨(17)来回移动的托板盘(30)，每个所述托板盘(30)的上部均设置有至少一个用于支撑对应配气接头组件的支撑限位机构。2.根据权利要求1所述的CVD配气接头组件安装用轨道托盘，其特征在于，每个所述直线圆柱导轨(17)的底部设置有凸型底座(16)，两个所述底座(16)的端部之间均设置有固定板(24)。3.根据权利要求1所述的CVD配气接头组件安装用轨道托盘，其特征在于，所述第一配气接头组件(22)包括位于所述反应管(3)一端可拆卸的第一配气管(7)，与所述第一配气管(7)连通的一个或两个压力传感器接口(5)及与所述第一配气管(7)连通的一个或两个抽气口(4)；所述第二配气接头组件(20)包括位于所述反应管(3)另一端可拆卸的第二配气管(8)及与所述第二配气管(8)连通的进气法兰口(2)和备用法兰口(6)，所述第一配气管(7)和所述第二配气管(8)的内径均与所述反应管(3)的内径相同，且所述第一配气管(7)、所述反应管(3)和所述第二配气管(8)的水平中心轴位于同一直线上。4.根据权利要求3所述的CVD配气接头组件安装用轨道托盘，其特征在于，每个托板盘(30)上均设置有两个支撑限位机构，每个所述支撑限位机构包括支撑板(18)，位于支撑板(18)上部可拆卸的压板(19)，位于支撑板(18)上部中间的第一凹槽及位于所述压板(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：冉锐，
申请(专利权)人：四川景恒科技有限公司，
类型：新型
国别省市：