磨轮的表面镀膜方法技术

本发明专利技术涉及磨轮表面处理技术领域，公开了一种磨轮的表面镀膜方法，包括：将磨轮放置在处理室内；对所述处理室进行抽真空处理，使得所述处理室内的真空度达到第一预设真空度；通入氩气，使得所述处理室内的真空度达到第二预设真空度；对石墨靶源进行离子溅射处理，使得所述石墨靶源上溅射出的碳原子沉积到所述磨轮的表面，形成DLC膜。采用本发明专利技术实施例，能够在磨轮表面镀上DLC膜，以增加磨轮的表面硬度，减小加工过程中的摩擦磨损，从而有效延长磨轮的使用寿命。的使用寿命。的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
磨轮的表面镀膜方法


[0001]本专利技术涉及磨轮表面处理
，特别是涉及一种磨轮的表面镀膜方法。

技术介绍

[0002]电子行业中，往往需要用磨轮对半导体进行切割，使之从长型条的状态变为独立的半导体元件。但是，传统的磨轮的耐磨性能较差，使用寿命较短。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例的目的是提供一种磨轮的表面镀膜方法，能够在磨轮表面镀上DLC(Diamond
‑
like carbon，类金刚石)膜，以增加磨轮的表面硬度，减小加工过程中的摩擦磨损，从而有效延长磨轮的使用寿命。
[0004]为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种磨轮的表面镀膜方法，包括：
[0005]将磨轮放置在处理室内；
[0006]对所述处理室进行抽真空处理，使得所述处理室内的真空度达到第一预设真空度；
[0007]通入氩气，使得所述处理室内的真空度达到第二预设真空度；
[0008]对石墨靶源进行离子溅射处理，使得所述石墨靶源上溅射出的碳原子沉积到所述磨轮的表面，形成DLC膜。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磨轮的表面镀膜方法，其特征在于，包括：将磨轮放置在处理室内；对所述处理室进行抽真空处理，使得所述处理室内的真空度达到第一预设真空度；通入氩气，使得所述处理室内的真空度达到第二预设真空度；对石墨靶源进行离子溅射处理，使得所述石墨靶源上溅射出的碳原子沉积到所述磨轮的表面，形成DLC膜。2.如权利要求1所述的磨轮的表面镀膜方法，其特征在于，所述第一预设真空度为8.0*10
‑3Pa。3.如权利要求1所述的磨轮的表面镀膜方法，其特征在于，所述第二预设真空度为5Pa。4.如权利要求1所述的磨轮的表面镀膜方法，其特征在于，在所述通入氩气，使得所述处理室内的真空度达到第二预设真空度之前，还包括步骤：对所述处理室进行加热处理，使得所述处理室内的温度达到预设温度，并对所述处理室进行抽真空处理，使得所述处理室内的真空度维持在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：何小麟，
申请(专利权)人：东莞新科技术研究开发有限公司，
类型：发明
国别省市：