一种LCD靶材侧边的抛光处理方法技术

本发明专利技术提供了一种LCD靶材侧边的抛光处理方法，所述LCD靶材侧边的抛光处理方法包括以下步骤：采用植绒砂纸片对LCD靶材的侧边进行抛光处理，以形成抛光面；所述植绒砂纸片的工作面上涂有IPA液。本发明专利技术提供的LCD靶材侧边的抛光处理方法通过将IPA液涂在植绒砂纸片上，对LCD靶材的周边进行抛光处理，可以将LCD靶材侧边的异物与非靶材一体物质去除，抛光后的粗糙度为0.01

A polishing method for the side of LCD target

【技术实现步骤摘要】
一种LCD靶材侧边的抛光处理方法


[0001]本专利技术属于半导体制造
，涉及一种抛光方法，尤其涉及一种LCD靶材侧边的抛光处理方法。

技术介绍

[0002]溅射靶材是半导体集成电路制备过程中重要的原材料之一，主要用于集成电路中接触、通孔、互连线、阻挡层、封装等物理气相沉积薄膜的制备。在磁控溅射过程中，利用加速离子轰击靶材表面使得靶材原子沉积在基底表面，从而形成沉积薄膜。
[0003]磁控溅射过程中所使用靶材的质量是影响磁控溅射镀膜质量的关键因素之一。所以对于溅射靶材的质量要求高于传统材料行业的质量要求。溅射靶材的一般质量要求主要包括对于尺寸、平整度、纯度、成分含量、密度，晶粒尺寸与缺陷控制等方面的要求；此外，在面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成分与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等方面，溅射靶材具有更高的质量要求或者特殊的质量要求。因此，需在车削之后进行进一步的抛光，才能使其达到使用要求。
[0004]目前LCD靶材的主面上的杂质、异物主要通过抛光机进行抛光去除，但是，LCD靶材的侧面的异物、氧化物、非靶材一体物质的去除，一般现有抛光方法使用手工砂纸或气动抛光机，砂纸抛光铜锈难去除，效率低，直接用砂纸或气动抛光机抛光，每枚产品在线加工时间3小时左右，且粗糙度不稳定，波动性大，导致品质不稳定，难以满足当前生产总量及品质需求。
[0005]CN 113021125A提供了一种钛靶材溅射面的处理方法，所述钛靶材溅射面的处理方法包括依次进行的砂纸处理、百洁布处理和羊毛轮处理；砂纸处理包括依次进行的320#砂纸处理和600#砂纸处理；百洁布处理包括依次进行的1200#百洁布处理和2000#百洁布处理；羊毛轮处理包括依次进行的羊毛轮+金刚石研磨膏W10处理、羊毛轮+金刚石研磨膏W3.5处理和羊毛轮+金刚石研磨膏W1.5处理；砂纸处理的时间为8
‑
10min；百洁布处理的时间为2
‑
4min；羊毛轮处理的时间为8
‑
11min。
[0006]CN 112828541A公开了一种钽靶材及其溅射面的处理方法，该处理方法包括先后进行的车削与抛光；所述车削为采用刀片沿钽靶材的直径方向从边缘向中心进刀；所述车削包括先后进行的粗车削与精车削，且粗车削与精车削的过程中吃刀量保持恒定；所述精车削包括8
‑
12刀车削，且精车削的留余量为0.3
‑
0.6mm；所述抛光为先采用砂纸，再采用百洁布对钽靶材的车削面进行抛光处理。
[0007]CN 112809455A公开了一种钨硅靶材及其溅射面的抛光方法，该抛光方法包括往返进行的第一水磨抛光、第二水磨抛光与第三水磨抛光；所述往返的次数为15
‑
25次；所述第一水磨抛光、第二水磨抛光与第三水磨抛光的靶材运行速度分别独立地为0.1
‑
0.3m/s，且分别独立地采用水磨砂带进行；所述水磨砂带的转速为10
‑
30r/min，规格包括600#白刚玉砂带或800#白刚玉砂带；所述第一水磨抛光、第二水磨抛光与第三水磨抛光的过程中分别独立地伴随着冷却水冲刷靶材溅射面；所述冷却水的冲刷速率为600
‑
800mL/min，温度为
5
‑
25℃。
[0008]上述抛光方法虽能使溅射面粗糙度达到使用要求，但并未对靶材的侧边进行抛光处理，且抛光工艺只适用于特定材料的靶材。
[0009]CN 113400104A公开了一种铜靶材侧边的抛光方法，所述铜靶材侧边的抛光方法包括以下步骤：采用手持抛光设备对铜靶材的侧边进行半自动抛光处理；所述半自动抛光处理包括三道抛光工序，依次为第一道抛光工序、第二道抛光工序和第三道抛光工序；每一道抛光工序的给进速度依次递减。该抛光方法虽然公开了对侧边的抛光处理，但是并没有解决靶材在溅射过程中对侧边残留胶的处理，且所述抛光工艺仅适用于铜靶材。
[0010]由此可见，如何提供一种LCD靶材侧边的抛光处理方法，彻底、简单的去除靶材因溅射形成的残留胶，从而避免靶材质量的不利影响，成为了目前本领域技术人员迫切需要解决的问题。

