【技术实现步骤摘要】
热源的喷淋散热装置
[0001]本技术涉及半导体芯片电子散热的
,尤其是涉及一种热源的喷淋散热装置。
技术介绍
[0002]随着现代半导体制造工艺与微纳技术的不断发展与进步,电子芯片尺寸不断减小,而芯片上的而集成度不断提高,带来芯片上功率密度的急剧增加。高性能芯片的热流密度甚至已经超过100W/cm2,激光武器微系统芯片甚至超过500W/cm2。半导体芯片的结温一般要求在100℃以下,同时工作中温度每上升1℃,可靠性降低25%,若不采取有效的热控制散热技术,将严重影响其工作可靠性,芯片的热问题已经成提高芯片集成度,保证芯片可靠工作的主要瓶颈之一。
[0003]喷淋式冷却是一种高效率的冷却方式。在冷却过程中,直接将工质喷淋到热源表面或热源结构板,雾化工质被喷出时,在热源的结构板表面形成一层非常薄的液膜,依靠液膜的迅速蒸发吸热,将热量侧板的热量高效率带走,具有冷却换热能力强、响应快、效率高的特点。
[0004]但是喷淋式冷却的工质一般不能直接喷在发热芯片,否则极容易导致短路等问题。因此实际应用都是通过一层间 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种热源的喷淋散热装置,其特征在于,包括热源吸收结构(1)、蒸发换热结构(2)和散热结构(3),所述热源吸收结构(1)与散热结构(3)连接,且二者之间形成有腔体;所述热源吸收结构(1)用于吸收外部热源的热量;所述蒸发换热结构(2)设于所述腔体内,且所述蒸发换热结构(2)用于吸收所述热源吸收结构(1)的热量;所述散热结构(3)用于承接外部喷淋装置喷淋的冷介质并吸收所述蒸发换热结构(2)的热量。2.根据权利要求1所述的热源的喷淋散热装置,其特征在于,所述蒸发换热结构(2)包括芯体组件(21),所述芯体组件(21)设于所述腔体内;所述芯体组件(21)内形成有蒸发回流腔(22),所述蒸发回流腔(22)内设有工质;所述工质用于吸收所述热源吸收结构(1)的热量气化散热以及遇所述散热结构(3)降温液化吸热。3.根据权利要求2所述的热源的喷淋散热装置,其特征在于,所述芯体组件(21)设为多个,且多个所述芯体组件(21)在所述腔体内矩阵排列。4.根据权利要求3所述的热源的喷淋散热装置,其特征在于,所述芯体组件(21)包括蒸发芯(211)和回流芯(212);所述蒸发芯(211)设于所述腔体内靠近所述热源吸收结构(1)的一侧,所述蒸发芯(211)与所述回流芯(212)连接;所述回流芯(212)设于所述腔体内靠近所述散热结构(3)的一侧,且所述回流芯(212)围设有所述蒸发回流腔(22),所述回流芯(212)用于将液化后的所述工质导向所述蒸发芯(211)。5.根据权利要求4所述的热源的喷...
【专利技术属性】
技术研发人员:ꢀ七四专利代理机构,
申请(专利权)人:上海博创空间热能技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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