技术实现思路

[0011]针对现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种LCD靶材侧边的抛光处理方法，对所述LCD靶材侧边进行抛光处理可以将LCD靶材侧边的异物与非靶材一体物质去除，提高了靶材的周转率，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率提高。
[0012]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0013]本专利技术提供了一种LCD靶材侧边的抛光处理方法，所述LCD靶材侧边的抛光处理方法包括以下步骤：
[0014]采用植绒砂纸片对LCD靶材的侧边进行抛光处理，以形成抛光面；
[0015]所述植绒砂纸片的工作面上涂有IPA液。
[0016]所述LCD靶材的侧边还包括侧边倒角。
[0017]本专利技术通过将IPA液涂在植绒砂纸片上，对LCD靶材的周边进行抛光处理，可以将LCD靶材侧边的异物与非靶材一体物质去除，提高了靶材的周转率，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率提高至96％。
[0018]优选地，所述抛光处理之前还包括将LCD靶材与背板进行焊接处理。
[0019]优选地，所述背板包括不锈钢背板。
[0020]优选地，所述焊接处理的温度为275
‑
285℃，例如可以是275℃、276℃、277℃、278℃、279℃、280℃、281℃、282℃、283℃、284℃或285℃，但不限于所列举的数值，数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0021]优选地，所述焊接的时间为25
‑
35min，例如可以是25min、26min、27min、28min、29min、30min、31min、32min、33min、34min或35min，但不限于所列举的数值，数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0022]优选地，所述IPA液的用量为50
‑
70mL，例如可以是50mL、52mL、54mL、56mL、58mL、60mL62 mL、64mL、66mL、68mL或70mL，但不限于所列举的数值，数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0023]优选地，所述植绒砂纸片的面积为10
‑
20cm2，例如可以是10cm2、12cm2、14cm2、16cm2、18cm2或20cm2，但不限于所列举的数值，数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0024]优选地，所述IPA液分批次涂于植绒砂纸片的工作面上使用。
[0025]优选地，所述IPA液分2
‑
5次涂于植绒砂纸片的工作面上使用。
[0026]本专利技术将IPA液分批次涂于植绒砂纸片上使用，可以使得抛光效果更佳。
[0027本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LCD靶材侧边的抛光处理方法，其特征在于，所述LCD靶材侧边的抛光处理方法包括以下步骤：采用植绒砂纸片对LCD靶材的侧边进行抛光处理，以形成抛光面；所述植绒砂纸片的工作面上涂有IPA液。2.根据权利要求1所述的LCD靶材侧边的抛光处理方法，其特征在于，所述抛光处理之前还包括将LCD靶材与背板进行焊接处理；优选地，所述背板包括不锈钢背板。3.根据权利要求2所述的LCD靶材侧边的抛光处理方法，其特征在于，所述焊接处理的温度为275
‑
285℃；优选地，所述焊接的时间为25
‑
35min。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的LCD靶材侧边的抛光处理方法，其特征在于，所述IPA液的用量为50
‑
70mL；优选地，所述植绒砂纸片的面积为10
‑
20cm2；优选地，所述IPA液分批次涂于植绒砂纸片的工作面上使用；优选地，所述IPA液分2
‑
5次涂于植绒砂纸片的工作面上使用。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的LCD靶材侧边的抛光处理方法，其特征在于，所述植绒砂纸片工作面的耐磨材料包括棕刚玉；优选地，所述植绒砂纸片的规格为120
‑
1500#。6.根据权利要求1
‑
5任一项所述的LCD靶材侧边的抛光处理方法，其特征在于，所述植绒砂纸片与所述LCD靶材的侧边之间的压力为10
‑
100N。7.根据权利要求1
...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，赵丽，张晓驰，范文新，周伟君，
申请(专利权)人：广东江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：